chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

上海重磅發(fā)文:扶持集成電路產(chǎn)業(yè)、攻堅裝備與光刻膠!

jf_15747056 ? 來源:jf_15747056 ? 2026-01-16 16:10 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

近日,上海市政府發(fā)布《上海市支持先進制造業(yè)轉型升級三年行動方案(2026—2028年)》(以下簡稱《行動方案》),其中集成電路被多次提及。

《行動方案》目標指出,到2028年,新增年產(chǎn)值10億元以上制造業(yè)企業(yè)100家,累計超過600家,帶動產(chǎn)業(yè)鏈新增規(guī)上工業(yè)企業(yè)500家,規(guī)上制造業(yè)企業(yè)研發(fā)費用占營收比重顯著提升。

未來,上海將加快先導產(chǎn)業(yè)戰(zhàn)略引領。支持集成電路企業(yè)瞄準裝備、先進工藝、光刻膠材料、3D封裝,實現(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈突破,培育一批具有國際競爭力的龍頭企業(yè)。同時深化全棧創(chuàng)新,推動高性能智算芯片加快發(fā)展。

此外,上海還將加速關鍵核心技術攻關。支持企業(yè)聚焦激光制造、量子、光子、新型功能材料、新型能源等前沿技術開展基礎研究。聚焦集成電路、大飛機、高端裝備、儀器儀表、工業(yè)軟件等重點產(chǎn)業(yè)鏈和產(chǎn)業(yè)鏈關鍵環(huán)節(jié),支持企業(yè)開展核心技術和重點技術攻關。

上海是中國集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展重鎮(zhèn),正深化建設“五個中心”,加快發(fā)展集成電路、生物醫(yī)藥、人工智能等三大先導產(chǎn)業(yè)。目前,上海市已建成集成電路設計產(chǎn)業(yè)園、東方芯港等5個特色園區(qū),支撐產(chǎn)業(yè)生態(tài)。

據(jù)上海市經(jīng)信委最新數(shù)據(jù)顯示,2025年1-11月,全市集成電路產(chǎn)業(yè)營收規(guī)模達3912億元,同比增長23.72%,預計全年規(guī)模將突破4600億元,實現(xiàn)24%的增長。

值得一提的是,近日,“上海集成電路裝備創(chuàng)新園”與“嘉定芯片設計園”也正式揭牌成立。

據(jù)“上海嘉定”消息,上海集成電路裝備創(chuàng)新園將聚焦于光刻膠、光掩膜等核心材料,以及涂膠顯影、薄膜沉積、量檢測等關鍵設備的研發(fā)與制造,致力于實現(xiàn)國產(chǎn)替代。嘉定芯片設計園則瞄準芯片設計領域,依托重點產(chǎn)線工藝,重點突破先進邏輯芯片、高精度模擬芯片及高可靠車規(guī)級芯片的國產(chǎn)化設計與產(chǎn)業(yè)化。

晶揚電子 | 電路與系統(tǒng)保護專家

深圳市晶揚電子有限公司成立于2006年,是國家重點專精特新“小巨人”科技企業(yè)、國家高新技術企業(yè)、深圳知名品牌、廣東省制造業(yè)單項冠軍產(chǎn)品、深圳市制造業(yè)單項冠軍企業(yè),知識產(chǎn)權示范企業(yè),建成廣東省ESD靜電保護芯片工程技術研究中心,榮獲中國發(fā)明創(chuàng)業(yè)獎金獎等。是多年專業(yè)從事IC設計、生產(chǎn)、銷售及系統(tǒng)集成的集成電路設計公司,在成都、武漢和加拿大設立有研發(fā)中心,擁有超百項知識產(chǎn)權和專利,業(yè)內(nèi)著名的“電路與系統(tǒng)保護專家”。為各類電子產(chǎn)品提供全方位、全覆蓋的靜電保護、高邊開關等保護方案。

主營產(chǎn)品:ESD、TVS、MOS管、DC-DC,LDO系列、工業(yè)&車規(guī)傳感器、高邊開關(HSD)芯片、電流傳感器、汽車開關輸入芯片等。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 芯片
    +關注

    關注

    463

    文章

    54369

    瀏覽量

    468879
  • 集成電路
    +關注

    關注

    5462

    文章

    12667

    瀏覽量

    375568
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    國產(chǎn)光刻膠開啟“鉗形攻勢”

    。作為半導體制造中最關鍵的材料之一,其性能更是直接決定了芯片的線寬、集成度和良率。 ? 《國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金三期規(guī)劃》明確將光刻膠等半導體材料列為重點投資領域,計劃投入超過500
    的頭像 發(fā)表于 01-13 09:06 ?6794次閱讀

    中國打造自己的EUV光刻膠標準!

