本文針對當前及下一代電力電子領域中市售的碳化硅(SiC)與氮化鎵(GaN)晶體管進行了全面綜述與展望。首先討論了GaN與SiC器件的材料特性及結(jié)構(gòu)差異?;趯κ惺?b class="flag-6" style="color: red">GaN與SiC功率晶體管的分析,描述了這些技術(shù)的現(xiàn)狀,重點闡述了各技術(shù)平臺的首選功率變換拓撲及關鍵特性。
2025-05-15 15:28:57
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大家清晰的了解GaN產(chǎn)品。 1.從氮化鎵GaN產(chǎn)品的名稱上對比 如下圖所示,產(chǎn)品GaN標示圖。納微:GaNFast Power ICs 是GaN 功率IC,而英諾賽科: E-Mode GaN FET
2020-05-12 01:31:00
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10 月 25 日,英飛凌科技股份公司今日宣布完成收購氮化鎵系統(tǒng)公司(GaN Systems,以下同)。這家總部位于加拿大渥太華的公司,為英飛凌帶來了豐富的氮化鎵 (GaN) 功率轉(zhuǎn)換解決方案
2023-10-25 11:38:30
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氮化鎵系統(tǒng) (GaN Systems) E-HEMTs 的EZDriveTM方案
2025-03-13 16:33:05
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GaN功率半導體(氮化鎵)的系統(tǒng)集成優(yōu)勢
2023-06-19 09:28:46
半導體的關鍵特性是能帶隙,能帶動電子進入導通狀態(tài)所需的能量。寬帶隙(WBG)可以實現(xiàn)更高功率,更高開關速度的晶體管,WBG器件包括氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC),以及其他半導體。 GaN和SiC
2022-08-12 09:42:07
寬禁帶半導體材料氮化鎵(GaN)以其良好的物理化學和電學性能成為繼第一代元素半導體硅(Si)和第二代化合物半導體砷化鎵(GaAs)、磷化鎵(GaP)、磷化銦(InP)等之后迅速發(fā)展起來的第三代半導體
2019-06-25 07:41:00
基于碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)等寬帶隙(WBG)半導體的新型高效率、超快速功率轉(zhuǎn)換器已經(jīng)開始在各種創(chuàng)新市場和應用領域攻城略地——這類應用包括太陽能光伏逆變器、能源存儲、車輛電氣化(如充電器
2019-07-31 06:16:52
基于SiC/GaN的新一代高密度功率轉(zhuǎn)換器SiC/GaN具有的優(yōu)勢
2021-03-10 08:26:03
氮化鎵(GaN)功率集成電路集成與應用
2023-06-19 12:05:19
被譽為第三代半導體材料的氮化鎵GaN。早期的氮化鎵材料被運用到通信、軍工領域,隨著技術(shù)的進步以及人們的需求,氮化鎵產(chǎn)品已經(jīng)走進了我們生活中,尤其在充電器中的應用逐步布局開來,以下是采用了氮化鎵的快
2020-03-18 22:34:23
的挑戰(zhàn)絲毫沒有減弱。氮化鎵(GaN)等新技術(shù)有望大幅改進電源管理、發(fā)電和功率輸出的諸多方面。預計到2030年,電力電子領域?qū)⒐芾泶蠹s80%的能源,而2005年這一比例僅為30%1。這相當于30億千瓦時以上
2020-11-03 08:59:19
能源并占用更小空間,所面臨的挑戰(zhàn)絲毫沒有減弱。氮化鎵(GaN)等新技術(shù)有望大幅改進電源管理、發(fā)電和功率輸出的諸多方面。預計到2030年,電力電子領域?qū)⒐芾泶蠹s80%的能源,而2005年這一比例僅為30
2018-11-20 10:56:25
在所有電力電子應用中,功率密度是關鍵指標之一,這主要由更高能效和更高開關頻率驅(qū)動。隨著基于硅的技術(shù)接近其發(fā)展極限,設計工程師現(xiàn)在正尋求寬禁帶技術(shù)如氮化鎵(GaN)來提供方案。
2020-10-28 06:01:23
