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龍圖光罩科創(chuàng)板IPO注冊(cè)申請(qǐng)獲批

CHANBAEK ? 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2024-02-27 11:40 ? 次閱讀
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證監(jiān)會(huì)近日披露了對(duì)深圳市龍圖光罩股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱“龍圖光罩”)首次公開發(fā)行股票注冊(cè)的批復(fù),正式同意龍圖光罩的科創(chuàng)板IPO注冊(cè)申請(qǐng)。這一決定標(biāo)志著龍圖光罩向著公開資本市場(chǎng)邁出了堅(jiān)實(shí)的一步。

龍圖光罩,作為國(guó)內(nèi)稀缺的獨(dú)立第三方半導(dǎo)體掩模版廠商,專注于半導(dǎo)體掩模版的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。經(jīng)過多年的技術(shù)積累和創(chuàng)新突破,公司已掌握130nm及以上節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體掩模版制作的關(guān)鍵技術(shù),并形成了涵蓋CAM、光刻、檢測(cè)全流程的核心技術(shù)體系。這一技術(shù)體系不僅提升了公司在行業(yè)內(nèi)的技術(shù)地位,更為其在國(guó)內(nèi)乃至全球市場(chǎng)的競(jìng)爭(zhēng)力奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

值得一提的是,在功率半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域,龍圖光罩的工藝節(jié)點(diǎn)已覆蓋全球功率半導(dǎo)體主流制程的需求。這一成就的取得,不僅展現(xiàn)了公司在半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域的深厚技術(shù)底蘊(yùn),也進(jìn)一步證明了其在滿足市場(chǎng)需求、推動(dòng)行業(yè)發(fā)展方面的能力。

此次科創(chuàng)板IPO注冊(cè)申請(qǐng)的獲批,對(duì)于龍圖光罩而言,不僅意味著公司融資渠道的拓寬和資本實(shí)力的增強(qiáng),更是對(duì)其在半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域的技術(shù)實(shí)力和市場(chǎng)前景的肯定。未來(lái),隨著公司上市進(jìn)程的推進(jìn)和資金的注入,龍圖光罩有望在半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)更大規(guī)模的突破和發(fā)展,為推動(dòng)我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步做出更大貢獻(xiàn)。

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