chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

一文了解光刻的歷史

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫 ? 來(lái)源:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫 ? 2023-06-26 16:59 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

誰(shuí)發(fā)明了光刻技術(shù)?

當(dāng)我們現(xiàn)在談?wù)撚?jì)算時(shí),我們傾向于談?wù)撥浖途帉戃浖?a target="_blank">工程師。但是,如果沒(méi)有硬件和使其得以創(chuàng)建的物理科學(xué);光學(xué)、材料科學(xué)和機(jī)械工程等學(xué)科,我們就不會(huì)有任何進(jìn)展。正是由于這些領(lǐng)域的進(jìn)步,我們才能制造出數(shù)字世界中所有1和0所在的芯片。沒(méi)有它們,現(xiàn)代計(jì)算就不可能實(shí)現(xiàn)。

半導(dǎo)體光刻技術(shù),即負(fù)責(zé)生產(chǎn)計(jì)算機(jī)芯片的制造工藝,有著70年的歷史淵源。它的起源故事就像今天的工藝一樣簡(jiǎn)單和復(fù)雜:該技術(shù)開(kāi)始于20世紀(jì)50年代中期,當(dāng)時(shí)一位名叫杰伊·拉斯羅普 (Jay Lathrop) 的物理學(xué)家把他顯微鏡中的鏡頭倒過(guò)來(lái)。

拉斯羅普于去年去世,享年 95 歲,如今卻很少有人記得他。但他和他的實(shí)驗(yàn)室伙伴于 1957 年申請(qǐng)專利的光刻工藝改變了世界。光刻方法的穩(wěn)步改進(jìn)產(chǎn)生了越來(lái)越小的電路和以前難以想象的計(jì)算能力,改變了整個(gè)行業(yè)和我們的日常生活。

如今,光刻技術(shù)已成為一項(xiàng)容錯(cuò)率極低的大產(chǎn)業(yè)。全球領(lǐng)先的荷蘭公司 ASML 也是歐洲市值最大的科技公司。它的光刻工具依賴于世界上最平坦的鏡子、最強(qiáng)大的商用激光器之一以及比太陽(yáng)表面爆炸還高的熱度,在硅上刻出微小的形狀,尺寸僅為幾納米。這種納米級(jí)的精度反過(guò)來(lái)又使得制造具有數(shù)百億個(gè)晶體管的芯片成為可能。您可能依賴于使用這些超先進(jìn)光刻工具制造的芯片;在你的手機(jī)、你的個(gè)人電腦以及處理和存儲(chǔ)你數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)中心,都可以找到它們。

在所有制造芯片的令人難以置信的精密機(jī)器中,光刻工具是最關(guān)鍵的,也是最復(fù)雜的。它們需要數(shù)十萬(wàn)個(gè)部件和數(shù)十億美元的投資。但它們不僅是商業(yè)競(jìng)爭(zhēng)和科學(xué)奇跡的主題;它們還站在控制未來(lái)計(jì)算能力的地緣政治競(jìng)爭(zhēng)的中心。計(jì)算的下一步走向?qū)⒂晒饪绦袠I(yè)的演變以及為生產(chǎn)更精確的光刻工具而進(jìn)行的努力決定。該技術(shù)的發(fā)展歷史表明,未來(lái)的任何進(jìn)步都將依賴于更復(fù)雜、更精確的機(jī)器,以及更廣泛的供應(yīng)鏈,以生產(chǎn)所需的專門部件。新的光刻系統(tǒng)和部件的開(kāi)發(fā)速度,以及哪些公司和國(guó)家能夠制造這些部件的問(wèn)題,將不僅決定計(jì)算進(jìn)步的速度,也決定科技行業(yè)內(nèi)的權(quán)力和利潤(rùn)平衡。

今天的納米級(jí)制造業(yè)起源于Lathrop的倒置顯微鏡鏡頭的想法可能看起來(lái)不靠譜。但是,光刻技術(shù)產(chǎn)業(yè)已經(jīng)迅速發(fā)展。它使芯片能夠遵循摩爾定律,集成電路中的晶體管數(shù)量大約每?jī)赡暝黾右槐兜牟椒ァ?/p>

Lathrop在20世紀(jì)50年代發(fā)明了這一工藝,當(dāng)時(shí)計(jì)算機(jī)使用的是真空管或晶體管,其體積大到肉眼可見(jiàn),因此很容易制造,而不必創(chuàng)造全新的一類工具。

