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Atonarp 質(zhì)譜儀通過數(shù)字分子分析推進半導體過程控制

hakutovacuum ? 來源:hakutovacuum ? 作者:hakutovacuum ? 2023-06-21 10:21 ? 次閱讀
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先進半導體應用的原位過程控制
上海伯東日本 Atonarp Aston? Impact 和 Aston? Plasma 是超緊湊型質(zhì)譜儀, 適用于先進半導體工藝(如沉積和蝕刻)所需的定量氣體分析.

wKgaomSSXpKAOhRgAAAcZFvS5u4608.jpg

分子測量
快速,靈敏度達到十億分之一 檢測殘留氣體 / 冷凝物污染.
wKgZomSSXpOAMmaKAAAfLmzW1is791.jpg

提高產(chǎn)量
提供化學特定的可操作見解, 盡可能地提高產(chǎn)量
wKgaomSSXpOANkVLAAAbPNwIdIU149.jpg

提高安全性
監(jiān)測爆炸性氣體. 檢查排放和減排效果.


Aston? 質(zhì)譜儀解決了關鍵的原位計量問題

? 提高吞吐量:端點檢測而不是基于時間的流程
? 提高產(chǎn)量: 以十億分之一的靈敏度測量沉積和蝕刻工藝期間的工藝氣體 / 副產(chǎn)物

Aston? 質(zhì)譜儀先進工藝的優(yōu)勢
ppb 級靈敏度的高速采樣
非常適合高縱橫比的 3D 結(jié)構(gòu)
耐腐蝕性氣體
堅固緊湊
易于集成到工具平臺中
沉積應用中: 實時過程氣體監(jiān)控,以驅(qū)動自動化工具調(diào)整以實現(xiàn)過程控制, 沉積步驟之間的終點檢測, 實現(xiàn)層的化學計量工程
蝕刻應用中: 以 ppb 為單位測量的工藝氣體和副產(chǎn)品, 啟用端點腔室清潔

Atonarp Aston? 技術(shù)參數(shù)

類型 Impact-300 Impact-300DP Plasma-200 Plasma-200DP Plasma-300 Plasma-300DP
型號 AST3007 AST3006 AST3005 AST3004 AST3003 AST3002
質(zhì)量分離 四級桿
真空系統(tǒng) 分子泵 分子泵
隔膜泵
分子泵 分子泵
隔膜泵
分子泵 分子泵
隔膜泵
檢測器 FC /SEM
質(zhì)量范圍 2-285 2-220 2-285
分辨率 0.8±0.2
檢測限 0.1 PPM
工作溫度 15-35“℃
功率 350 W
重量 15 kg
尺寸 299 x 218 x 331 LxWxH(mm) 400 x 240 x 325 LxWxH(mm)

Aston? 質(zhì)譜儀半導體制造應用

先進的工藝
原子層沉積 (ALD)
化學氣相沉積 (CVD)
原子層蝕刻 (ALE)

腔室管理
干凈的終點檢測
指紋識別和匹配

Sub-fab安全性, 可持續(xù)性和節(jié)省優(yōu)化
過程安全監(jiān)控
干泵保護
減排管理

wKgZomSSXpSAPIypAABms39liho291.jpg

沉積
化學氣相沉積

TEOS

蝕刻
介電,導電,金屬
高縱橫比 <1% 開放區(qū)域檢測

EUV/光刻
SnH4 蝕刻
光掩模蝕刻

自主過程控制
模型驅(qū)動的實時過程監(jiān)控


審核編輯黃宇

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