美光本周二公布其用于DRAM的1α新工藝，該技術(shù)有望將DRAM位密度提升40%，功耗降低15%。 1α工藝最初被用于生產(chǎn)DDR4和LPDDR4內(nèi)存，未來(lái)或?qū)⒌采w美光所有類(lèi)型的DRAM。

同時(shí)，美光提到要實(shí)現(xiàn)DRAM的規(guī)?；院芾щy。鑒于EUV技術(shù)帶來(lái)的性能優(yōu)化還無(wú)法抵消設(shè)備成本和生產(chǎn)困難，美光近期不打算引入EUV光刻技術(shù)，考慮在未來(lái)的1？？工藝中應(yīng)用EUV技術(shù)。

一、美光1α工藝位密度或提升40%

到目前為止，美光已經(jīng)將其DRAM生產(chǎn)的很大一部分轉(zhuǎn)移到其1Z制程，該制程為生產(chǎn)存儲(chǔ)器提供了更高的位密度和性能，可以有效地降低成本。因此，目前美光表示，它對(duì)利潤(rùn)率和產(chǎn)品組合感到相當(dāng)滿(mǎn)意。

美光的1α制程工藝預(yù)計(jì)將比1Z的位密度提高40%，這將相應(yīng)地降低生產(chǎn)商的單字節(jié)存儲(chǔ)成本。此外，該技術(shù)據(jù)稱(chēng)還能降低15%的功耗，以提高存儲(chǔ)器性能。

在美光1α工藝提升的40%位密度中，大約有10%是由DRAM設(shè)計(jì)效率驅(qū)動(dòng)的，這表明非EUV技術(shù)在當(dāng)前生產(chǎn)過(guò)程中還有提升空間。

新的1α工藝將如同1Z工藝一樣，繼續(xù)使用6F2位線(xiàn)設(shè)計(jì)。目前美光已經(jīng)實(shí)施了許多新的工藝制程，以適應(yīng)小尺寸DRAM的制造。

美光DRAM工藝集成副總裁Thy Tran在被媒體采訪(fǎng)時(shí)談到，1α工藝的位密度能顯著提高，是因?yàn)楣に囍瞥痰母倪M(jìn)及設(shè)計(jì)效率的提升，這實(shí)現(xiàn)了矩陣效率的提高，也帶來(lái)了10%左右的存儲(chǔ)器性能提升。

美光對(duì)工藝技術(shù)改進(jìn)了許多，比如大幅度縮小了位線(xiàn)（bitline）、字線(xiàn)（wordline）和網(wǎng)格（grid）。美光能夠做到這一點(diǎn)，不僅因?yàn)閷?duì)新工藝制程的積極，也因?yàn)樗狭巳蚋鞯刈钚?、最好的材料，比如更好的?dǎo)體材料和絕緣體材料。

最后美光通過(guò)沉積、修改或選擇性地蝕刻這些新材料來(lái)制作設(shè)備，縮小節(jié)距來(lái)使電池電容的容量更大。此外，美光還引入了先進(jìn)的設(shè)備和技術(shù)，來(lái)改善圖案層（patterned layer）。

DRAM 1α這項(xiàng)新工藝完成于美國(guó)愛(ài)達(dá)荷州博伊西的美光總部，但工藝制程的開(kāi)發(fā)和制造過(guò)程涉及到了全球多個(gè)團(tuán)隊(duì)。

美光科技技術(shù)與產(chǎn)品執(zhí)行副總裁Scott DeBoer稱(chēng)，采用了新1α工藝的DRAM器件在應(yīng)用于數(shù)據(jù)中心、邊緣AI和消費(fèi)電子時(shí)，將解決很多問(wèn)題。

一開(kāi)始，美光會(huì)在其位于桃園和臺(tái)中的晶圓工廠(chǎng)中，使用1α工藝生產(chǎn)8GB和16GB的DDR4和LPDDR4內(nèi)存，最后該工藝將應(yīng)用所有類(lèi)型的內(nèi)存。

