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新一代的DRAM將面臨哪些挑戰(zhàn)?

我快閉嘴 ? 來源:愛集微 ? 作者:JZ ? 2020-12-14 11:33 ? 次閱讀
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10月6日,全球首款DDR5 DRAM正式由SK海力士推出。這款次世代的存儲(chǔ)器將數(shù)據(jù)傳輸速率提升到4,800 ~ 5,600Mbps,比前一代DDR4增加了1.8倍。最大5,600Mbps的傳輸速率意味著能夠在1秒內(nèi)傳輸九部全高清(Full-HD, FHD)電影。同時(shí),該產(chǎn)品的工作電壓由前一代的1.2V降到了1.1V,將功耗降低了20%。

與同門師弟LPDDR5發(fā)售時(shí)的萬人追捧不同,DDR5的問世似乎沒有激起很大的浪花。然則平靜之下,是生態(tài)鏈廠商的摩拳擦掌,未來的存儲(chǔ)器之爭會(huì)更加殘酷。

DRAM的新飛躍

從提出到標(biāo)準(zhǔn)落地,DDR5用了2年時(shí)間。JEDEC(電子器件工程聯(lián)合會(huì))希望最新的標(biāo)準(zhǔn)繼續(xù)站在時(shí)代之巔,所有內(nèi)存密度和讀寫速度都要比DDR4增加一倍。

因?yàn)?a href="http://m.brongaenegriffin.com/v/tag/1225/" target="_blank">5G人工智能引發(fā)的數(shù)據(jù)海嘯正撲面而來,CPU的核心也急劇增加,服務(wù)器處理器已經(jīng)從4核增加到64核,新一代的DRAM面臨著更多的挑戰(zhàn)。

從DDR4到DDR5,在技術(shù)上是一個(gè)巨大的飛躍。從原理上來看,DDR5是一種高速動(dòng)態(tài)隨機(jī)存儲(chǔ)器,由于其DDR的性質(zhì),依舊可以在系統(tǒng)時(shí)鐘的上升沿和下降沿同時(shí)進(jìn)行數(shù)據(jù)傳輸。和DDR4一樣,DDR5在內(nèi)部設(shè)計(jì)了Bank(數(shù)據(jù)塊)和Bank Group(數(shù)據(jù)組)。不過,DDR5在數(shù)據(jù)塊和數(shù)據(jù)組的配置上更為寬裕。

DDR4數(shù)據(jù)組的數(shù)量最高限制為4組,一般采用2組配置。在DDR5上,數(shù)據(jù)組的數(shù)量可以選擇2組、4組到最高8組的設(shè)計(jì),以適應(yīng)不同用戶的不同需求,并且還可以保證Bank數(shù)據(jù)塊的數(shù)量不變。

其次,DDR5的突發(fā)長度(burst length, 簡稱 BL)由2增至16,超過DDR4的8,這是實(shí)現(xiàn)內(nèi)存訪問可用性雙倍增長的另一大重要特性。

第三,DDR4在刷新期間不能進(jìn)行其他操作。DDR5具備同庫刷新功能,允許系統(tǒng)在當(dāng)前內(nèi)存庫操作期間訪問其它內(nèi)存庫,進(jìn)而提高了內(nèi)存訪問可用性。

DDR5在提高可擴(kuò)展性方面還有兩個(gè)特性:經(jīng)過優(yōu)化的 DRAM 核心計(jì)時(shí)和晶片內(nèi)糾錯(cuò)碼。首先,雖然內(nèi)存架構(gòu)逐年擴(kuò)展,但它的代價(jià)是 DRAM 單元電容的下降和位線接觸電阻的增加。DDR5 解決了這些缺點(diǎn),并允許通過優(yōu)化的核心計(jì)時(shí)進(jìn)行更可靠的擴(kuò)展,這對于確保有足夠的時(shí)間在 DRAM 單元中寫入、存儲(chǔ)和檢測電荷至關(guān)重要。

另外,晶片內(nèi)糾錯(cuò)碼 (ECC) 通過輸出數(shù)據(jù)之前在讀取命令期間執(zhí)行更正,提高了數(shù)據(jù)完整性并減少了系統(tǒng)糾錯(cuò)負(fù)擔(dān)。DDR5 還引入了錯(cuò)誤檢查清理,其中 DRAM 將在發(fā)生錯(cuò)誤時(shí)讀取內(nèi)部數(shù)據(jù)并寫回已更正的數(shù)據(jù)。

