激光干涉儀與光刻機(jī)的緣分
光刻機(jī)是集成電路生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備之一，在整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中占據(jù)重要的地位。高精度的工作臺(tái)作為光刻機(jī)核心部件之一，其運(yùn)動(dòng)性能和定位精度決定了光刻工藝所能實(shí)現(xiàn)的線(xiàn)寬和產(chǎn)率。
光刻機(jī)的工作臺(tái)是一個(gè)六自由度的運(yùn)動(dòng)臺(tái)，其中X/Y向運(yùn)動(dòng)臺(tái)是的核心基礎(chǔ)工序。管控XY軸角度Yaw和Pitch，直線(xiàn)度Horizontal Straightness和Vertical Straightness是獲得XY線(xiàn)性（重復(fù)）精度（Linear Positioning）的關(guān)鍵，是后續(xù)實(shí)現(xiàn)六自由度的控制的基石，是多層曝光對(duì)準(zhǔn)精度的源頭。
本次利用SJ6000激光干涉儀檢測(cè)一臺(tái)光刻機(jī)XY軸的角擺和直線(xiàn)度，部分結(jié)果如下：
Y軸Vertical Straightness測(cè)量
X軸Pitch測(cè)量
X軸測(cè)量軸長(zhǎng)225mm，其中垂直直線(xiàn)度測(cè)得結(jié)果0.58μm。
Y軸測(cè)量軸長(zhǎng)600mm，測(cè)得角度Yaw結(jié)果0.86″。
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題，請(qǐng)聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
激光干涉儀
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
84瀏覽量
8765
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
[VirtualLab] 用于光學(xué)檢測(cè)的斐索干涉儀
摘要
斐索干涉儀是工業(yè)上常見(jiàn)的光學(xué)計(jì)量設(shè)備，通常用于高精度測(cè)試光學(xué)表面的質(zhì)量。在VirtualLab Fusion中通道配置的幫助下，我們建立了一個(gè)Fizeau干涉儀，并將其用于測(cè)試不同的光學(xué)表面
發(fā)表于 04-08 08:38
[VirtualLab] 使用棱鏡分束器的Mach-Zehnder干涉儀互補(bǔ)干涉圖樣的觀測(cè)
**摘要
**
分束器是將光束一分為二的重要光學(xué)元件，是干涉儀等許多光學(xué)實(shí)驗(yàn)和測(cè)量系統(tǒng)的重要組成部分。作為一個(gè)典型的例子，在VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光
發(fā)表于 04-03 08:41
激光干涉儀測(cè)量案例：醫(yī)療CT滑軌運(yùn)行精度及旋轉(zhuǎn)架定位精度檢測(cè)
測(cè)量需求檢查床CT滑軌運(yùn)行的定位精度、重復(fù)精度、直線(xiàn)度，旋轉(zhuǎn)架的旋轉(zhuǎn)精度和旋轉(zhuǎn)定位精度。激光干涉儀測(cè)量方案SJ6000激光干涉儀搭配線(xiàn)性鏡組+角度鏡組+直線(xiàn)度鏡組+WR50自動(dòng)精密轉(zhuǎn)臺(tái)
發(fā)表于 12-24 16:44
?0次下載
電壓放大器：相位調(diào)制零差干涉儀性能評(píng)價(jià)實(shí)驗(yàn)的關(guān)鍵驅(qū)動(dòng)力
設(shè)備： ATA-2088高壓放大器、納米定位平臺(tái)、單頻激光干涉儀、光電探測(cè)器、Redpitaya信號(hào)處理板等。 實(shí)驗(yàn)過(guò)程： 圖1：相位調(diào)制零差干涉儀實(shí)物圖 相位調(diào)制零差干涉儀組裝調(diào)試主
白光干涉儀與激光干涉儀的區(qū)別及應(yīng)用解析
在精密測(cè)量領(lǐng)域，干涉儀作為基于光的干涉原理實(shí)現(xiàn)高精度檢測(cè)的儀器，被廣泛應(yīng)用于工業(yè)制造、科研實(shí)驗(yàn)等場(chǎng)景。其中，白光干涉儀與激光干涉儀是兩類(lèi)具有
改善光刻圖形線(xiàn)寬變化的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻圖形線(xiàn)寬變化直接影響器件性能與集成度。精確控制光刻圖形線(xiàn)寬是保障工藝精度的關(guān)鍵。本文將介紹改善光刻圖形線(xiàn)寬變化的方法，并探討白光干涉儀在
改善光刻圖形垂直度的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量
深入探討白光干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的應(yīng)用。 改善光刻圖形垂直度的方法 優(yōu)化光刻膠性能 光刻膠的特性直接影響圖形垂直度。選用高對(duì)比度、低膨脹系
用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量
至關(guān)重要。本文將介紹用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液，并探討白光干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的應(yīng)用。 用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液 配方設(shè)計(jì) 低銅腐蝕
減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量
干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的應(yīng)用。 ? 減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法 ? 優(yōu)化光刻膠材料選擇 ? 選擇與半導(dǎo)體襯底兼容性良好的光刻膠材
光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料，其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí)，精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)量意義重大，白光
VirtualLab Fusion：用于光學(xué)檢測(cè)的斐索干涉儀
摘要
斐索干涉儀是工業(yè)上常見(jiàn)的光學(xué)計(jì)量設(shè)備，通常用于高精度測(cè)試光學(xué)表面的質(zhì)量。在VirtualLab Fusion中通道配置的幫助下，我們建立了一個(gè)Fizeau干涉儀，并將其用于測(cè)試不同的光學(xué)表面
發(fā)表于 05-28 08:48
Micro OLED 陽(yáng)極像素定義層制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量
? 引言 ? Micro OLED 作為新型顯示技術(shù)，在微型顯示領(lǐng)域極具潛力。其中，陽(yáng)極像素定義層的制備直接影響器件性能與顯示效果，而光刻圖形的精準(zhǔn)測(cè)量是確保制備質(zhì)量的關(guān)鍵。白光干涉儀憑借獨(dú)特
Aigtek電壓放大器在光纖干涉儀噪聲抑制研究中的應(yīng)用
實(shí)驗(yàn)名稱(chēng)： 基于光纖干涉儀的低頻段頻率噪聲抑制研究 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容： 光纖干涉儀作為一種可以精細(xì)鑒別激光相位的結(jié)構(gòu)裝置，被廣泛地應(yīng)用于激光相位噪聲的測(cè)試測(cè)量工作。運(yùn)用逆向思維，利用光纖
光學(xué)實(shí)驗(yàn)教具應(yīng)用：邁克爾遜干涉儀實(shí)驗(yàn)
1. 實(shí)驗(yàn)概述
邁克爾遜干涉儀是光學(xué)干涉儀中最常見(jiàn)的一種，其原理是一束入射光分為兩束后各自被對(duì)應(yīng)的平面鏡反射回來(lái)，這兩束光從而能夠發(fā)生干涉。干涉中兩束光的不同光程可以通過(guò)調(diào)節(jié)
發(fā)表于 05-08 08:51
FRED應(yīng)用：天文光干涉儀
簡(jiǎn)介
天文光干涉儀能夠?qū)崿F(xiàn)恒星和星系的高角分辨率的測(cè)量。首次搭建的天文光干涉儀分別由菲索（1868）和邁克爾遜（1890）提出。邁克爾遜恒星干涉儀于1920年成功地測(cè)出參宿四的直徑?，F(xiàn)如今，恒星
發(fā)表于 04-29 08:52
評(píng)論