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2025年半導(dǎo)體行業(yè)競爭白熱化:2nm制程工藝成焦點(diǎn)

科技綠洲 ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2024-12-26 14:24 ? 次閱讀
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據(jù)外媒最新報(bào)道,半導(dǎo)體行業(yè)即將在2025年迎來一場激烈的競爭。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步,各大晶圓代工廠將紛紛開始批量生產(chǎn)采用2nm制程工藝的芯片,并努力降低3nm制程工藝芯片的生產(chǎn)成本,以搶占市場份額。

在這場競爭中,臺(tái)積電無疑占據(jù)了領(lǐng)先地位。其2nm生產(chǎn)計(jì)劃已經(jīng)吸引了眾多客戶的關(guān)注,除了蘋果這一大客戶外,臺(tái)積電還成功獲得了大量廠商的密集計(jì)算芯片(HPC)及AI芯片訂單。這一系列訂單的涌入,使得臺(tái)積電在2nm制程工藝訂單方面領(lǐng)先于競爭對(duì)手,如英特爾三星代工廠。

然而,三星在近年來在先進(jìn)制程工藝方面卻遭遇了一些挑戰(zhàn)。特別是在4nm、3nm和即將到來的2nm制程工藝上,三星的良率問題一直備受關(guān)注。早在為高通生產(chǎn)驍龍8 Gen 1芯片時(shí),三星便因?yàn)?nm工藝良率低下而失去了這一重要訂單,最終由臺(tái)積電接手。

面對(duì)即將到來的2nm制程工藝競爭,三星需要盡快解決良率問題,以提升其市場競爭力。而臺(tái)積電則需繼續(xù)保持其領(lǐng)先地位,滿足不斷增長的市場需求。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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