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華為顯示面板專利公布,聚焦介質層、平坦化層、像素界定層及電路設計

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-02-21 09:40 ? 次閱讀
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據(jù)天眼查數(shù)據(jù)揭示,華為技術有限公司于2024年2月20日公布了其關于“顯示面板、顯示面板制備方式及顯示設備”的創(chuàng)新專利(專利號CN117580389A)。該專利主要涉及顯示技術領域。

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該專利主要內(nèi)容如下:顯示面板由層間介質層、平坦化層和像素界定層有序堆疊而成;在顯示面板非像素區(qū)的第一功能層內(nèi)置入內(nèi)切結構和至少一個電極搭接結構,其中電極搭接結構主要包含輔助電極和施加電極兩部分,施加電極通過內(nèi)切結構與顯示面板的第一陰極層相連;內(nèi)切結構的作用不僅限于隔離第一功能層,更重要的是通過引入輔助電極和施加電極這兩個元素,借助內(nèi)切結構實現(xiàn)對顯示面板各層的隔離,確保施加電極能與其搭接的輔助電極順利連接,進而引導輔助電極與陰極層實現(xiàn)緊密的表面接觸,從而提高了顯示面板內(nèi)部壓差大的區(qū)域的電能利用率,有效降低了電壓損耗現(xiàn)象的發(fā)生。

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