因?yàn)镈DR5存儲(chǔ)設(shè)備將具備更復(fù)雜的架構(gòu)，像1α這樣的工藝對(duì)于下一代DDR5存儲(chǔ)設(shè)備格外重要。

Tran先生說(shuō)：“我們的1α工藝將逐步部署在我們的產(chǎn)品組合中，并將在2022年成為主要工藝。同時(shí)晶圓廠(chǎng)也將逐漸升級(jí)，以配合生產(chǎn)，符合行業(yè)需求?！?/p>

二、存儲(chǔ)器技術(shù)的升級(jí)對(duì)現(xiàn)有工藝制程將是巨大挑戰(zhàn)

近年來(lái)，因?yàn)楦叩男阅苄枨?，存?chǔ)技術(shù)有了很大的發(fā)展。

其中具有代表性的DDR5和GDDR6X存儲(chǔ)器，就會(huì)比之前DDR4、GDDR6存儲(chǔ)器等復(fù)雜得多，這也是為什么DRAM技術(shù)需要升級(jí)的原因。

新存儲(chǔ)技術(shù)的出現(xiàn)總會(huì)需要對(duì)現(xiàn)有工藝制程進(jìn)行改造，像美光這樣的存儲(chǔ)芯片公司就需要在工藝技術(shù)的升級(jí)上投入更多的資金。

對(duì)此，美光技術(shù)開(kāi)發(fā)高級(jí)副總裁Naga Chandrasekaran稱(chēng)，更高性能存儲(chǔ)器的需求將會(huì)一直存在，美光有能力通過(guò)工藝和設(shè)計(jì)創(chuàng)新滿(mǎn)足這一點(diǎn)。

比如新一代的DDR5雖然可以降低功耗，提供更高的帶寬，但這種高性能的要求也對(duì)芯片尺寸提出了新的要求，單純的尺寸縮放將無(wú)法滿(mǎn)足生產(chǎn)需要。

而降低存儲(chǔ)器成本的同時(shí)，還要滿(mǎn)足更高的性能要求極具挑戰(zhàn)性，這需要在工藝制程之外的多個(gè)領(lǐng)域進(jìn)行創(chuàng)新。Chandrasekaran提到，美光就在滿(mǎn)足了DDR5性能要求的同時(shí)，還考慮了成本因素。

這樣的案例并不特殊，由于DRAM的處理技術(shù)開(kāi)始變得更薄，美光這樣的公司必須在成本、性能、質(zhì)量和功耗之間找到合適的平衡。

Chandrasekaran說(shuō)：“DRAM的擴(kuò)展將變得更具挑戰(zhàn)性，特別是當(dāng)我們不得不與極其緊張的利潤(rùn)率作斗爭(zhēng)時(shí)，還要優(yōu)化存儲(chǔ)器的部件成本、功耗、性能和質(zhì)量?！?/p>

三、美光近期將不會(huì)使用EUV光刻技術(shù)

解決存儲(chǔ)器幾何尺寸縮放的方法之一是采用EUV光刻技術(shù)，但美光公司近期并不準(zhǔn)備引入該技術(shù)，因?yàn)镋UV并不能解決他們目前面臨的很多問(wèn)題。

美光接下來(lái)的三個(gè)DRAM節(jié)點(diǎn)將繼續(xù)使用深紫外線(xiàn)（DUV）光刻技術(shù)，但他們正在考慮在1？？工藝中使用EUV技術(shù)。

同時(shí)，即使沒(méi)有EUV，美光也承諾改善下一代內(nèi)存設(shè)備的性能和功耗。

“美光會(huì)在材料、工藝和設(shè)備上不斷創(chuàng)新，以滿(mǎn)足規(guī)?；男枨蟆！盋handrasekaran說(shuō)，“我們正在研發(fā)相關(guān)技術(shù)。”

他還稱(chēng)EUV技術(shù)目前對(duì)美光并不是必需品，他們?cè)诙鄨D案技術(shù)方面的專(zhuān)利和創(chuàng)新能夠滿(mǎn)足新技術(shù)下的性能和成本需求。