存儲(chǔ)器三巨頭在DDR5上可謂是你追我趕。在2018年,三星和海力士宣布開發(fā)DDR5成功。美光則和EDA大廠Cadence開始聯(lián)合研發(fā)DDR5。

進(jìn)入2020年,美光科技宣布基于1Znm制程技術(shù)的DDR5 RDIMM已開始送樣。三星宣布在2021開始量產(chǎn)DDR5。而SK海力士這次搶到了頭名,推出了首款DDR5產(chǎn)品。該產(chǎn)品為面向服務(wù)器、數(shù)據(jù)中心的RDIMM形態(tài),基于1Ynm工藝制造的16Gb顆粒,單條容量64GB。而借助TSV硅穿孔技術(shù),SK海力士期望將單條容量提升到256GB。

供應(yīng)鏈已做好準(zhǔn)備,只待CPU就位

IDC市場調(diào)查顯示, 對于DDR5內(nèi)存需求將從 2020年開始增長, 預(yù)計(jì)到2021年為止將占DRAM總市場的25%。這一市場份額將逐步提升, 并在2022年達(dá)到44%。

記者詢問了國內(nèi)多家服務(wù)器廠商,想知道何時(shí)能推出DDR5的產(chǎn)品,得到的答案是最早在明年?!斑@個(gè)主要看是要看芯片廠商的支持。”一位業(yè)內(nèi)人士表示。

DRAM是系統(tǒng)中存儲(chǔ)/存儲(chǔ)層次結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵部分。在層次結(jié)構(gòu)的第一層中,SRAM被集成到CPU中以實(shí)現(xiàn)快速數(shù)據(jù)訪問,DRAM被用于主存儲(chǔ)器。所以,DDR5的使用必須要得到CPU的支持。

考慮到生產(chǎn)成本,服務(wù)器產(chǎn)品對存有溢價(jià)的DDR5產(chǎn)品接納度較高。作為占據(jù)服務(wù)器CPU整體出貨量90%以上的Intel,有較快的平臺(tái)導(dǎo)入規(guī)劃。預(yù)計(jì)其服務(wù)器平臺(tái)Eagle Stream會(huì)開始正式采用DDR5,預(yù)計(jì)2021下半年度開始做小批量的生產(chǎn)。

AMD即將問世的Milan平臺(tái)仍沿用當(dāng)前主流解決方案DDR4,預(yù)計(jì)下一代Genoa平臺(tái)會(huì)有導(dǎo)入DDR5的規(guī)格,不過該平臺(tái)量產(chǎn)時(shí)間約為2022年,若要正式搭載DDR5,AMD的服務(wù)器存儲(chǔ)器解決方案最快2023年才會(huì)問世。

ARM陣營方面,來自法國的初創(chuàng)公司SiPearl剛公布了代號“Rhea”(美洲鴕鳥)的處理器產(chǎn)品,采用臺(tái)積電7nm工藝制造,集成多達(dá)72個(gè)CPU核心,Mesh網(wǎng)格式布局,支持4-6個(gè)通道的DDR5內(nèi)存控制器。其發(fā)布時(shí)間定在2021年,因此對DDR5的導(dǎo)入也不會(huì)早于這個(gè)時(shí)間。

PC方面由于受制于BOM總成本,對新一代存儲(chǔ)器的規(guī)劃要到2022年才能落實(shí),這意味著DDR5在今、明兩年都僅停留在產(chǎn)品開發(fā)與驗(yàn)證階段。

據(jù)稱,英特爾 12 代酷睿 Alder Lake (ADL)混合架構(gòu)處理器會(huì)支持DDR5,但最早也要到2021年Q3。AMD的Zen4已經(jīng)規(guī)劃了對DDR5的支持,發(fā)布時(shí)間也在2021年。DDR5要全面在PC上普及,看來至少還需要2年的時(shí)間。

不過,供應(yīng)鏈相關(guān)廠商都已做好了準(zhǔn)備,如新思科技(Synopsys),瑞薩(Renesas),瀾起科技(Montage Technology),Rambus都開始推出相關(guān)產(chǎn)品和解決方案。

這里要特別提到瀾起科技,這是國內(nèi)打入DRAM核心生態(tài)圈的唯一廠商,是全球可提供從DDR2到DDR4內(nèi)存全緩沖/半緩沖完整解決方案的主要供應(yīng)商之一

