6月29日，比利時(shí)微電子研究中心（imec）和阿斯麥asml宣布，將在高端high-na極紫外線（euv）光馬托格測試線的下一階段加強(qiáng)合作。

據(jù)悉，簽署的諒解備忘錄包括在比利時(shí)魯汶設(shè)置imec測試線及asml的所有尖端光標(biāo)及測量設(shè)備的服務(wù)。最新款0.55 na euv （twinscan exe:5200）、最新款0.33 na euv （twinscan nxe:3800）、duv淬火（twinscan nxe： 2100i）、yieldstar光學(xué)測量、hmi多光束。

報(bào)道指出，這兩家企業(yè)在光控圖表和測量技術(shù)方面的合作，與歐盟及其成員國的前景和計(jì)劃是一致的。因此，imec和asml的合作被納入荷蘭政府目前正在討論的ipcei提案。

asml的總裁兼首席執(zhí)行官peter wennink表示，asml為促進(jìn)歐洲半導(dǎo)體研究和持續(xù)創(chuàng)新，在imec最尖端測試設(shè)備上做出了重要承諾。隨著人工智能（ai）迅速擴(kuò)展到自然語言處理、電腦視覺、自律系統(tǒng)等，業(yè)務(wù)的復(fù)雜性越來越大。因此，開發(fā)在不耗盡地球?qū)氋F能源資源的情況下，滿足這種計(jì)算需求的芯片技術(shù)是最重要的。