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廣立微2025年Q3業(yè)績(jī)高增,EDA+硅光雙輪驅(qū)動(dòng)國(guó)產(chǎn)替代新突破

Monika觀察 ? 來(lái)源:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 作者:莫婷婷 ? 2025-11-27 03:12 ? 次閱讀
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電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,在AI芯片、先進(jìn)封裝與特色工藝加速演進(jìn)的背景下,EDA作為集成電路產(chǎn)業(yè)的“基石工具”,其戰(zhàn)略價(jià)值日益凸顯。廣立微作為國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的EDA軟件與晶圓級(jí)電性測(cè)試設(shè)備供應(yīng)商,于2025年第三季度交出亮眼成績(jī)單,并持續(xù)深化其在成品率提升與硅光等前沿領(lǐng)域的技術(shù)布局。

業(yè)績(jī)高增長(zhǎng):Q3凈利潤(rùn)同比激增321%,研發(fā)投入占比超53%
由于高端客戶對(duì)先進(jìn)工藝開發(fā)和成品率提升需求持續(xù)旺盛,廣立微在第三季度實(shí)現(xiàn)凈利潤(rùn)翻了三倍。財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)顯示,廣立微前三季度實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入4.28億元,同比增長(zhǎng)48.86%;歸屬于上市公司股東的凈利潤(rùn)達(dá)3701.72萬(wàn)元,同比大幅增長(zhǎng)380.14%。其中,第三季度單季營(yíng)收1.82億元,同比增長(zhǎng)57.31%;歸母凈利潤(rùn)2133.3萬(wàn)元,同比飆升321.35%,環(huán)比亦顯著提升。

研發(fā)投入方面,前三季度廣立微持續(xù)保持高研發(fā)投入,高達(dá)2.3億元,占營(yíng)收比重達(dá)53.68%。

廣立微以EDA軟件與電性測(cè)試設(shè)備硬件相結(jié)合的軟硬件一體化解決方案,擁有軟件開發(fā)及授權(quán)、測(cè)試設(shè)備及配件、測(cè)試服務(wù)及其他三大類業(yè)務(wù)。

隨著集成電路工藝節(jié)點(diǎn)逼近物理極限,加之 AI芯片、汽車電子、5G等應(yīng)用領(lǐng)域的深入以及硅光芯片、 先進(jìn)封裝策略興起,傳統(tǒng)測(cè)試方法已難以滿足14nm及以下先進(jìn)制程對(duì)數(shù)據(jù)密度、測(cè)試效率與成本控制的要求。

廣立微自研的 EDA工具和電路 IP所設(shè)計(jì)的先進(jìn)測(cè)試芯片與晶圓級(jí)電性測(cè)試設(shè)備配合協(xié)同,可以顯著提升芯片的面積利用率和測(cè)試效率,有效減少掩模成本和流片失敗的風(fēng)險(xiǎn),縮短工藝開發(fā)和產(chǎn)品驗(yàn)證時(shí)間,使客 戶產(chǎn)品更具市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。

以14nm工藝開發(fā)為例,單次流片掩模成本約240萬(wàn)美元,而采用廣立微的可尋址測(cè)試芯片設(shè)計(jì)技術(shù)可在同一光罩上集成更多測(cè)試結(jié)構(gòu),大幅減少流片次數(shù),縮短工藝驗(yàn)證周期,同時(shí)獲取更豐富的電性數(shù)據(jù)支撐工藝優(yōu)化。這一能力在AI芯片、汽車電子、5G射頻等對(duì)可靠性要求極高的領(lǐng)域尤為重要。

目前,廣立微的EDA工具鏈已覆蓋從工藝開發(fā)、器件建模到成品率分析的全流程,并成功應(yīng)用于多個(gè)國(guó)內(nèi)主流晶圓廠的先進(jìn)邏輯與特色工藝平臺(tái)。其軟件不僅支持傳統(tǒng)CMOS工藝,還適配FD-SOI、BCD、高壓器件等特色工藝,形成差異化競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。