他并沒(méi)有試圖革新計(jì)算機(jī);他后來(lái)回憶說(shuō),他 “對(duì)計(jì)算機(jī)一無(wú)所知”。在20世紀(jì)50年代中期,作為美國(guó)陸軍鉆石軍械引信實(shí)驗(yàn)室的一名工程師,他的任務(wù)是設(shè)計(jì)一種新的近距離引信,放在直徑只有幾英寸的迫擊炮彈內(nèi)。他的引信所需的部件之一是一個(gè)晶體管,但炮彈太小,現(xiàn)有的晶體管很難裝進(jìn)去。

當(dāng)時(shí),晶體管制造正處于早期階段。晶體管被用作收音機(jī)中的放大器,而分立晶體管開(kāi)始被用于房間大小的計(jì)算機(jī)。引信實(shí)驗(yàn)室已經(jīng)有一些制造晶體管的設(shè)備,如晶體生長(zhǎng)器和擴(kuò)散爐。但即使在一個(gè)先進(jìn)的武器實(shí)驗(yàn)室,制造晶體管所需的許多材料和工具也必須從頭開(kāi)始開(kāi)發(fā)。

這些早期的晶體管是由一整塊化學(xué)元素鍺制成的,上面有不同的材料分層,所以它們類似于沙漠中的丘陵形狀。這些平頂?shù)牟牧蠅K是通過(guò)首先用一滴蠟覆蓋一部分鍺而制成的。然后使用一種化學(xué)品,將未被覆蓋的鍺蝕掉。當(dāng)蠟被移除時(shí),只有被覆蓋的鍺被留在后面,坐在一個(gè)金屬板上。這個(gè)系統(tǒng)對(duì)大型晶體管來(lái)說(shuō)效果很好,但將其小型化幾乎是不可能的。蠟以不可預(yù)測(cè)的方式滲出,限制了可以蝕刻的鍺的精度。Lathrop和他的實(shí)驗(yàn)室伙伴Jim Nall發(fā)現(xiàn)他們?cè)诮咏欧矫娴倪M(jìn)展被溢出的蠟的缺陷所困。

Lathrop花了多年時(shí)間通過(guò)顯微鏡來(lái)使小東西看起來(lái)更大。當(dāng)他思考如何使晶體管微型化時(shí),他和Nall想知道顛倒過(guò)來(lái)的顯微鏡光學(xué)技術(shù)是否能使大的東西,晶體管的圖案,微型化。為了找到答案,他們?cè)谝粔K鍺材料上覆蓋了一種被稱為光阻的化學(xué)品,他們從伊士曼柯達(dá)(Eastman Kodak)公司獲得了這種化學(xué)品。光會(huì)與光致抗蝕劑發(fā)生反應(yīng),使其變硬或變?nèi)?。拉斯洛普利用這一特點(diǎn),創(chuàng)造了一個(gè)山丘形狀的 “掩?!?,將它放在帶有倒置光學(xué)器件的顯微鏡上。穿過(guò)掩模上的小孔的光線被顯微鏡的鏡頭縮小,并投射到光阻化學(xué)品上。光線照射到的地方,化學(xué)品就會(huì)變硬。在光被掩膜阻擋的地方,它們可以被洗掉,留下一個(gè)精確的、微型的鍺面。一種制造微型晶體管的方法已經(jīng)被發(fā)現(xiàn)。

Lathrop將這一過(guò)程命名為光刻技術(shù),用光進(jìn)行印刷,他和Nall申請(qǐng)了專利。他們?cè)?957年的國(guó)際電子器件年會(huì)上發(fā)表了一篇關(guān)于該主題的論文,軍隊(duì)為他的發(fā)明頒發(fā)了25,000美元的獎(jiǎng)金。Lathrop用這筆錢給他家買了一輛新的旅行車。

在冷戰(zhàn)時(shí)期,迫擊炮引信的市場(chǎng)正在增長(zhǎng)。Lathrop的光刻工藝起飛了,因?yàn)樯a(chǎn)民用電子產(chǎn)品的晶體管的公司意識(shí)到了其變革的潛力。光刻技術(shù)不僅以前所未有的精度生產(chǎn)晶體管,而且還為進(jìn)一步的微型化打開(kāi)了大門。領(lǐng)導(dǎo)商業(yè)晶體管競(jìng)賽的兩家公司,飛兆半導(dǎo)體和德州儀器很早就理解了其中的含義。光刻技術(shù)是他們制造數(shù)以百萬(wàn)計(jì)的晶體管所需的工具,使它們成為大眾市場(chǎng)的商品。