美光認(rèn)為，未來(lái)幾年，由于EUV技術(shù)還處于DRAM生產(chǎn)的早期階段，其帶來(lái)的工藝改進(jìn)將被設(shè)備成本和生產(chǎn)困難所抵消。例如，美光最近展示的一張幻燈片表明，EUV技術(shù)成本過(guò)高，可擴(kuò)展性?xún)?yōu)勢(shì)忽略不計(jì)，關(guān)鍵尺寸（CD）均勻性不完美，而周期時(shí)間也并沒(méi)有顯著減少，因此目前EUV技術(shù)的生產(chǎn)效率仍然落后于DUV技術(shù)。

▲EUV技術(shù)可能在DRAM存儲(chǔ)芯片生產(chǎn)上的時(shí)間節(jié)點(diǎn)

Naga Chandrasekaran稱(chēng)：“目前EUV技術(shù)在存儲(chǔ)器方面的生產(chǎn)仍無(wú)法與先進(jìn)的浸入式技術(shù)（immersion technology）相媲美。EUV也不一定是規(guī)?；a(chǎn)的關(guān)鍵因素，美光現(xiàn)有技術(shù)足以保證產(chǎn)品性能?！?/p>

他還提到，雖然EUV技術(shù)正在進(jìn)行改進(jìn)，但其成本和性能仍落后于當(dāng)前的生產(chǎn)模式。不過(guò)未來(lái)三年內(nèi)，EUV技術(shù)可能會(huì)在成本和性能方面取得必要的進(jìn)展。

所以美光也會(huì)一直推進(jìn)對(duì)該技術(shù)的關(guān)注，并在符合要求的適當(dāng)時(shí)間引入該技術(shù)。

這種情況下，正在開(kāi)發(fā)中的1β和1？？工藝將不會(huì)使用任何EUV設(shè)備。相反，該公司將繼續(xù)使用現(xiàn)有生產(chǎn)技術(shù)，并指派其工程師設(shè)計(jì)在位密度、功耗和性能方面具有競(jìng)爭(zhēng)力的DRAM器件。

美光大約每年都會(huì)引進(jìn)一種新的制程工藝，根據(jù)外媒推算，它的1？？工藝將在2024年或更晚的時(shí)候推出。這代表美光使用EUV技術(shù)可能落后全球最大內(nèi)存制造商三星四年，這有利有弊。

屆時(shí)美光將使用成熟的EUV設(shè)備、鍍膜和抗蝕劑。相應(yīng)的，它將不得不在沒(méi)有用EUV技術(shù)進(jìn)行大批量生產(chǎn)的經(jīng)驗(yàn)時(shí)，跨多層使用EUV技術(shù)。

結(jié)語(yǔ)：美光的保守態(tài)度可能出于成本考慮

美光作為全球最大的存儲(chǔ)芯片廠(chǎng)商之一，它一定程度上代表了存儲(chǔ)技術(shù)的進(jìn)步趨勢(shì)，因此其在技術(shù)上的突破意義重大。

目前全球存儲(chǔ)芯片市場(chǎng)壟斷程度不斷加劇，行業(yè)前三的龍頭分別是三星、SK海力士和美光。DRAM市場(chǎng)大部分由三星、SK海力士和美國(guó)美光三家占據(jù)，而NAND Flash市場(chǎng)幾乎全部被三星、SK海力士、日本東芝、閃迪（SanDisk）、美光和英特爾等六家瓜分，其中三星居壟斷地位。

由于存儲(chǔ)芯片的特殊性，它的設(shè)計(jì)相對(duì)簡(jiǎn)單，因此產(chǎn)品的線(xiàn)寬、產(chǎn)能、成品率與折舊是生產(chǎn)成本的核心。在這種情況下，美光對(duì)EUV技術(shù)采取保守策略也是有相應(yīng)現(xiàn)實(shí)意義的。
責(zé)編AJX