動(dòng)態(tài)

• 發(fā)布了文章 2026-01-06 16:49

  澤攸科技 | EBL和EUV光刻機(jī)有何區(qū)別？如何影響半導(dǎo)體行業(yè)？

  

  從技術(shù)路徑上看，電子束光刻和大家熟悉的EUV光刻并不是同一類問(wèn)題的解法。電子束光刻本質(zhì)上是一種直接寫(xiě)入技術(shù)，利用聚焦電子束在抗蝕劑上逐點(diǎn)曝光，通過(guò)電磁控制精確描繪圖形。這種方式不依賴掩模，在設(shè)計(jì)頻繁迭代的研發(fā)階段非常有優(yōu)勢(shì)，尤其適合量子器件、新型材料結(jié)構(gòu)、原型芯片以及掩模制作等場(chǎng)景。

  半導(dǎo)體

  991瀏覽量

• 發(fā)布了文章 2025-08-19 10:31

  澤攸科技 | 臺(tái)階儀：微觀形貌的精密解析工具 —— 原理、技術(shù)與產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用

  

  在精密制造與前沿科研領(lǐng)域，微觀表面形貌的量化表征是保障產(chǎn)品性能與推動(dòng)技術(shù)創(chuàng)新的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。臺(tái)階儀作為一種高精度表面測(cè)量?jī)x器，通過(guò)對(duì)樣品表面高度差、粗糙度及薄膜厚度等參數(shù)的精確獲取，為半導(dǎo)體、納米材料、光學(xué)工程等領(lǐng)域提供了不可或缺的技術(shù)支撐。

  測(cè)量?jī)x 測(cè)量設(shè)備 精密測(cè)量

  1.7k瀏覽量

• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:14

  電子束光刻機(jī)

  

  產(chǎn)品型號(hào)：ZEL304G 標(biāo)配：激光干涉樣品臺(tái) 樣品臺(tái)行程：≤105 mm 圖像分辨率：≤1nm @ 15 kV；≤1.5 nm @ 1kV

  220瀏覽量

• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:11

  DMD無(wú)掩膜光刻機(jī)

  

  產(chǎn)品型號(hào)：ZML 紫外光源中心波長(zhǎng)：405 nm 曝光均勻度：90%以上 最小特征線寬：0.5um

  127瀏覽量

• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:09

  全自動(dòng)臺(tái)階儀JS2000C/3000C

  

  產(chǎn)品型號(hào)：JS2000C/3000C 臺(tái)階高度最大范圍：160um 臺(tái)階高度重復(fù)性：≤0.5nm 探針加力范圍：0.5mg~50mg

  78瀏覽量

• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:07

  半自動(dòng)臺(tái)階儀JS100C/200C/300C

  

  產(chǎn)品型號(hào)：JS100C/200C/300C 樣品尺寸：6寸（JS100C）/ 8寸（JS200C）/ 12寸（JS 重復(fù)性測(cè)量偏差：≤0.5nm(1o lum標(biāo)準(zhǔn)塊重復(fù)掃描30次) 注釋：詳情咨詢澤攸科技

  94瀏覽量

• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:05

  手動(dòng)臺(tái)階儀JS10C

  

  產(chǎn)品型號(hào)：JS10C 型號(hào)：JS10C

  79瀏覽量

• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:02

  ZEM Pro單晶燈絲臺(tái)式掃描電鏡

  

  產(chǎn)品型號(hào)：ZEM Pro 分辨率：優(yōu)于3nm 放大倍數(shù)：360000

  105瀏覽量

• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 11:46

  ZEM20臺(tái)式掃描電鏡

  

  產(chǎn)品型號(hào)：ZEM20 分辨率：優(yōu)于4nm 放大倍數(shù)：360000

  98瀏覽量

• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 11:38

  ZEM Ultra場(chǎng)發(fā)射臺(tái)式掃描電鏡

  

  產(chǎn)品型號(hào)：ZEM Ultra 分辨率：優(yōu)于2.5nm 放大倍數(shù)：100萬(wàn)倍

  97瀏覽量