用光作畫(huà)

飛兆公司的共同創(chuàng)始人之一羅伯特·諾伊斯(Robert Noyce)在麻省理工學(xué)院攻讀物理學(xué)博士時(shí)曾與Lathrop一起學(xué)習(xí)。他們兩人在研究生階段利用周末時(shí)間徒步旅行新罕布什爾州的山脈,畢業(yè)后他們一直保持著聯(lián)系。在飛兆公司,諾伊斯迅速行動(dòng)起來(lái),雇用了Lathrop的實(shí)驗(yàn)室伙伴Nall,并通過(guò)用他從灣區(qū)一家攝影店買來(lái)的一套20毫米的相機(jī)鏡頭拼湊自己的設(shè)備,帶頭開(kāi)展公司的光刻工作。

與此同時(shí),Lathrop在飛兆公司的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手德州儀器公司找了一份工作,駕駛著他的新旅行車前往達(dá)拉斯。他到達(dá)時(shí),他的新同事兼終生朋友杰克·基爾比(Jack Kilby)正準(zhǔn)備制造一種半導(dǎo)體材料,其中內(nèi)置或集成了多個(gè)電子元件。很快人們就發(fā)現(xiàn),這些集成電路只能通過(guò)Lathrop的光刻方法才能有效地生產(chǎn)。隨著芯片公司努力縮小晶體管以將更多晶體管裝入芯片上,光刻技術(shù)提供了小型化制造所需的精度。

飛兆公司和德州儀器公司在內(nèi)部制造了他們的第一臺(tái)***,但機(jī)器的日益復(fù)雜很快就吸引了新的加入者。隨著晶體管的規(guī)模從厘米到毫米再到微米的下降,精密光學(xué)器件的重要性也隨之增加。珀金·埃爾默是一家位于康涅狄格州的公司,為美國(guó)軍方生產(chǎn)從投彈燈到間諜衛(wèi)星的專業(yè)光學(xué)器件。在20世紀(jì)60年代末,它意識(shí)到這種專業(yè)知識(shí)也可以用于光刻技術(shù)。它開(kāi)發(fā)了一種掃描儀,可以將掩模圖案投射到硅晶圓上,同時(shí)以幾乎無(wú)瑕疵的精度對(duì)準(zhǔn)它們。然后,掃描儀像復(fù)印機(jī)一樣在硅片上移動(dòng)光線,在上面畫(huà)上光的線條。事實(shí)證明,這種工具能夠制造出小到一微米的晶體管。

但隨著芯片功能變得越來(lái)越小,這種方法并不實(shí)用。到 20 世紀(jì) 70 年代末,掃描儀開(kāi)始被步進(jìn)機(jī)所取代,步進(jìn)機(jī)是在晶圓上以離散步驟移動(dòng)光線的機(jī)器。步進(jìn)器面臨的挑戰(zhàn)是以微米級(jí)精度移動(dòng)光線,使每個(gè)閃光燈與芯片完美對(duì)齊。GCA 是一家總部位于波士頓的公司,據(jù)報(bào)道,它是在德州儀器高管張忠謀 (后來(lái)成為臺(tái)積電的創(chuàng)始人) 的建議下設(shè)計(jì)了第一個(gè)步進(jìn)工具。

新英格蘭的專業(yè)光刻公司很快就面臨著激烈的競(jìng)爭(zhēng)。20 世紀(jì) 80 年代,隨著日本芯片制造商開(kāi)始贏得存儲(chǔ)芯片生產(chǎn)的主要市場(chǎng)份額,他們開(kāi)始從尼康和佳能這兩家本土光刻工具生產(chǎn)商那里購(gòu)買產(chǎn)品。大約在同一時(shí)間,荷蘭芯片制造商飛利浦分拆了自己的光刻工具制造部門,將新公司命名為 ASML。