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)芯片,一直被譽為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設備光刻機就是 雕刻這個結晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機還不夠,還需要光刻膠、掩膜版以及
    的頭像 發(fā)表于 10-28 08:53 ?6973次閱讀

    臺階儀在集成電路制造中的應用:高端光刻膠材料純化研究進展

    隨著集成電路制程節(jié)點不斷向納米尺度邁進,光刻技術已從紫外全譜(g線、i線)發(fā)展到深紫外(KrF、ArF)乃至極紫外(EUV)光源。光刻膠作為光刻工藝的核心材料,其純度直接影響
    的頭像 發(fā)表于 03-20 18:05 ?124次閱讀
    臺階儀在<b class='flag-5'>集成電路</b>制造中的應用:高端<b class='flag-5'>光刻膠</b>材料純化研究進展

    光刻膠涂層如何實現(xiàn)納米級均勻性?橢偏儀的工藝控制與缺陷分析

    光刻膠(亦稱光致抗蝕劑)是集成電路制造中的關鍵材料,其純度直接決定光刻圖形的質量與芯片良率。隨著光刻技術向極紫外(EUV,13.5?nm)工藝節(jié)點演進,
    的頭像 發(fā)表于 02-09 18:01 ?491次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>涂層如何實現(xiàn)納米級均勻性?橢偏儀的工藝控制與缺陷分析

    光刻膠剝離工藝

    光刻膠剝離工藝是半導體制造和微納加工中的關鍵步驟,其核心目標是高效、精準地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結構。以下是該工藝的主要類型及實施要點:濕法剝離技術有機溶劑溶解法原理:使用丙酮、NMP
    的頭像 發(fā)表于 09-17 11:01 ?2356次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝

    光刻膠旋涂的重要性及厚度監(jiān)測方法

    在芯片制造領域的光刻工藝中,光刻膠旋涂是不可或缺的基石環(huán)節(jié),而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優(yōu)可測薄膜厚度測量儀AF系列憑借高精度、高速度的特點,為
    的頭像 發(fā)表于 08-22 17:52 ?1977次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>旋涂的重要性及厚度監(jiān)測方法

    國產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長期被日美巨頭壟斷,國外企業(yè)對原料和配方高度保密,我國九成以上光刻膠依賴進口。不過近期,國產(chǎn)光刻膠領域捷報頻
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?7374次閱讀

    行業(yè)案例|膜厚儀應用測量之光刻膠厚度測量

    光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是一種關鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下,溶解度會發(fā)生變化,主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業(yè)。由于
    的頭像 發(fā)表于 07-11 15:53 ?693次閱讀
    行業(yè)案例|膜厚儀應用測量之<b class='flag-5'>光刻膠</b>厚度測量

    針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發(fā)表于 06-25 10:19 ?1266次閱讀
    針對晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精準測量對確保 ARRAY 制程工藝精度
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:56 ?1046次閱讀
    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色,但因其高含量使用帶來的成本、環(huán)保等問題備受關注。同時,光刻圖形的精準
    的頭像 發(fā)表于 06-17 10:01 ?934次閱讀
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液和制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    ? ? 引言 ? 在半導體制造領域,光刻膠剝離工藝是關鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產(chǎn)生負面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質量至關重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?1032次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠產(chǎn)業(yè)國內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀

    如果說最終制造出來的芯片是一道美食,那么光刻膠就是最初的重要原材料之一,而且是那種看起來可能不起眼,但卻能決定一道菜味道的關鍵輔料。 光刻膠(photoresist),在業(yè)內(nèi)又被稱為光阻或光阻劑
    的頭像 發(fā)表于 06-04 13:22 ?1802次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造與微納加工領域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質量。同時,精準測量光刻圖形對把控工藝質量意義重大,白光干涉儀為此提供了
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?1507次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?1w次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性