廣立微業(yè)績(jī)的增長(zhǎng)還得益于產(chǎn)品品類開拓帶來(lái)業(yè)績(jī)?cè)隽?。在電子自?dòng)化設(shè)計(jì)工具方面,公司不斷增加良率提升相關(guān)EDA產(chǎn)品、半導(dǎo)體數(shù)據(jù)分析軟件品類并進(jìn)行技術(shù)迭代,同時(shí) 推出了可測(cè)試性設(shè)計(jì)(DFT)工具、可制造性設(shè)計(jì)DFM)工具;在測(cè)試設(shè)備方面,從研 發(fā)用機(jī)成功拓展至量產(chǎn)用WAT測(cè)試機(jī),并推出了通用型WAT測(cè)試設(shè)備T4000系列、面向先進(jìn)工藝的T4100S系列等;在數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)方面,覆蓋整個(gè)集成電路生命周期的半導(dǎo)體數(shù)據(jù)軟件系統(tǒng)。

在今年上半年,廣立微在DFT 產(chǎn)品的研發(fā)進(jìn)展主要有兩個(gè)方面:一是對(duì)工具架構(gòu)進(jìn)行全面升級(jí),對(duì)核心模塊重構(gòu)并支持?jǐn)U展需求,以提高產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力;二是自研良率感知診斷分析平臺(tái) YAD,通過(guò) “DFT 診斷技術(shù) +AI 智能分析” 雙核賦能,實(shí)現(xiàn)設(shè)計(jì)、 制造、測(cè)試數(shù)據(jù)的實(shí)時(shí)關(guān)聯(lián)和分析。

前瞻布局硅光賽道,拓展EDA新邊界
值得關(guān)注的是,廣立微正積極將EDA能力向新興的硅光領(lǐng)域延伸。今年8月,廣立微收購(gòu)了比利時(shí)的硅光芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化企業(yè)LUCEDA。該公司提供光電子集成芯片設(shè)計(jì)、仿真、PDK搭建及運(yùn)維的全流程軟件和服務(wù)。此次收購(gòu)成功后,將助力廣立微實(shí)現(xiàn)從傳統(tǒng)EDA到PDA的拓展。

廣立微表示,公司將與LUCEDA在以下方面開展具體協(xié)作:

一是進(jìn)一步補(bǔ)齊并完善硅光設(shè)計(jì)自動(dòng)化工具鏈:包括推進(jìn) 光電協(xié)同設(shè)計(jì)平臺(tái)(EPDA)的研發(fā)與應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)光電器件的統(tǒng) 一設(shè)計(jì)與協(xié)同仿真;推動(dòng)硅光子器件及功能模塊的IP化進(jìn)程,建 立標(biāo)準(zhǔn)化、可復(fù)用的IP庫(kù)資源等。

二是布局硅光制造良率提升解決方案:依托廣立微在半導(dǎo) 體制造EDA工具和良率提升解決方案的深厚技術(shù)積累,結(jié)合 LUCEDA在硅光子設(shè)計(jì)領(lǐng)域的前沿技術(shù)專長(zhǎng),雙方將開展深度協(xié) 同創(chuàng)新,協(xié)作開發(fā)硅光測(cè)試芯片,硅光DFM工具等產(chǎn)品,打造 硅光良率提升解決方案。

三是拓展晶圓級(jí)硅光檢測(cè)設(shè)備,著力研發(fā)高精度光-電耦合 技術(shù)、多參數(shù)集成測(cè)試及自動(dòng)化技術(shù)等,構(gòu)建設(shè)計(jì)-制造閉環(huán)的軟 硬件協(xié)同優(yōu)化平臺(tái)。

四是協(xié)同開展市場(chǎng)開拓與銷售:一方面助力廣立微拓展歐 美等海外市場(chǎng)業(yè)務(wù)版圖,另一方面推動(dòng) LUCEDA 產(chǎn)品導(dǎo)入國(guó)內(nèi)頭部廠商,進(jìn)一步夯實(shí)公司的行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力與市場(chǎng)地位,加速建設(shè) 具有世界影響力的平臺(tái)型 EDA 企業(yè)。

廣立微依托在電性測(cè)試與器件建模方面的深厚積累,已啟動(dòng)面向硅光器件的EDA工具預(yù)研,并探索將測(cè)試芯片設(shè)計(jì)理念遷移至光子器件表征環(huán)節(jié)。此舉不僅有望打破海外廠商在光子EDA領(lǐng)域的壟斷,也將為公司打開第二增長(zhǎng)曲線。
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