chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

EUV光刻設(shè)備很好賣

汽車玩家 ? 來源:今日頭條 ? 作者:今日頭條 ? 2019-11-26 15:06 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

11月25日,市場研究公司總裁羅伯特·卡斯特拉諾(Robert Castellano)表示:“過去三年來,應(yīng)用材料一直在晶圓制造前段工序(WFE)的設(shè)備市場上失去市場份額,而 ASML卻將憑借其價格高昂的EUV光刻設(shè)備大批出貨實現(xiàn)超越,取代應(yīng)用材料成為最大的半導體設(shè)備公司?!?/p>

據(jù)了解,應(yīng)用材料在2018年的市場份額為19.2%(低于2015年的23.0%),今年小幅增長到了19.4%。而ASML的市場份額今年有望從2018年的18.0%增長到21.6%。

卡斯特拉諾還表示,到2020年,整個WFE市場將迎來5%的小幅增長,再加上半導體制造商原先計劃的資本支出,ASML的市場份額有望進一步提高到22.8%,而應(yīng)用材料將保持其19.3%的份額。

根據(jù)集微網(wǎng)此前報道,ASML稱,第3季度售出了7套EUV系統(tǒng),僅EUV設(shè)備就帶來了7.43億歐元的營收。另外,第3季度還接到了23套EUV系統(tǒng)的訂單。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 晶圓
    +關(guān)注

    關(guān)注

    53

    文章

    5353

    瀏覽量

    131811
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    614

    瀏覽量

    88581
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    中國打造自己的EUV光刻膠標準!

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)芯片,一直被譽為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設(shè)備光刻機就是 雕刻這個結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機還不夠,還需要光刻
    的頭像 發(fā)表于 10-28 08:53 ?6039次閱讀

    俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    了全球 EUV 光刻設(shè)備市場,成為各國晶圓廠邁向 7nm、5nm 乃至更先進制程繞不開的 “守門人”。然而,近日俄羅斯科學院微結(jié)構(gòu)物理研究所公布的一份國產(chǎn) EUV
    的頭像 發(fā)表于 10-04 03:18 ?9531次閱讀
    俄羅斯亮劍:公布<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>機路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    白光干涉儀在EUV光刻后的3D輪廓測量

    EUV(極紫外)光刻技術(shù)憑借 13.5nm 的短波長,成為 7nm 及以下節(jié)點集成電路制造的核心工藝,其光刻后形成的三維圖形(如鰭片、柵極、接觸孔等)尺寸通常在 5-50nm 范圍,高度 50-500nm。
    的頭像 發(fā)表于 09-20 09:16 ?567次閱讀

    EUV光刻膠材料取得重要進展

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 隨著集成電路工藝的不斷突破, 當制程節(jié)點持續(xù)向7nm及以下邁進,傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已難以滿足高精度、高密度的制造需求,此時,波長13.5nm的極紫外(EUV光刻技術(shù)逐漸成為支撐
    的頭像 發(fā)表于 08-17 00:03 ?4117次閱讀

    中科院微電子所突破 EUV 光刻技術(shù)瓶頸

    極紫外光刻(EUVL)技術(shù)作為實現(xiàn)先進工藝制程的關(guān)鍵路徑,在半導體制造領(lǐng)域占據(jù)著舉足輕重的地位。當前,LPP-EUV 光源是極紫外光刻機所采用的主流光源,其工作原理是利用波長為 10.6um 的紅外
    的頭像 發(fā)表于 07-22 17:20 ?878次閱讀
    中科院微電子所突破 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)瓶頸

    改善光刻圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    的應(yīng)用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量,可避免因曝光過度導致光刻膠過度反應(yīng),使線寬變寬;或曝光不足造成線寬變窄。采用先進的曝光
    的頭像 發(fā)表于 06-30 15:24 ?662次閱讀
    改善<b class='flag-5'>光刻</b>圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    詳談X射線光刻技術(shù)

    隨著極紫外光刻EUV)技術(shù)面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn),X射線光刻技術(shù)憑借其固有優(yōu)勢,在特定領(lǐng)域正形成差異化競爭格局。
    的頭像 發(fā)表于 05-09 10:08 ?1306次閱讀
    詳談X射線<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)

    光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件免費試用

    光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進行掩模版加工制造,在掩膜加工領(lǐng)域或者無掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺,在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
    發(fā)表于 05-02 12:42

    DSA技術(shù):突破EUV光刻瓶頸的革命性解決方案

    劑量的需求也加劇,從而造成了生產(chǎn)力的瓶頸。DSA技術(shù):一種革命性的方法DSA技術(shù)通過利用嵌段共聚物的分子行為來解決EUV光刻面臨的挑戰(zhàn)。嵌段共聚物由兩個或多個化學性
    的頭像 發(fā)表于 03-19 11:10 ?1191次閱讀
    DSA技術(shù):突破<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>瓶頸的革命性解決方案

    EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    ? EUV光刻有多強?目前來看,沒有EUV光刻,業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻
    的頭像 發(fā)表于 02-18 09:31 ?2073次閱讀
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    碳納米管在EUV光刻效率中的作用

    數(shù)值孔徑 EUV 光刻中的微型化挑戰(zhàn) 晶體管不斷小型化,縮小至 3 納米及以下,這需要完美的執(zhí)行和制造。在整個 21 世紀,這種令人難以置信的縮小趨勢(從 90 納米到 7 納米及更?。╅_創(chuàng)了技術(shù)進步的新時代。 在過去十年中,我們見證了將50
    的頭像 發(fā)表于 01-22 14:06 ?1080次閱讀
    碳納米管在<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>效率中的作用

    光刻機的分類與原理

    本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?6019次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻</b>機的分類與原理

    納米壓印光刻技術(shù)旨在與極紫外光刻EUV)競爭

    芯片制造、價值1.5億美元的極紫外(EUV,https://spectrum.ieee.org/tag/euv光刻掃描
    的頭像 發(fā)表于 01-09 11:31 ?1218次閱讀

    泊蘇 Type C 系列防震基座在半導體光刻加工電子束光刻設(shè)備的應(yīng)用案例-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司

    某大型半導體制造企業(yè)專注于高端芯片的研發(fā)與生產(chǎn),其電子束光刻設(shè)備在芯片制造的光刻工藝中起著關(guān)鍵作用。然而,企業(yè)所在園區(qū)周邊存在眾多工廠,日常生產(chǎn)活動產(chǎn)生復雜的振動源,包括重型機械運轉(zhuǎn)、車輛行駛以及建筑物內(nèi)部的機電
    的頭像 發(fā)表于 01-07 15:13 ?1266次閱讀
    泊蘇 Type C 系列防震基座在半導體<b class='flag-5'>光刻</b>加工電子束<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>設(shè)備</b>的應(yīng)用案例-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司

    組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?4331次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻</b>機的各個分系統(tǒng)介紹