資料介紹
隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展,三維封裝技術(shù)和超摩爾定律隨即誕生,極小的封裝間距對電子產(chǎn)品 的清洗提出了嶄新要求。綜述了電子封裝用水基清洗劑的組成和作用機(jī)理,結(jié)合國內(nèi)外電子封裝用水基清 洗劑的研究現(xiàn)狀,著重介紹了水基清洗劑研制過程中成分、配比和濃度三者的關(guān)系,闡述了目前電子封裝 用水基清洗劑依舊存在適用范圍小、兼容性差、難降解等問題,并探討了未來電子封裝用水基清洗劑的發(fā) 展趨勢。開發(fā)并推廣一種綠色、高效和低成本電子封裝用水基清洗劑尤為重要。
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