chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

搜索歷史

清空
搜索熱詞
      0
      • 聊天消息
      • 系統(tǒng)消息
      • 評論與回復
      VIP于 到期 續(xù)費
      登錄后你可以
      • 下載海量資料
      • 學習在線課程
      • 觀看技術視頻
      • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
      會員中心
      創(chuàng)作中心
      發(fā)布
      創(chuàng)作活動

      完善資料讓更多小伙伴認識你，還能領取20積分哦，立即完善>

      3天內(nèi)不再提示

      三星董事李在镕親自拜訪ASML，只為爭取到EUV光刻機

      汽車玩家 ? 來源：網(wǎng)絡整理 ? 作者：網(wǎng)絡整理 ? 2022-06-07 14:18 ? 次閱讀
      加入交流群
      微信小助手二維碼

      掃碼添加小助手

      加入工程師交流群

      據(jù)外媒報道稱，三星電子公司董事李在镕今天將起身前往荷蘭拜訪光刻機廠商ASML，此舉表明三星很有可能會大量采購光刻機。

      據(jù)了解，李在镕將會在荷蘭待上11天，此次花費十多天前往荷蘭拜訪ASML，有多家媒體稱三星的目的是為了搶到ASML的EUV光刻機。

      目前芯片短缺的現(xiàn)狀大家也都清楚，再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻機才能打造，而本來EUV光刻機就稀少，因此先進芯片發(fā)展頻頻受限，并且前段時間三星才剛剛和Intel洽談完芯片合作的事宜，因此現(xiàn)在的三星急需擴充芯片產(chǎn)能和發(fā)展先進芯片技術。

      這也就能夠合理的解釋三星為什么要特意花費十多天去拜訪ASML了，只要盡可能多的爭取到EUV光刻機數(shù)量，那么自身先進芯片研發(fā)制造方面也就能夠得到進步，并且能夠在多家同行廠商的競爭中取得較大的優(yōu)勢。

      綜合整理自 21ic電子網(wǎng) 秒看科技界 PConline

      審核編輯 黃昊宇

      聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
      • 三星電子
        +關注

        關注

        34

        文章

        15891

        瀏覽量

        182915
      • 光刻機
        +關注

        關注

        31

        文章

        1197

        瀏覽量

        48756
      • ASML
        +關注

        關注

        7

        文章

        735

        瀏覽量

        43351
      收藏 人收藏
      加入交流群
      微信小助手二維碼

      掃碼添加小助手

      加入工程師交流群

        評論

        相關推薦
        熱點推薦

        中國打造自己的EUV光刻膠標準！

        其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例，這是決定芯片 圖案能否被精準 刻下來的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入 7nm及以下先進制程芯片 時代，不僅需要EUV光刻機，更需要
        的頭像 發(fā)表于 10-28 08:53 ?5948次閱讀

        俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？

        ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機被譽為 “半導體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術更是先進制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭
        的頭像 發(fā)表于 10-04 03:18 ?9463次閱讀
        俄羅斯亮劍：公布<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機</b>路線圖，挑戰(zhàn)<b class='flag-5'>ASML</b>霸主地位？

        AI需求飆升！ASML新光刻機直擊2nm芯片制造，尼康新品獲重大突破

        *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝（FOPLP）技術為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機設備，尼康DSP-100的技術原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當中的哪些痛點問題？ 針對2nm、3nm芯片制造難題，光
        的頭像 發(fā)表于 07-24 09:29 ?7338次閱讀
        AI需求飆升！<b class='flag-5'>ASML</b>新<b class='flag-5'>光刻機</b>直擊2nm芯片制造，尼康新品獲重大突破

        ASML官宣：更先進的Hyper NA光刻機開發(fā)已經(jīng)啟動

        電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，日前，ASML 技術高級副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學組件獨家合作伙伴蔡司，啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發(fā)。這一舉措標志著
        發(fā)表于 06-29 06:39 ?1860次閱讀

        電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極

        出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機對電子束質(zhì)量的要求。 只有對聚焦電極改進才是最佳選擇，以下介紹該進后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心線達到縮束的目的，使電子束分布在一條直線
        發(fā)表于 05-07 06:03

        今日看點丨美國宣布：征收高達3403%關稅??；傳三星停產(chǎn)DDR4

        改進EUV光刻制造技術。與此同時，三星還獲得了High-NA EUV光刻設備技術的優(yōu)先權。 ? 據(jù)外媒報道，
        發(fā)表于 04-22 11:06 ?1468次閱讀

        看點：三星李在镕失去韓國首富寶座 小鵬已獲4000臺飛行汽車訂單

        給大家?guī)硪恍┬袠I(yè)資訊： 三星李在镕失去韓國首富寶座 據(jù)福布斯中文網(wǎng)最新公布的富豪榜數(shù)據(jù)顯示，2025福布斯韓國富豪32位上榜者的財富有縮水，三星
        的頭像 發(fā)表于 04-16 17:30 ?965次閱讀

        EUV光刻技術面臨新挑戰(zhàn)者

        ? EUV光刻有多強？目前來看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機
        的頭像 發(fā)表于 02-18 09:31 ?1974次閱讀
        <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>技術面臨新挑戰(zhàn)者

        三星中國公司高層調(diào)整，李大成接任新帥

        近日，三星(中國)投資有限公司發(fā)生了一系列工商變更，其中最為引人注目的是公司法定代表人、董事長及經(jīng)理職務的變動。據(jù)官方消息，崔勝植已正式卸任上述職務，由李大成接任，這一變動標志著三星中
        的頭像 發(fā)表于 02-10 13:48 ?1156次閱讀

        光刻機用納米位移系統(tǒng)設計

        光刻機用納米位移系統(tǒng)設計
        的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?992次閱讀
        <b class='flag-5'>光刻機</b>用納米位移系統(tǒng)設計

        李在镕、山姆·奧特曼與孫正義共商AI合作

        近期，一場備受矚目的三方會晤在韓國首爾舉行。三星電子副董事長李在
        的頭像 發(fā)表于 02-05 15:14 ?826次閱讀

        如何提高光刻機的NA值

        本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
        的頭像 發(fā)表于 01-20 09:44 ?2333次閱讀
        如何提高<b class='flag-5'>光刻機</b>的NA值

        光刻機的分類與原理

        本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類，光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
        的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?5898次閱讀
        <b class='flag-5'>光刻機</b>的分類與原理

        組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹

        納米級別的分辨率。本文將詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機的心臟，負責提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源，但隨著技術的進步，目前多采用深紫外（DUV）或極紫外（
        的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?4270次閱讀
        組成<b class='flag-5'>光刻機</b>的各個分系統(tǒng)介紹

        日本首臺EUV光刻機就位

        據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設備的半導體公司，已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進行安裝，
        的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?1437次閱讀
        日本首臺<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機</b>就位