GCA 仍然是美國(guó)光刻冠軍,但在競(jìng)爭(zhēng)中舉步維艱。它的光刻技術(shù)被廣泛認(rèn)為是一流的,但機(jī)器本身的可靠性不如日本和荷蘭新競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的機(jī)器。此外,GCA未能預(yù)見(jiàn)到20世紀(jì)80年代的一系列芯片行業(yè)景氣周期。它很快發(fā)現(xiàn)自己財(cái)務(wù)過(guò)度擴(kuò)張,到本世紀(jì)末,瀕臨破產(chǎn)。鮑勃-諾伊斯(Bob Noyce)試圖拯救這家公司;作為Sematech(一個(gè)由政府支持的半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu),旨在振興美國(guó)芯片行業(yè))的負(fù)責(zé)人,他向GCA投入了數(shù)百萬(wàn)美元。然而,這并不足以阻止該公司急速走向崩潰。光刻行業(yè)由此進(jìn)入由三家公司(兩家日本公司和一家荷蘭公司)定義的 20 世紀(jì) 90 年代。

一個(gè)行業(yè)的衰落

美國(guó)光刻行業(yè)的衰落與該領(lǐng)域技術(shù)復(fù)雜性的巨大飛躍相吻合。可見(jiàn)光的波長(zhǎng)為幾百納米,到20世紀(jì)80年代,用它來(lái)描繪最小的晶體管就顯得過(guò)于寬泛。因此,該行業(yè)轉(zhuǎn)向使用氟化氪和氟化氬等新化學(xué)品來(lái)創(chuàng)造深紫外光,其波長(zhǎng)低至193納米。到21世紀(jì)初,在這種紫外線本身被證明是一種過(guò)于遲鈍的工具之后,人們發(fā)明了可以通過(guò)水發(fā)射光的***,產(chǎn)生更銳利的折射角,從而提高精度。然后,在這種“浸沒(méi)式”光刻被證明不足以實(shí)現(xiàn)芯片上最精細(xì)的特征之后,光刻師開(kāi)始使用多重圖案化技術(shù)。

然而,早在 20 世紀(jì) 90 年代,人們就清楚需要波長(zhǎng)更小的新光源來(lái)繼續(xù)制造更小的晶體管。美國(guó)最大的芯片制造商英特爾公司領(lǐng)導(dǎo)了對(duì)極紫外光刻的早期投資,使用一種波長(zhǎng)為13.5納米的光。這對(duì)于具有大致相同尺寸的圖案形狀來(lái)說(shuō)足夠精確。但世界上僅存的光刻技術(shù)公司中,只有ASML公司有膽量將其未來(lái)押在這項(xiàng)需要三十年和數(shù)十億美元開(kāi)發(fā)的技術(shù)上。在很長(zhǎng)一段時(shí)間里,許多行業(yè)專家認(rèn)為它永遠(yuǎn)不會(huì)成功。

以足夠規(guī)模生產(chǎn)EUV光是人類歷史上最復(fù)雜的工程挑戰(zhàn)之一。ASML的方法需要取一個(gè)30微米寬的錫球,用超高功率的二氧化碳激光器將其粉碎兩次。這將錫球爆炸成一個(gè)溫度為幾十萬(wàn)度的等離子體。等離子體發(fā)射出EUV光,然后必須用有史以來(lái)最平坦的鏡子來(lái)收集,每個(gè)鏡子由幾十個(gè)交替的、納米厚的硅和鉬層組成。這些鏡子由一套執(zhí)行器和傳感器保持幾乎完全靜止,它們的制造商說(shuō),這些執(zhí)行器和傳感器非常精確,可以用來(lái)引導(dǎo)激光打出遠(yuǎn)至月球的高爾夫球。

生產(chǎn) EUV 系統(tǒng)中的專用組件需要構(gòu)建復(fù)雜的國(guó)際供應(yīng)鏈。這種高功率激光器由一家名為 Trumpf 的德國(guó)公司制造,該公司專門生產(chǎn)精密切割工具。這些鏡子由蔡司生產(chǎn),蔡司是另一家在光學(xué)專業(yè)領(lǐng)域擁有悠久歷史的德國(guó)公司。錫球粉碎室由位于圣地亞哥的 Cymer 公司設(shè)計(jì),后來(lái)被 ASML 直接收購(gòu)。一臺(tái)擁有數(shù)十萬(wàn)個(gè)零部件的機(jī)器只有在多個(gè)大洲的公司參與的情況下才能生產(chǎn),即使其組裝由一家公司壟斷。