是什么氮化鎵(GaN)是氮和鎵化合物,具體半導體特性,早期應用于發(fā)光二極管中,它與常用的硅屬于同一元素周期族,硬度高熔點高穩(wěn)定性強。氮化鎵材料是研制微電子器件的重要半導體材料,具有寬帶隙、高熱導率等特點,應用在充電器方面,主要是集成氮化鎵MOS管,可適配小型變壓器和高功率器件,充電效率高。二、氮化
2021-09-14 08:35:58
相信最近關心手機行業(yè)的朋友們都有注意到“氮化鎵(GaN)”,這個名詞在近期出現(xiàn)比較頻繁。特別是隨著小米發(fā)布旗下首款65W氮化鎵快充充電器之后,“氮化鎵”這一名詞就開始廣泛出現(xiàn)在了大眾的視野中。那么
2025-01-15 16:41:14
氮化鎵功率半導體技術(shù)解析基于GaN的高級模塊
2021-03-09 06:33:26
本文討論了商用氮化鎵功率晶體管與Si SJMOS和SiC MOS晶體管相比在軟開關LLC諧振轉(zhuǎn)換器方面的優(yōu)勢。介紹隨著更高功率、更小尺寸和更高效率的明顯趨勢,高頻 LLC 諧振轉(zhuǎn)換器是業(yè)內(nèi)隔離式
2023-02-27 09:37:29
的數(shù)十億次的查詢,便可以獲得數(shù)十億千瓦時的能耗。
更有效地管理能源并占用更小空間,所面臨的挑戰(zhàn)絲毫沒有減弱。氮化鎵(GaN)等新技術(shù)有望大幅改進電源管理、發(fā)電和功率輸出的諸多方面。預計到2030年
2019-03-14 06:45:11
和功率密度,這超出了硅MOSFET技術(shù)的能力。開發(fā)工程師需要能夠滿足這些要求的新型開關設備。因此,開始了氮化鎵晶體管(GaN)的概念?! D-GIT的概述和優(yōu)勢 松下混合漏極柵極注入晶體管(HD-GIT
2023-02-27 15:53:50
GaN如何實現(xiàn)快速開關?氮化鎵能否實現(xiàn)高能效、高頻電源的設計?
2021-06-17 10:56:45
氮化鎵 (GaN) 可為便攜式產(chǎn)品提供更小、更輕、更高效的桌面 AC-DC 電源。Keep Tops 氮化鎵(GaN)是一種寬帶隙半導體材料。 當用于電源時,GaN 比傳統(tǒng)硅具有更高的效率、更小
2023-08-21 17:06:18
`Cree的CGH40010是無與倫比的氮化鎵(GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)。 CGH40010,正在運行從28伏電壓軌供電,提供通用寬帶解決方案應用于各種射頻和微波應用。 GaN
2020-12-03 11:51:58
CGHV96050F1是款碳化硅(SiC)基材上的氮化鎵(GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)。與其它同類產(chǎn)品相比,這些GaN內(nèi)部搭配CGHV96050F1具有卓越的功率附帶效率。與硅或砷化鎵
2024-01-19 09:27:13
`Cree的CGHV96100F2是氮化鎵(GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)在碳化硅(SiC)基板上。 該GaN內(nèi)部匹配(IM)FET與其他技術(shù)相比,具有出色的功率附加效率。 氮化鎵與硅或砷化
2020-12-03 11:49:15
CHA8107-QCB兩級氮化鎵(GaN)高功率放大器CHA8107-QCB 是 United Monolithic Semiconductors(UMS)推出的一款兩級氮化鎵(GaN)高功率放大器
2025-12-12 09:40:25
Cree的CMPA801B025是氮化鎵(GaN)高電子遷移率基于晶體管(HEMT)的單片微波集成電路(MMIC)。 氮化鎵與硅或砷化鎵相比具有更好的性能,包括更高的擊穿電壓,更高的飽和電子漂移速度
2020-12-03 11:46:10
多個方面都無法滿足要求。在基站端,由于對高功率的需求,氮化鎵(GaN)因其在耐高溫、優(yōu)異的高頻性能以及低導通損耗、高電流密度的物理特性,是目前最有希望的下一代通信基站功率放大器(PA)芯片材料。5G采用
2017-07-18 16:38:20
描述該參考設計為客戶提供有關電源設計中 GaN 與 SI 使用情況的對比研究。該特定的設計使用 TPS40400 控制器來驅(qū)動 CSD87381(對于硅電源)和采用 EPC2111
2019-01-02 16:17:21
