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光刻技術(shù)

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隨著半導體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學技術(shù)發(fā)展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃數(shù)量級范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細加工技術(shù)。

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光刻技術(shù)資訊

美國將光刻技術(shù)納入出口限制清單

商務(wù)部長威爾伯·羅斯（Wilbur Ross）宣稱：“關(guān)鍵技術(shù)和新興技術(shù)國家戰(zhàn)略是保護美國國家安全，確保美國在軍事、情報和經(jīng)濟事務(wù)中保持技術(shù)領(lǐng)先地位的重...

2020-11-12 標簽：芯片光刻技術(shù)EUV 3.1k 0

AMD憑借其5000系列處理器再次成功進入了用戶的應收名單

該公司最近推出了Ryzen 9 5950X，5900X，5800X和5600X型號。盡管在Ryzen 5000系列中使用了7 nm光刻技術(shù)，但與前幾代產(chǎn)...

2020-10-23 標簽：處理器 amd 光刻技術(shù) 3.1k 0

基于聲表面波的無線無源溫度傳感器為此提供了良好的解決方案

研究人員基于不同Pt膜厚與波長比的LGS/Pt器件的結(jié)構(gòu)開展實驗研究?？蒲腥藛T采用最小二乘法對實驗數(shù)據(jù)進行擬合，得出反射系數(shù)計算公式，利用有限元方法提取...

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DMD無掩膜光刻技術(shù)解析

光刻是指利用光學復制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上，然后通過刻蝕的方法將圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上來制作電子電路的技術(shù)。

2020-08-13 標簽：光刻技術(shù)DMD 2.2萬 0

新型高精度技術(shù)讓納米圖形“變身”二維材料

微工程研究所的研究人員采用了新型納米結(jié)構(gòu)化技術(shù)，稱為熱掃描探針光刻（thermal scanning probe lithography，t-SPL）技...

2020-07-31 標簽：高精度納米光刻技術(shù) 2.6k 0

新型光刻技術(shù)解決硅材料脆性難題，MEMS機械性能極限有望突破

聯(lián)合小組經(jīng)過長達十年的研究，重點是采用光刻工藝替代聚焦離子束（FIB）工藝來完成在硅晶圓上的結(jié)構(gòu)制作。FIB雖然可以實現(xiàn)硅晶圓結(jié)構(gòu)，但會對硅表面造成損傷...

2020-06-24 標簽：mems 光刻技術(shù)半導體芯片 3.6k 0

DNA納米光刻構(gòu)建高度有序的微流控納米界面

與傳統(tǒng)組織活檢相比，檢測原發(fā)或轉(zhuǎn)移灶中脫離進入外周血循環(huán)的腫瘤細胞（CTC）具有腫瘤分子信息全、侵入性小、取樣方便等優(yōu)勢。CTC分析技術(shù)的挑戰(zhàn)在于如何從...

2020-06-01 標簽：微流控光刻技術(shù) 3.7k 0

一種新型激元光刻技術(shù)，已成為工業(yè)制造的關(guān)鍵技術(shù)

據(jù)國內(nèi)媒體報道，來自中國科學院長春光學精密機械與物理研究所等單位的研究人員，開發(fā)了一種新型飛秒激光等離子激元光刻技術(shù)(FPL)。

2020-05-14 標簽：工業(yè)自動化光刻技術(shù) 3.5k 0

新光刻技術(shù)將會對納米芯片的發(fā)展產(chǎn)生重大影響

該行業(yè)正在不斷刷新納米芯片的記錄，這無疑將為我們帶來更多的未來計算可能性。為此，來自世界各地的研究人員正在不斷努力。

2020-04-15 標簽：納米芯片光刻技術(shù) 2.2k 0

光刻測量技術(shù)與感應式測量技術(shù)解析

絕對測量法是指編碼器通電時就立即提供位置值并隨時供后續(xù)信號處理電子電路讀取。無需移動軸執(zhí)行參考點回零操作。絕對位置信息來自一系列絕對碼構(gòu)成的光柵刻線。單...

2020-03-18 標簽：測量技術(shù)光刻技術(shù) 2.7k 0

利用激光測振技術(shù)提升MEMS器件仿真精度

設(shè)計和開發(fā)MEMS器件涉及大量的數(shù)學仿真。在制造過程中進行實驗驗證，不僅成本昂貴且非常耗時。為了精準地預測系統(tǒng)響應，需要驗證仿真模型。但是，當需要用模型...

2019-11-30 標簽：MEMS器件光刻技術(shù)激光成像 4.1k 0

臺積電總市值達到2482億美元超越英特爾，成為半導體行業(yè)第一

據(jù)臺積電稱，采用EUV光刻技術(shù)的N7+（7nm+）工藝已經(jīng)大批量的供應客戶，但官方?jīng)]有透露具體的合作廠商，目前唯一可完全確認的就是華為麒麟990 5G，...

2019-10-12 標簽：半導體臺積電光刻技術(shù) 3.8k 0

7nm節(jié)點后光刻技術(shù)從DUV轉(zhuǎn)至EUV，設(shè)備價值劇增

芯片行業(yè)從20世紀90年代開始就考慮使用13.5nm的EUV光刻（紫外線波長范圍是10~400nm）用以取代現(xiàn)在的193nm。EUV本身也有局限，比如容...

2019-10-01 標簽：摩爾定律光刻技術(shù)EUV 9.3k 0

一文讓你深度了解光刻機

2019-05-08 標簽：集成電路光刻技術(shù) 1.2萬 0

2019年第一季度全球個人電腦出貨量為5850萬臺，比2018年第一季度下降4.6%

昨天，臺積電正式宣布了6nm(N6)工藝，在已有7nm(N7)工藝的基礎(chǔ)上大幅度增強，號稱可提供極具競爭力的高性價比，而且能加速產(chǎn)品研發(fā)、量產(chǎn)、上市速度。

2019-04-18 標簽：臺積電聯(lián)想光刻技術(shù) 7.6k 0

國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”通過驗收

2018-12-07 標簽：光刻技術(shù)傳感芯片 4.7k 0

半導體光刻技術(shù)及其發(fā)展歷程，一個詳盡立體的光刻世界

對于采用不同設(shè)備制造相同制程IC的制造廠來說，其技術(shù)水平差異就會很突出，例如，有的廠商用EUV設(shè)備（光刻波長為13.5nm）才能做7nm芯片，而有的廠商...

2018-11-27 標簽：集成電路半導體光刻技術(shù) 1.2萬 0

三星半導體已經(jīng)開始使用其7LPP制造工藝生產(chǎn)芯片

三星在其位于韓國華城的Fab S3生產(chǎn)7LPP EUV芯片。該公司每天可以在其ASML Twinscan NXE：3400B EUVL步進掃描系統(tǒng)和每個...

2018-10-22 標簽：半導體三星電子光刻技術(shù) 5.6k 0

新思科技Fusion技術(shù)助力三星7LPP EUV工藝降低功耗、縮小面積并提高性能

新思科技設(shè)計事業(yè)部營銷與商務(wù)開發(fā)副總裁Michael Jackson表示：“我們與三星的工具和參考流程合作重點在于使設(shè)計人員能夠使用三星最新的EUV 7...

2018-07-05 標簽：三星電子新思科技光刻技術(shù) 5.3k 0

芯片升級神助攻光刻技術(shù)你了解多少？

光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。

2018-04-22 標簽：光刻技術(shù) 4.1k 0

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