如今,EUV 光刻工具用于生產(chǎn)手機(jī)、個(gè)人電腦和數(shù)據(jù)中心的許多關(guān)鍵芯片。典型的智能手機(jī)處理器將擁有超過(guò) 100 億個(gè)微型晶體管,每個(gè)晶體管均采用 Lathrop 首創(chuàng)的光刻工藝印刷。光刻技術(shù)已被用來(lái)制造數(shù)以百萬(wàn)計(jì)的晶體管,使它們成為人類歷史上生產(chǎn)最廣泛的制成品。

然而,也許最重要的是,EUV光刻技術(shù)在生產(chǎn)先進(jìn)的數(shù)據(jù)中心所需的芯片中的作用。大型人工智能系統(tǒng)通常在最先進(jìn)的芯片上進(jìn)行訓(xùn)練,這意味著它們受益于只有EUV光刻技術(shù)才能有效制造的超先進(jìn)的晶體管。這使得光刻技術(shù)成為地緣政治爭(zhēng)奪的問(wèn)題全球的計(jì)算能力取決于對(duì)一家公司生產(chǎn)的單一工具的使用,這一事實(shí)說(shuō)明了光刻在世界科技領(lǐng)域發(fā)揮的核心作用。該行業(yè)極其復(fù)雜——是全球光學(xué)和材料科學(xué)專家網(wǎng)絡(luò)深入研究努力以及數(shù)十億美元投資的結(jié)果。

自從Lathrop從事引信工作以來(lái),該行業(yè)已經(jīng)走過(guò)了漫長(zhǎng)的道路。他于1968年離開(kāi)德州儀器公司,在那里工作了十年,并在克萊姆森大學(xué)擔(dān)任教授,他的父親曾在那里學(xué)習(xí),離他父母當(dāng)時(shí)居住的地方不遠(yuǎn)。Lathrop在他職業(yè)生涯的剩余時(shí)間里一直在教書(shū),盡管在20世紀(jì)70年代和80年代的夏天,他將回到TI與他的老朋友Jack Kilby一起工作,開(kāi)發(fā)太陽(yáng)能光伏技術(shù)的努力未獲成功。Lathrop于1988年從克萊姆森大學(xué)退休,給數(shù)千名電氣工程專業(yè)的學(xué)生留下了深刻的印象。

與此同時(shí),他發(fā)明的光刻工藝也在不斷進(jìn)步。幾年后,ASML 將發(fā)布其 EUV 技術(shù)的新版本,稱為高數(shù)值孔徑 EUV,該技術(shù)將實(shí)現(xiàn)更精確的光刻。對(duì)未來(lái)更加精確的工具的研究正在進(jìn)行中,但尚不清楚它是否具有實(shí)際或商業(yè)可行性。我們必須希望它是可行的,因?yàn)槟柖傻奈磥?lái)以及它所帶來(lái)的計(jì)算方面的進(jìn)步都取決于它。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    463

    文章

    53973

    瀏覽量

    465427
  • 晶體管
    +關(guān)注

    關(guān)注

    78

    文章

    10393

    瀏覽量

    147587
  • 光刻工藝
    +關(guān)注

    關(guān)注

    1

    文章

    38

    瀏覽量

    2104

原文標(biāo)題:一文了解光刻的歷史

文章出處:【微信號(hào):ICViews,微信公眾號(hào):半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    中國(guó)打造自己的EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)!

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(/黃山明)芯片,直被譽(yù)為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設(shè)備光刻機(jī)就是 雕刻這個(gè)結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機(jī)還不夠,還需要
    的頭像 發(fā)表于 10-28 08:53 ?6600次閱讀

    俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機(jī)路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(/吳子鵬)?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中,光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”,而極紫外(EUV)光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長(zhǎng)期以來(lái),荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
    的頭像 發(fā)表于 10-04 03:18 ?1w次閱讀
    俄羅斯亮劍:公布EUV<b class='flag-5'>光刻</b>機(jī)路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    Shell歷史命令history用法

    ! 加上命令編號(hào),可以重復(fù)執(zhí)行歷史命令。 「示例代碼」:!100# 重復(fù)執(zhí)行編號(hào)為100的歷史命令 3. 使用 !! 重復(fù)執(zhí)行上條命令 「介紹」:!! 用于重復(fù)執(zhí)行上條命令。「示
    發(fā)表于 12-02 06:10

