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基于微四探針測(cè)量的熱電性能表征

蘇州埃利測(cè)量?jī)x器有限公司 ? 2025-11-06 18:04 ? 次閱讀
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隨著電子器件尺寸持續(xù)縮小,熱管理問(wèn)題日益突出。熱電材料的三項(xiàng)關(guān)鍵參數(shù)——電導(dǎo)率(σ)、熱導(dǎo)率(κ)和塞貝克系數(shù)(α),共同決定了器件的熱電優(yōu)值(ZT),進(jìn)而影響其能效與可靠性。四探針技術(shù)因其高空間分辨率、無(wú)損接觸和快速測(cè)量等優(yōu)勢(shì)常應(yīng)用于電導(dǎo)率測(cè)量,Xfilm 埃利四探針?lè)阶鑳x是電導(dǎo)率測(cè)量的重要設(shè)備。本文將解析基于諧波電壓分析的微四探針?lè)椒ǎ荚谕ㄟ^(guò)單一測(cè)量同時(shí)獲取σ與α/κ,為全面評(píng)估材料熱電性能提供了新手段。

數(shù)值模擬與理論驗(yàn)證

/Xfilm


本研究首先通過(guò)多物理場(chǎng)仿真軟件COMSOL Multiphysics構(gòu)建了熱電耦合數(shù)值模型,對(duì)測(cè)量理論進(jìn)行了驗(yàn)證。模擬結(jié)果與解析預(yù)測(cè)高度一致,在電壓幅值與相位上的平均誤差小于1%,為實(shí)驗(yàn)方法的可靠性奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

樣品制備與表征

/Xfilm


實(shí)驗(yàn)樣品包括5組校準(zhǔn)樣品(均勻摻雜的p型與n型硅片)和5組測(cè)試樣品(Ge、Si:As及多晶BiTe塊體)。校準(zhǔn)樣品的κref和αref分別通過(guò)瞬態(tài)平面源法(TPS)和斜率法測(cè)得,其標(biāo)準(zhǔn)誤差控制在2.5%以內(nèi),為微四探針測(cè)量結(jié)果提供了可靠的基準(zhǔn)。

微四探針測(cè)量流程

/Xfilm


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本研究中使用的七電極探針的掃描電子顯微鏡圖像

測(cè)量使用四探針設(shè)備,配備七電極探針,電極間距為10 μm。采用頻率為12.06 Hz的交流電流,在0.5–5 mA范圍內(nèi)調(diào)節(jié)電流強(qiáng)度,并利用鎖相放大器精確記錄各諧波下的電壓與相位。通過(guò)多達(dá)158種四探針構(gòu)型的組合測(cè)量,系統(tǒng)性地提取基波電阻(R?ω)與二次諧波電壓(V?ω),并采用三步擬合流程依次得到電阻率、接觸半徑及最終的α/κ比值。

理論模型的實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證

/Xfilm


fb0d334c-baf7-11f0-8ce9-92fbcf53809c.png

樣品4790 在4.08 mA 電流下測(cè)得的微四探針數(shù)據(jù)

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樣品4790 的擬合結(jié)果匯總,以電流平方為橫坐標(biāo)繪制

樣品4790(p型Si:B)為例,在4.08 mA電流下,其基波與二次諧波測(cè)量數(shù)據(jù)與模型擬合優(yōu)度(R2)均超過(guò)0.95,證明了理論模型的準(zhǔn)確性。通過(guò)將不同電流下的α/κ比值外推至零電流,有效消除了電阻溫度系數(shù)的影響,獲得α/κ比值為5.18 ± 0.03 μm A?1,與宏觀參考值4.93 ± 0.25 μm A?1高度吻合。

塞貝克系數(shù)的微區(qū)測(cè)量結(jié)果

/Xfilm


在所有5組校準(zhǔn)樣品中,微四探針測(cè)得的塞貝克系數(shù)(αM4PP)與參考值(αref)的誤差均在不確定度范圍內(nèi)。對(duì)于測(cè)試樣品,除Ge:Sb因費(fèi)米能級(jí)釘扎效應(yīng)無(wú)法有效測(cè)量外,其余如Si:As(αM4PP = -432 μV K?1 vs αref = -435 μV K?1)與Ge:Ga(αM4PP = 560 μV K?1 vs αref = 540 μV K?1)均表現(xiàn)良好。BiTe樣品因多晶各向異性及電流路徑復(fù)雜性,測(cè)量值偏離文獻(xiàn)參考約20–30%,這反映了微區(qū)測(cè)量對(duì)局部微觀結(jié)構(gòu)的敏感性。

本實(shí)驗(yàn)成功開(kāi)發(fā)并驗(yàn)證了一種基于微四探針的諧波電壓分析方法,能夠在微米尺度下同時(shí)測(cè)量材料的電導(dǎo)率與塞貝克系數(shù)/熱導(dǎo)率比值。該方法在多種半導(dǎo)體材料中表現(xiàn)出高精度與重復(fù)性,為微納器件熱電性能的原位表征提供了有力工具。

Xfilm埃利四探針?lè)阶鑳x

/Xfilm


Xfilm埃利四探針?lè)阶鑳x用于測(cè)量薄層電阻(方阻)或電導(dǎo),可以對(duì)樣品進(jìn)行快速、自動(dòng)的掃描,獲得樣品不同位置的方阻/電阻率分布信息。

fb430e04-baf7-11f0-8ce9-92fbcf53809c.png

超高測(cè)量范圍,測(cè)量1mΩ~100MΩ

高精密測(cè)量,動(dòng)態(tài)重復(fù)性可達(dá)0.2%

全自動(dòng)多點(diǎn)掃描,多種預(yù)設(shè)方案亦可自定義調(diào)節(jié)

快速材料表征,可自動(dòng)執(zhí)行校正因子計(jì)算

基于四探針?lè)?/strong>的Xfilm埃利四探針?lè)阶鑳x,憑借智能化與高精度的電阻測(cè)量優(yōu)勢(shì),助力評(píng)估電子器件材料的熱電性能,推動(dòng)多領(lǐng)域的材料檢測(cè)技術(shù)升級(jí)。

#四探針#薄層電導(dǎo)測(cè)量#方阻測(cè)量#表面電阻測(cè)量#電導(dǎo)率測(cè)量#熱導(dǎo)率測(cè)量

原文參考:《Determination of thermoelectric properties frommicro four-point probe measurements》

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