京東方科技集團股份有限公司近期獲得了一項名為“一種光電子集成基板及其制作方法、光電子集成電路”的專利，專利號為CN113571536B，授權(quán)公告日期是2024年5月7日，申請日期為2021年7月26日。

此項專利中，申請人提出了一種全新的光電子集成基板以及其制造方法，并在此基礎(chǔ)上設(shè)計出了相應(yīng)的光電子集成電路。這種集成基板主要由襯底、電子元件和光學(xué)元件三部分組成，其中電子元件位于襯底一側(cè)，包含薄膜晶體管這一核心組件；光學(xué)元件則位于襯底另一側(cè)，包括光電二極管，其結(jié)構(gòu)包括N型半導(dǎo)體層、本征半導(dǎo)體層和P型半導(dǎo)體層，這些層都與半導(dǎo)體有源層處于同一層面。

值得注意的是，這項發(fā)明的優(yōu)點在于，它使得顯示基板的光電子集成基板光電二極管與薄膜晶體管的制作工藝具有高度的兼容性，從而大大減少了所需mask的數(shù)量，降低了制造成本。此外，通過優(yōu)化設(shè)計，在保證藍(lán)光信號光吸收的同時，還能有效減少對長波長環(huán)境光的吸收，提高了光電二極管的光譜選擇性，有助于進一步降低誤碼率。