    ALM(應(yīng)用生命周期管理)解析:了解其概念、關(guān)鍵階段及Perforce ALM工具推薦

    什么是ALM(應(yīng)用生命周期管理)?它遠(yuǎn)不止是SDLC!了解其概念、關(guān)鍵階段以及如何借助Perforce ALM這類工具,實(shí)現(xiàn)端到端的可追溯性、加速發(fā)布并保障合規(guī)性。
    的頭像 發(fā)表于 09-19 11:03 ?1794次閱讀
    ALM(應(yīng)用生命周期管理)解析:<b class='flag-5'>一</b><b class='flag-5'>文</b><b class='flag-5'>了解</b>其概念、關(guān)鍵階段及Perforce ALM工具推薦

    改善光刻圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻圖形線寬變化直接影響器件性能與集成度。精確控制光刻圖形線寬是保障工藝精度的關(guān)鍵。本文將介紹改善光刻圖形線寬變化的方法,并探討白光干涉儀在光刻圖形測(cè)
    的頭像 發(fā)表于 06-30 15:24 ?936次閱讀
    改善<b class='flag-5'>光刻</b>圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    改善光刻圖形垂直度的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻圖形的垂直度對(duì)器件的電學(xué)性能、集成密度以及可靠性有著重要影響。精準(zhǔn)控制光刻圖形垂直度是保障先進(jìn)制程工藝精度的關(guān)鍵。本文將系統(tǒng)介紹改善光刻圖形垂直度的方法,并
    的頭像 發(fā)表于 06-30 09:59 ?639次閱讀
    改善<b class='flag-5'>光刻</b>圖形垂直度的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    了解電壓諧波

    我們經(jīng)常會(huì)聽(tīng)到諧波,到底什么是諧波,怎么定義的?為什么要關(guān)注諧波?什么時(shí)候關(guān)注諧波?諧波如何計(jì)算或標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的諧波的算法是怎樣的?GB關(guān)于電壓諧波又是如何評(píng)估的?帶著諸多的問(wèn)題,我們一起來(lái)了解
    的頭像 發(fā)表于 06-28 17:23 ?4628次閱讀
    <b class='flag-5'>一</b><b class='flag-5'>文</b><b class='flag-5'>了解</b>電壓諧波

    為什么光刻要用黃光?

    進(jìn)入過(guò)無(wú)塵間光刻區(qū)的朋友,應(yīng)該都知道光刻區(qū)里用的都是黃燈,這個(gè)看似很簡(jiǎn)單的問(wèn)題的背后卻蘊(yùn)含了很多鮮為人知的道理,那為什么實(shí)驗(yàn)室光刻要用黃光呢? 光刻是微流控芯片制造中的重要工藝之
    的頭像 發(fā)表于 06-16 14:36 ?1220次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?1315次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻</b>膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

    出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機(jī)對(duì)電子束質(zhì)量的要求。 只有對(duì)聚焦電極改進(jìn)才是最佳選擇,以下介紹該進(jìn)后的電極工作原理。通過(guò)把電子束壓縮到中心線達(dá)到縮束的目的,使電子束分布在條直線
    發(fā)表于 05-07 06:03

    光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件免費(fèi)試用

    光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進(jìn)行掩模版加工制造,在掩膜加工領(lǐng)域或者無(wú)掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺,在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
    發(fā)表于 05-02 12:42

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?9278次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻</b>膠的類型及特性

    最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測(cè)

    ——薄膜制作(Layer)、圖形光刻(Pattern)、刻蝕和摻雜,再到測(cè)試封裝,目了然。 全書(shū)共分20章,根據(jù)應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的主要技術(shù)分類來(lái)安排章節(jié),包括與半導(dǎo)體制造相關(guān)的基礎(chǔ)技術(shù)信息;總體流程圖
    發(fā)表于 04-15 13:52

    【「芯片通識(shí)課:本書(shū)讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】了解芯片怎樣制造

    ,三合工藝平臺(tái),CMOS圖像傳感器工藝平臺(tái),微電機(jī)系統(tǒng)工藝平臺(tái)。 光掩模版:基板,不透光材料 光刻膠:感光樹(shù)脂,增感劑,溶劑。 正性和負(fù)性。 光刻工藝: 涂光刻膠。掩模版向下曝光。定
    發(fā)表于 03-27 16:38