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北方華創(chuàng)“半導(dǎo)體晶片處理腔室及半導(dǎo)體處理設(shè)備”專利獲授權(quán)

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-11-15 10:38 ? 次閱讀
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北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司的“半導(dǎo)體晶片處理腔室及半導(dǎo)體處理設(shè)備”專利獲批。許可公告日為11月14日,許可公告號為cn111799191b。

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根據(jù)發(fā)明專利要點(diǎn),該公司提供的一種半導(dǎo)體晶片處理腔室及半導(dǎo)體處理設(shè)備;半導(dǎo)體晶片處理腔室包括腔體、設(shè)置在該腔體內(nèi)可沿豎直方向移動(dòng)的片盒和設(shè)置在腔體內(nèi)的加熱組件,還包括溫度檢測組件,該溫度檢測組件的檢測部為溫度檢測板,該溫度檢測板設(shè)置在腔體內(nèi),且與腔體固定連接,用于檢測腔體的內(nèi)部溫度。

本發(fā)明提供的半導(dǎo)體晶片處理腔室可以解決現(xiàn)有熱電偶的導(dǎo)線連接安全問題。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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