書籍:《炬豐科技-半導體工藝》文章:氮化鎵發(fā)展技術(shù)編號:JFSJ-21-041作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html 摘要:在單個芯片上集成多個
2021-07-06 09:38:20
碳化硅(SiC)和硅上氮化鎵(GaN-on-Si)。這兩種突破性技術(shù)都在電動汽車市場中占有一席之地。與Si IGBT相比,SiC提供更高的阻斷電壓、更高的工作溫度(SiC-on-SiC)和更高的開關
2018-07-19 16:30:38
方形,通過兩個晶格常數(shù)(圖中標記為a 和c)來表征。GaN 晶體結(jié)構(gòu)在半導體領域,GaN 通常是高溫下(約為1,100°C)在異質(zhì)基板(射頻應用中為碳化硅[SiC],電源電子應用中為硅[Si])上通過
2019-08-01 07:24:28
氮化鎵(GaN)的重要性日益凸顯,增加。因為它與傳統(tǒng)的硅技術(shù)相比,不僅性能優(yōu)異,應用范圍廣泛,而且還能有效減少能量損耗和空間的占用。在一些研發(fā)和應用中,傳統(tǒng)硅器件在能量轉(zhuǎn)換方面,已經(jīng)達到了它的物理
2023-06-15 15:47:44
SiC、藍寶石、AlN和原生塊體氮化鎵。不過,所有這些材料價格昂貴,而最常用的透明電路基板——玻璃,則非常便宜。 我們的解決方案是一個兩步式制程,可在玻璃基板上形成氮化鎵晶體管。第一步是在將氮化鎵層
2020-11-27 16:30:52
氮化鎵,由鎵(原子序數(shù) 31)和氮(原子序數(shù) 7)結(jié)合而來的化合物。它是擁有穩(wěn)定六邊形晶體結(jié)構(gòu)的寬禁帶半導體材料。禁帶,是指電子從原子核軌道上脫離所需要的能量,氮化鎵的禁帶寬度為 3.4eV,是硅
2023-06-15 15:41:16
、高功率、高效率的微電子、電力電子、光電子等器件方面的領先地位?!喝c半說』經(jīng)多方專家指點查證,特推出“氮化鎵系列”,告訴大家什么是氮化鎵(GaN)?
2019-07-31 06:53:03
。目前主流的GaN技術(shù)廠商都在研發(fā)以Si為襯底的GaN的器件,以替代昂貴的SiC襯底。有分析預測到2019年GaN的成本將與傳統(tǒng)的Si器件相當,屆時很可能出現(xiàn)一個市場拐點。并且該技術(shù)對于供應商來說是一
2019-07-08 04:20:32
傳統(tǒng)的硅組件、碳化硅(Sic)和氮化鎵(GaN)伴隨著第三代半導體電力電子器件的誕生,以碳化硅(Sic)和氮化鎵(GaN)為代表的新型半導體材料走入了我們的視野。SiC和GaN電力電子器件由于本身
2021-09-23 15:02:11
(GaN)原廠來說尤為常見,其根本原因是氮化鎵芯片的優(yōu)異開關性能所引起的測試難題,下游的氮化鎵應用工程師往往束手無策。某知名氮化鎵品牌的下游客戶,用氮化鎵半橋方案作為3C消費類產(chǎn)品的電源,因電源穩(wěn)定性
2023-02-01 14:52:03
雙向器件,GaN BDS 的出現(xiàn)可以大大降低元器件的成本:無需工藝調(diào)整和 MASK 變動,通過合并漂移區(qū)和漏極及雙柵控制,即可實現(xiàn)單片集成的氮化鎵雙向器件(Monolithic Bi-Directional
2025-12-15 18:35:01
在過去的十多年里,行業(yè)專家和分析人士一直在預測,基于氮化鎵(GaN)功率開關器件的黃金時期即將到來。與應用廣泛的MOSFET硅功率器件相比,基于GaN的功率器件具有更高的效率和更強的功耗處理能力
2019-06-21 08:27:30
材料特性對比展開,通過泰克儀器測試英飛凌GaN器件來進行氮化鎵特性的測量與分析。方案配置:示波器MSO5+光隔離探頭TIVH08+電壓及電流探頭+電源和IGBT town 軟件第二步:電路設計和PCB
2020-11-18 06:30:50
導讀:將GaN FET與它們的驅(qū)動器集成在一起可以改進開關性能,并且能夠簡化基于GaN的功率級設計。氮化鎵 (GaN) 晶體管的開關速度比硅MOSFET快很多,從而有可能實現(xiàn)更低的開關損耗。然而,當
2022-11-16 06:23:29
作為一項相對較新的技術(shù),氮化鎵(GaN) 采用的一些技術(shù)和思路與其他半導體技術(shù)不同。對于基于模型的GaN功率放大器(PA) 設計新人來說,在知曉了非線性GaN模型的基本概念(非線性模型如何幫助進行
2019-07-31 06:44:26
如何設計GaN氮化鎵 PD充電器產(chǎn)品?