2019年瀾起科技已完成符合JEDEC標(biāo)準(zhǔn)的DDR5第一代RCD及DB芯片工程樣片的流片,這些工程樣片于2019年下半年送樣給瀾起科技主要客戶和合作伙伴進(jìn)行測試評估,瀾起科技計(jì)劃在2020年完成DDR5第一代內(nèi)存接口及其配套芯片量產(chǎn)版本芯片的研發(fā),實(shí)際量產(chǎn)時(shí)間取決于服務(wù)器生態(tài)的成熟度。

未來的決戰(zhàn)要看EUV

了解DRAM演進(jìn)歷史的人都知道,工藝的競爭是永恒的旋律。

在進(jìn)入20nm節(jié)點(diǎn)以后,三大供應(yīng)商們希望通過三代工藝去制造DRAM,這就是1Xnm,1Ynm和1Znm。簡單來說,1Xnm處于16nm和19nm之間,1Ynm規(guī)定在14nm到16nm,1Znm規(guī)定在12nm到14nm。

2019年,DRAM工藝普遍進(jìn)入到1Znm,接近10nm工藝節(jié)點(diǎn),廠商們面臨是否選擇EUV的問題。

從當(dāng)前的局面來看,風(fēng)格激進(jìn)的韓國雙雄(三星、SK海力士)已經(jīng)將EUV的進(jìn)入作為改進(jìn)產(chǎn)品的主要手段。

據(jù)韓國科技媒體ETNews報(bào)道,三星電子全新半導(dǎo)體工廠“平澤2號”(P2)已于今年8月開始運(yùn)營,這座當(dāng)前世界上最大的半導(dǎo)體工廠(128900平方米,占地面積相當(dāng)于18個(gè)足球場)將生產(chǎn)全球首個(gè)基于EUV的移動(dòng)DRAM產(chǎn)品。

2020年3月,三星成功開發(fā)了基于EUV光刻技術(shù)的第四代10納米級(1a)DRAM。三星還計(jì)劃在2020年下半年引入EUV光刻設(shè)備,量產(chǎn)第四代10納米級(1a)16Gb LPDDR5 DRAM。

三星估計(jì),使用EUV工藝生產(chǎn)DDR5內(nèi)存,其12英寸D1a晶圓的生產(chǎn)效率會(huì)比舊有的D1x工藝的生產(chǎn)力提升一倍。

SK海力士將在其下一代DRAM的生產(chǎn)基地M16芯片廠批量生產(chǎn)EUV DRAM,目前已經(jīng)在園區(qū)內(nèi)安裝了兩臺(tái)EUV光刻機(jī)。一旦M16工廠的建設(shè)按計(jì)劃在今年年底完成,SK海力士將開始在M16工廠建造與EUV光刻相關(guān)的必要設(shè)施和設(shè)備。據(jù)了解,SK海力士準(zhǔn)備將EUV導(dǎo)入1anm級DRAM的量產(chǎn)中。

相比之下,美光顯得比較謹(jǐn)慎。不過,由于同行的激進(jìn)作風(fēng),美光也在評估EUV的導(dǎo)入時(shí)間節(jié)點(diǎn)。

隨著制程工藝的提升,節(jié)點(diǎn)的進(jìn)一步微縮,EUV的性能和成本正在不斷優(yōu)化,DRAM將迎來EUV時(shí)代只是早晚的問題。

不過光刻機(jī)廠商ASML估計(jì),在DRAM芯片制造方面,每月每啟動(dòng)100,000個(gè)晶圓制造項(xiàng)目,一層就需要1.5到2個(gè)EUV系統(tǒng),因此,DRAM制造商需要考慮根據(jù)容量和產(chǎn)能來規(guī)劃相關(guān)設(shè)備。

以EUV的引入來實(shí)現(xiàn)技術(shù)上的領(lǐng)先,對存儲(chǔ)器廠商來說也是無可厚非??紤]到DRAM產(chǎn)品的同質(zhì)性,通過引入更高制程來獲得性能差異,從而獲得市占率,是一條已經(jīng)驗(yàn)證過無數(shù)次的絕招。只是這樣將促使行業(yè)競爭更趨白熱化,后進(jìn)者如中國國內(nèi)的DRAM廠商,如果要有所突破,勢必面臨更大的壓力。
責(zé)任編輯:tzh

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