韓國政府正在擴大稅收支持，將高帶寬存儲器（HBM）、有機發(fā)光二極管（OLED）和氫相關(guān)設施納入韓國國家戰(zhàn)略技術(shù)。

韓國企劃財政部于2月27日公布了《2023年稅法修正案后續(xù)執(zhí)行規(guī)則修正案草案》，執(zhí)行規(guī)則的修訂將于3月28日至13日公布。隨后，經(jīng)與韓國各部委協(xié)商并經(jīng)政府立法部審查后，計劃于下個月頒布實施。

韓國國家戰(zhàn)略性技術(shù)產(chǎn)業(yè)研發(fā)投資稅收抵免，中小企業(yè)為40%至50%，大中型企業(yè)為30%至40%。

此次修訂，韓國戰(zhàn)略財政部決定將國家戰(zhàn)略技術(shù)轉(zhuǎn)化設施的數(shù)量從現(xiàn)有的7個領(lǐng)域、50個設備增加到4個，增加到7個領(lǐng)域、54個設備。

如果被指定為國家戰(zhàn)略技術(shù)商業(yè)化設備，則與一般設施相比，可享受更高的投資稅收抵免率。大中型企業(yè)可獲得高達15%的稅收抵免，中小企業(yè)可獲得高達25%的稅收抵免。

就半導體而言，高帶寬存儲器（HBM）是在現(xiàn)有的下一代存儲器半導體設計和制造技術(shù)中新增的。

對于顯示器，將建立新的OLED像素形成和封裝工藝設備和組件技術(shù)。氫氣新定為△氫氣燃氣輪機設計與生產(chǎn)、△氫還原煉鋼、△儲氫高效技術(shù)。

韓國企劃財政部計劃在初步通報立法、與各部委協(xié)商、政府立法部審查后，于3月內(nèi)頒布實施修訂后的實施細則。該技術(shù)的應用將從今年1月1日或之后開始的納稅年度開始實施。

韓國企劃財政部稅收政策局長樸金哲前一天在世宗政府大樓舉行簡報會時表示：“如果從廣義上看國家戰(zhàn)略技術(shù)，有研發(fā)領(lǐng)域和商業(yè)化領(lǐng)域。設施領(lǐng)域?！彼a充說，“上次執(zhí)行條例中公布了研發(fā)領(lǐng)域，這次是關(guān)于商業(yè)化設施?！?/p>

審核編輯：劉清