2021-06-15 06:30:55
氮化鎵技術(shù)非常適合4.5G或5G系統(tǒng),因為頻率越高,氮化鎵的優(yōu)勢越明顯。那對于手機來說射頻GaN技術(shù)還需解決哪些難題呢?
2019-07-31 06:53:15
)③ SiC、GaN寬禁帶電力電子技術(shù)的機遇和挑戰(zhàn) ④ 針對寬禁帶電力電子技術(shù)特性的封裝技術(shù) ⑤ SiC、GaN器件與Si器件的對比(優(yōu)勢、驅(qū)動上的區(qū)別、結(jié)構(gòu)和成本的影響)五、活動報名電話:***微信:CampusXiaomeng`
2017-07-11 14:06:55
氮化鎵(GaN)是一種全新的使能技術(shù),可實現(xiàn)更高的效率、顯著減小系統(tǒng)尺寸、更輕和于應用中取得硅器件無法實現(xiàn)的性能。那么,為什么關于氮化鎵半導體仍然有如此多的誤解?事實又是怎樣的呢?
關于氮化鎵技術(shù)
2023-06-25 14:17:47
射頻半導體技術(shù)的市場格局近年發(fā)生了顯著變化。數(shù)十年來,橫向擴散金屬氧化物半導體(LDMOS)技術(shù)在商業(yè)應用中的射頻半導體市場領域起主導作用。如今,這種平衡發(fā)生了轉(zhuǎn)變,硅基氮化鎵(GaN-on-Si)技術(shù)成為接替?zhèn)鹘y(tǒng)LDMOS技術(shù)的首選技術(shù)。
2019-09-02 07:16:34
5G將于2020年將邁入商用,加上汽車走向智慧化、聯(lián)網(wǎng)化與電動化的趨勢,將帶動第三代半導體材料碳化硅(SiC)與氮化鎵(GaN)的發(fā)展。根據(jù)拓墣產(chǎn)業(yè)研究院估計,2018年全球SiC基板產(chǎn)值將達1.8
2019-05-09 06:21:14
重要作用。下圖展示的是鍺化硅和氮化鎵的毫米波5G基站MIMO天線方案,左側(cè)展示的是鍺化硅基MIMO天線,它有1024個元件,裸片面積是4096平方毫米,輻射功率是65dbm,與之形成鮮明對比的,是右側(cè)氮化
2019-04-13 22:28:48
氮化鎵GaN是什么?
