中國突破2nm芯片技術 臺積電2nm芯片量產
臺積電公布了下一代的2nm制程技術的部分細節(jié)信息，同時預計N2工藝將于2025年內量產。
在工藝技術方面臺積電N2工藝制程是首個使用環(huán)繞柵極晶體管 （GAAFET） 的節(jié)點，將提供全面的性能和功率優(yōu)勢，同時在速度和功耗上都有著明顯提升。
N2工藝帶來兩大納米片晶體管和backside power rail兩大重要創(chuàng)新技術，可以在降低成本和功耗的同時提高性能，同時還可利用工藝技術解決對抗電阻的問題。
綜合IT之家整合
審核編輯：郭婷
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