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碳化硅和氮化鎵的特性、優(yōu)勢(shì)及應(yīng)用范圍

國(guó)晶微第三代半導(dǎo)體碳化硅SiC ? 來源:國(guó)晶微第三代半導(dǎo)體碳化 ? 作者:國(guó)晶微第三代半導(dǎo) ? 2022-12-16 09:45 ? 次閱讀
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碳化硅和氮化鎵:其特性優(yōu)越

過去和現(xiàn)在的半導(dǎo)體——從鍺到硅

半導(dǎo)體的歷史可以追溯到1950年左右引入點(diǎn)接觸晶體管。鍺是當(dāng)時(shí)半導(dǎo)體產(chǎn)品的主要材料,但后來,具有優(yōu)越特性的硅取代了鍺,并一直廣泛使用到今天。

隨著半導(dǎo)體制造設(shè)備的精度提高以及器件結(jié)構(gòu)和晶圓工藝的優(yōu)化,硅半導(dǎo)體產(chǎn)品隨著時(shí)間的推移而發(fā)展。這為我們?nèi)粘I钪须娮赢a(chǎn)品的小型化和進(jìn)步做出了重大貢獻(xiàn)。

另一方面,特別是在功率半導(dǎo)體領(lǐng)域,使用物理性能值大大超過硅基半導(dǎo)體的化合物半導(dǎo)體的元件開發(fā)和實(shí)際應(yīng)用取得了進(jìn)展。

SiC和GaN:化合物功率半導(dǎo)體的損耗低于Si

從上述背景來看,SiC(碳化硅)和GaN(氮化鎵)等材料最近越來越受到關(guān)注。

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硅是一種單一化學(xué)物質(zhì);相比之下,SiC是碳與硅的化合物,GaN是鎵與氮的化合物。因此,使用這些化合物生產(chǎn)的半導(dǎo)體稱為“化合物半導(dǎo)體”。

此外,SiC和GaN提供的帶隙比硅更寬(Si:1.1eV,SiC:3.3eV,GaN:3.4eV),因此它們也被稱為“寬帶隙半導(dǎo)體”。

寬帶隙半導(dǎo)體的特點(diǎn)是介電擊穿場(chǎng)強(qiáng)度高,因此允許擊穿電壓與硅相同,其耐壓層比硅薄得多。

由于對(duì)引領(lǐng)后代的角色寄予厚望,這些半導(dǎo)體有時(shí)也被稱為“下一代功率半導(dǎo)體”。

碳化硅和氮化鎵:其物理特性優(yōu)異

與硅相比,SiC和GaN(不僅作為寬帶隙半導(dǎo)體,而且作為材料本身)在品質(zhì)因數(shù)(εμeEc3)方面顯示出其出色的性能水平:SiC高440倍,GaN高1130倍。

為了充分利用這些材料,目前正在進(jìn)一步開發(fā)外圍技術(shù)。用SiC或GaN基化合物半導(dǎo)體取代傳統(tǒng)的硅基半導(dǎo)體將使電子設(shè)備更加緊湊和高效。

近年來,半導(dǎo)體材料中使用的SiC晶圓襯底質(zhì)量的提高導(dǎo)致了更大直徑晶圓的使用。因此,已經(jīng)引入了高電流和低成本設(shè)備,并開始在許多設(shè)備中采用。

但是,GaN晶圓襯底仍然昂貴,因此通常采用具有水平結(jié)構(gòu)并形成GaN活性層的低成本硅片襯底。這使得制造高電流產(chǎn)品變得困難;然而,GaN已被用于越來越多的應(yīng)用,這些應(yīng)用需要通過工藝小型化進(jìn)行極快的開關(guān)操作。

硅器件可能被碳化硅/氮化鎵器件取代的應(yīng)用范圍

SiC器件在電機(jī)驅(qū)動(dòng)和其他高壓/大電流應(yīng)用中具有優(yōu)勢(shì)

SiC是一種用碳代替一半硅的化合物。碳和硅結(jié)合緊密,其晶體結(jié)構(gòu)比單晶硅更穩(wěn)定。因此,SiC具有很高的介電擊穿場(chǎng)強(qiáng)度,從而使活性層非常薄。這使得器件具有比傳統(tǒng)硅器件更高的擊穿電壓和更低的損耗。

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作為硅IGBT的替代品,SiC器件在高電流和高耐壓領(lǐng)域越來越受歡迎。

具體而言,預(yù)計(jì)在10kW以上的領(lǐng)域?qū)U(kuò)大規(guī)模,在制造小型輕量化系統(tǒng)方面具有巨大優(yōu)勢(shì),包括發(fā)電系統(tǒng)的功率調(diào)節(jié)器、電動(dòng)家用HEMS和電動(dòng)汽車(EV)。

GaN器件在開關(guān)電源和其他緊湊型/高頻應(yīng)用中具有優(yōu)勢(shì)

GaN具有比SiC更穩(wěn)定的鍵結(jié)構(gòu)和更高的介電擊穿場(chǎng)強(qiáng)度。

目前,GaN器件通常由在硅襯底上形成的GaN活性層組成。因此,GaN器件的擊穿電壓不能像SiC器件那樣高,但它們?nèi)匀贿m用于高頻應(yīng)用。在開關(guān)電源方面,通過高頻開關(guān),可以縮小電感器和其他外圍元件的尺寸。

GaN器件有望應(yīng)用于1kW以下的電源,在對(duì)小型設(shè)計(jì)要求很高的領(lǐng)域。

例如,GaN器件預(yù)計(jì)將被用作第5代移動(dòng)通信系統(tǒng)(5G)基站的電源,預(yù)計(jì)未來幾年將擴(kuò)大其市場(chǎng)。

USB供電(USB-PD)標(biāo)準(zhǔn)的建立還允許充電器通過USB電纜接收和供應(yīng)高達(dá)100W的功率。因此,越來越多的充電器(用于智能手機(jī)、筆記本電腦等)已經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)化。

小型智能手機(jī)充電器是長(zhǎng)期首選的產(chǎn)品,因此需要提供可以快速充電以及可以支持筆記本電腦等中型電子設(shè)備的充電器,而不會(huì)改變其當(dāng)前尺寸。然后,GaN器件將以最佳方式實(shí)現(xiàn)這種需求,并可能在未來加速其擴(kuò)展到許多應(yīng)用。

審核編輯:郭婷

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原文標(biāo)題:碳化硅和氮化鎵:其特性優(yōu)越!

文章出處:【微信號(hào):國(guó)晶微第三代半導(dǎo)體碳化硅SiC,微信公眾號(hào):國(guó)晶微第三代半導(dǎo)體碳化硅SiC】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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