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英特爾公布三項(xiàng)黑科技 開啟高性能芯片架構(gòu)新領(lǐng)域

jf_1689824270.4192 ? 來源:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 作者:jf_1689824270.4192 ? 2019-07-13 14:45 ? 次閱讀
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美國英特爾于9日(美國時(shí)間)在舊金山舉行的“SEMICON West”上發(fā)布了三項(xiàng)與封裝技術(shù)相關(guān)的新科技。

第一種是“Co-EMIB”技術(shù),它結(jié)合了英特爾的封裝技術(shù)“EMIB(嵌入式多芯片互連橋接器)”和“Foveros”技術(shù),其中邏輯是三維堆疊的。

EMIB和Foveros使用高密度互連來實(shí)現(xiàn)低功耗,高帶寬的芯片到芯片連接。在英特爾,I / O密度與競爭對手的方法類似或更好。

Co-EMIB此次宣布將能夠結(jié)合更高的計(jì)算性能和功能,特別是在單個(gè)芯片中實(shí)現(xiàn)多個(gè)Foveros堆棧并將它們互連。您還可以使用高帶寬和超低功耗連接模擬,內(nèi)存和其他“磁貼”。

第二個(gè)“全向互連(ODI)”為封裝中芯片之間的通信提供了額外的靈活性,該技術(shù)允許頂部芯片與EMIB等其他芯片組合。與Foveros一樣,可以進(jìn)行平行通信,也可以通過基本芯片中的硅通孔(TSV)進(jìn)行垂直通信。

利用ODI,可以通過使用大于傳統(tǒng)TSV來直接從封裝襯底向頂部管芯供電,并且由于通孔很大,因此電阻低,同時(shí)在提供強(qiáng)大功率的同時(shí)實(shí)現(xiàn)更寬的帶寬和延遲。另外,因?yàn)榭梢詼p少基管芯所需的TSV的數(shù)量,所以可以進(jìn)一步確保晶體管的面積,并且可以優(yōu)化管芯尺寸。

第三個(gè)“MDIO”是基于AIB(高級接口總線)PHY級互連的新型管芯間接口。尖端IP塊庫用于實(shí)現(xiàn)模塊化系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法。這提供了更好的功率效率,并且是AIB的引腳速度和帶寬密度的兩倍以上。

英特爾先進(jìn)的封裝技術(shù)可實(shí)現(xiàn)多芯片與多種工藝技術(shù)的集成,而不是將多種功能集成到單個(gè)傳統(tǒng)芯片中,芯片的物理尺寸有限據(jù)說可以在改善性能,功耗和封裝面積的同時(shí)重新思考系統(tǒng)架構(gòu)。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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