在工藝制程方面，臺積電的進度明顯要快于英特爾。其實在2017年的時候，英特爾就指出臺積電7nm并非真實的7nm。而且英特爾呼吁行業(yè)應該統(tǒng)一命名標準，防止命名混亂。英特爾更希望以晶體管密度作為衡量標準。

如果按照晶體管密度的話，英特爾的10nm工藝要優(yōu)于臺積電的7nm。這也是英特爾呼吁建立統(tǒng)一標準的原因。英特爾給出的具體建議是，以邏輯晶體管密度作為指標，同時也加入掃描觸發(fā)器、NAND2密度和SRAM單元規(guī)模。

制程工藝

臺積電對此的回應是，其實從350nm開始，工藝中的數(shù)字就已經(jīng)不代表物理尺度了，其實也算是承認7nm工藝并非真的7nm。7nm或者N7只是行業(yè)標準話術而已，后續(xù)的5nm或者N5也是如此。