上海證券交易所（上交所）近日宣布，北京晶亦精微科技股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“晶亦精微”）的首次公開(kāi)募股（IPO）已經(jīng)成功過(guò)會(huì)，未來(lái)該公司將在科創(chuàng)板上市。晶亦精微是一家專(zhuān)注于半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的公司，主要從事化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）設(shè)備及其配件的研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售和技術(shù)服務(wù)。

根據(jù)資料顯示，晶亦精微計(jì)劃通過(guò)此次上市募資12.9億元，資金將主要用于“高端半導(dǎo)體裝備研發(fā)項(xiàng)目”、“高端半導(dǎo)體裝備工藝提升及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”以及“高端半導(dǎo)體裝備研發(fā)與制造中心建設(shè)項(xiàng)目”。這些項(xiàng)目的實(shí)施，將助力晶亦精微在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)更大的技術(shù)突破和市場(chǎng)拓展。

其中，高端半導(dǎo)體裝備研發(fā)與制造中心建設(shè)項(xiàng)目總投資額達(dá)到5.55億元。該項(xiàng)目將重點(diǎn)布局第三代半導(dǎo)體材料CMP成套工藝及設(shè)備的開(kāi)發(fā)，旨在攻克SiC高效全局平坦化技術(shù)難題。此外，該項(xiàng)目還將實(shí)現(xiàn)研磨液循環(huán)利用系統(tǒng)、研磨液均勻分布系統(tǒng)等在研技術(shù)的產(chǎn)品化及產(chǎn)業(yè)化落地，進(jìn)一步提升晶亦精微在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的核心競(jìng)爭(zhēng)力。

晶亦精微的成功過(guò)會(huì)標(biāo)志著公司在科創(chuàng)板上市的道路上邁出了堅(jiān)實(shí)的一步。未來(lái)，隨著資金的到位和項(xiàng)目的實(shí)施，晶亦精微有望在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域取得更大的突破和發(fā)展，為推動(dòng)我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步作出重要貢獻(xiàn)。