在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的過程中，需要把PDMS膠或SU-8光刻膠根據(jù)所需要的厚度來選擇合適的旋涂轉(zhuǎn)速并且使PDMS膠或SU-8膠涂布均勻化。
如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠？
基底上SU-8光刻膠的圖層可以通過若干種技術(shù)來完成。最常用的技術(shù)是旋涂技術(shù)，該技術(shù)是在旋轉(zhuǎn)的基底上放置一小灘SU-8光刻膠。旋轉(zhuǎn)速度、加速度和SU-8光刻膠的黏度將會決定SU-8光刻膠層（如下簡稱膠層）的厚度。
使用旋涂機來旋涂SU-8光刻膠，相比于其它技術(shù)來講，旋涂機會使用比所需要的SU-8膠更多的用量，因為95%的SU-8光刻膠在旋轉(zhuǎn)涂布的過程中都損失掉了。然后，旋涂技術(shù)是實驗室內(nèi)使用最多的技術(shù)，因為它易于使用并且真正的可重復(fù)使用。
旋涂SU-8光刻膠的成功與否不僅要匹配所選擇的實驗設(shè)備，而且也要留意實驗的參數(shù)。本文簡要介紹一些技巧來提高涂布SU-8光刻膠成功的可能性。
成功SU-8光刻膠旋涂的相關(guān)參數(shù)
基底潤濕性
如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠？
SU-8光刻膠旋涂在什么基底上并不重要，重要的是SU-8光刻膠在基底表面上均勻分布，在烘烤期間不發(fā)生收縮而且在涂膠結(jié)束后SU-8膠仍能夠停留在基底的表面上。為此，SU-8光刻膠必須足夠潤濕基底。有幾種方法可以確保基底具有良好的潤濕性，例如良好潔凈的晶圓，良好的脫水，部分等離子體處理以及固相或液相中使用助粘劑等等，水的接觸角測量可以用來表征這些圖層或基底表面的潤濕性。事實上，例如，在PET膜上涂覆SU-8 3000（目的是在軟基底上形成干膜），接觸角可達到80°。如果接觸角較高，則SU-8光刻膠在表面上不能正常擴散；如果接觸角較低，則SU-8光刻膠就會粘貼在PET上而不會被剝落。
SU-8光刻膠的粘度
如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠？
不同的SU-8光刻膠具有各自的粘度，較寬泛的粘度范圍使得能夠通過旋涂技術(shù)來獲得從幾百納米到幾百微米的不同厚度的膠層。粘度對膠層的厚度有重大的影響，但是粘度會隨環(huán)境參數(shù)（溫度，濕度）和時間的變化而變化。
粘度的大小取決于溫度的高低，因此，如果其他參數(shù)是恒定的，那么膠層的厚度就是溫度的函數(shù)。所有的參數(shù)（旋轉(zhuǎn)速度，加速度等等）必須能根據(jù)工作溫度來進行調(diào)節(jié)。工作溫度調(diào)節(jié)完成之后，就必須定期的測量工作溫度以確保其保持恒定。我建議您在室溫下使用SU-8光刻膠，因為例如對于一瓶500mL的SU-8樹脂，您在使用前必須至少等待2個小時。
粘度也會隨SU-8光刻膠內(nèi)部的溶劑量的變化而發(fā)生變化。溶劑具有揮發(fā)性，因此，溶劑的百分比會隨時間的延長而發(fā)生變化。這就是為什么如果SU-8光刻膠時間太長或存放方式不對，其黏度會發(fā)生變化。
最后，當使用SU-8光刻膠時，溶劑會在空氣中蒸發(fā)并且必須遵守處理時間。此外，根據(jù)空氣的濕度的不同，溶劑的蒸發(fā)量也會有所不同。所以，例如溫度，需要適當?shù)恼{(diào)整部分參數(shù)以使加工過程適應(yīng)室內(nèi)的濕度。

審核編輯 黃宇