2021-06-16 08:03:56
,是氮化鎵功率芯片發(fā)展的關鍵人物。
首席技術(shù)官 Dan Kinzer在他長達 30 年的職業(yè)生涯中,長期擔任副總裁及更高級別的管理職位,并領導研發(fā)工作。他在硅、碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)功率芯片方面
2023-06-15 15:28:08
5G將于2020年將邁入商用,加上汽車走向智慧化、聯(lián)網(wǎng)化與電動化的趨勢,將帶動第三代半導體材料碳化硅(SiC)與氮化鎵(GaN)的發(fā)展。根據(jù)拓墣產(chǎn)業(yè)研究院估計,2018年全球SiC基板產(chǎn)值將達1.8億美元,而GaN基板產(chǎn)值僅約3百萬美元。
2018-03-29 14:56:12
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自從20年前第一批商用產(chǎn)品問世,GaN在射頻功率應用領域已成為LDMOS和GaAs的重要競爭對手,并且,正在以更低的成本不斷提高性能和可靠性。首批GaN-on-SiC和GaN-on-Si器件幾乎同時
2019-05-09 10:25:18
5447 
5G將于2020年將邁入商用,加上汽車走向智慧化、聯(lián)網(wǎng)化與電動化的趨勢,將帶動第三代半導體材料碳化硅(SiC)與氮化鎵(GaN)的發(fā)展。2018年全球SiC基板產(chǎn)值將達1.8億美元,而GaN基板產(chǎn)值
2020-03-15 09:56:57
5002 碳化硅(SiC)是最成熟的WBG寬帶隙半導體材料, 它已經(jīng)廣泛用于制造開關器件,例如MOSFET和晶閘管。氮化鎵(GaN)具有作為功率器件半導體的潛力,并且在射頻應用中是對硅的重大改進。
2020-04-30 14:35:31
13407 作為半導體材料“霸主“的Si,其性能似乎已經(jīng)發(fā)展到了一個極限,而此時以SiC和GaN為主的寬禁帶半導體經(jīng)過一段時間的積累也正在變得很普及。所以,出現(xiàn)了以Si基器件為主導,SiC和GaN為"游擊"形式存在的局面。
2020-08-27 16:26:00
13311 
氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)功率晶體管這兩種化合物半導體器件已作為方案出現(xiàn)。這些器件與長使用壽命的硅功率橫向擴散金屬氧化物半導體(LDMOS) MOSFET和超級結(jié)MOSFET競爭。
2022-04-01 11:05:19
5310 傳統(tǒng)上,半導體生產(chǎn)中最常用的材料是硅 (Si),因為它的資源豐富且價格實惠。然而,半導體制造商可以使用許多其他材料。此外,它們中的大多數(shù)都提供額外的好處,例如碳化硅 (SiC)、砷化鎵 (GaAs
2022-07-29 15:00:30
2352 傳統(tǒng)上,半導體生產(chǎn)中最常用的材料是硅(Si),因為它豐富且價格合理。但是,半導體制造商可以使用許多其他材料。此外,它們中的大多數(shù)還提供額外的好處,例如碳化硅(SiC)、砷化鎵(GaAs)和氮化鎵
2022-12-13 10:00:08
3919 對于 GaN,中文名氮化鎵,我們實在是聽得太多了。
這要從近兩年充電器上的瘋狂內(nèi)卷開始說起。好像從某個時間點開始,一夜之間,GaN 就如雨后春筍般出現(xiàn)在了充電行業(yè)。
然后隨之而來的,就是
2023-02-02 17:44:37
1166 對于 GaN,中文名氮化鎵,我們實在是聽得太多了。
這要從近兩年充電器上的瘋狂內(nèi)卷開始說起。好像從某個時間點開始,一夜之間,GaN 就如雨后春筍般出現(xiàn)在了充電行業(yè)。
然后隨之而來的,就是
2023-02-02 17:45:29
604 可以在各種襯底上生長,包括藍寶石、碳化硅(SiC)和硅(Si)。在硅上生長氮化鎵(GaN)外延層可以使用現(xiàn)有的硅制造基礎設施,從而
無需使用高成本的特定生產(chǎn)設施,而且以低成本采用大直徑的硅晶片。
GaN power semiconductor 2023 predictions一文有
2023-02-15 16:19:06
0 采用 CCPAK1212i 封裝的 650 V、33 mOhm 氮化鎵 (GaN) FET-GAN039-650NTBA
2023-02-16 20:47:32
3 采用 CCPAK1212 封裝的 650 V、33 mOhm 氮化鎵 (GaN) FET-GAN039-650NBB
2023-02-16 20:48:02
0 氮化鎵(GaN)是什么 氮化鎵是一種無機物,化學式GaN,是氮和鎵的化合物,是一種直接能隙(direct bandgap)的半導體,自1990年起常用在發(fā)光二極管中。此化合物結(jié)構(gòu)類似纖鋅礦,硬度很高
2023-02-17 14:18:24
12178 采用 TO-247 封裝的 650 V、35 mΩ 氮化鎵 (GaN) FET-GAN041-650WSB
2023-02-17 18:46:49
6 650 V、50 mOhm 氮化鎵 (GaN) FET-GAN063-650WSA
2023-02-17 19:47:24
5 氮化鎵 (GaN) 是一種半導體材料,因其卓越的性能而越來越受歡迎。與傳統(tǒng)的硅基半導體不同,GaN 具有更寬的帶隙,這使其成為高頻和大功率應用的理想選擇。
2023-03-03 10:14:39
1395 GaN-on-Si LED技術(shù)是行業(yè)夢寐以求的技術(shù)。首先,硅是地殼含量第二的元素,物理和化學性能良好,在大尺寸硅襯底上制作氮化鎵LED的綜合成本可以降低25%;
2023-03-10 09:04:16
2258 生長中主要以藍寶石、Si、砷化鎵、氧化鎂等的立方相結(jié)構(gòu)作為襯底,以(011)面為基面有可能得到比較穩(wěn)定的閃鋅礦結(jié)構(gòu)的氮化鎵納米材料。
2023-04-29 16:41:00
33369 
對于 GaN,中文名氮化鎵,我們實在是聽得太多了。
2023-06-12 10:17:17
4815 
付出更大的成本?本文會以適配器(Adaptor)的應用來做說明。圖1目標產(chǎn)品應用種類氮化鎵(GaN)是橫向結(jié)構(gòu)的功率元件,其具有小于硅(Si)的十分之一以下的閘極電荷(
2022-12-09 14:41:08
7739 
SiC和GaN被稱為“寬帶隙半導體”(WBG),因為將這些材料的電子從價帶炸毀到導帶所需的能量:而在硅的情況下,該能量為1.1eV,SiC(碳化硅)為3.3eV,GaN(氮化鎵)為3.4eV。這導致了更高的適用擊穿電壓,在某些應用中可以達到1200-1700V。
2023-08-09 10:23:39
2004 
重點摘要 GaN Systems第四代氮化鎵平臺 (Gen 4 GaN Platform) 幫助全球客戶在能源效率及尺寸微縮上突破瓶頸。 以業(yè)界領先的質(zhì)量因子 (figures of merit
2023-09-28 09:28:32
968 SiC 和 GaN 被稱為“寬帶隙半導體”(WBG)。由于使用的生產(chǎn)工藝,WBG 設備顯示出以下優(yōu)點:
2023-10-09 14:24:36
7167 
?10 月 25 日消息,英飛凌科技于 2023 年 10 月 24 日宣布完成收購氮化鎵系統(tǒng)公司(GaN Systems),并號稱“成為領先的氮化鎵龍頭企業(yè)”。 英飛凌表示,這家總部位于加拿大
2023-10-26 08:43:52
1116 論文研究氮化鎵GaN功率集成技術(shù)
2023-01-13 09:07:47
3 氮化鎵(GaN)被譽為是繼第一代 Ge、Si 半導體材料、第二代 GaAs、InP 化合物半導體材料之后的第三代半導體材料,今天金譽半導體帶大家來簡單了解一下,這個材料有什么厲害的地方。
2023-11-03 10:59:12
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GaN材料的研究與應用是目前全球半導體研究的前沿和熱點,是研制微電子器件、光電子器件的新型半導體材料。上次帶大家了解了它的基礎特性:氮化鎵(GAN)具有寬的直接帶隙、強的原子鍵、高的熱導率、化學
2023-11-09 11:43:53
2424 晶體管)結(jié)構(gòu)。GaN HEMT由以下主要部分組成: 襯底:氮化鎵功率器件的襯底采用高熱導率的材料,如氮化硅(Si3N4),以提高器件的熱擴散率和散熱能力。 二維電子氣層:氮化鎵襯底上生長一層氮化鎵,形成二維電子氣層。GaN材料的禁帶寬度大,由于
2024-01-09 18:06:41
6137 本文要點氮化鎵是一種晶體半導體,能夠承受更高的電壓。氮化鎵器件的開關速度更快、熱導率更高、導通電阻更低且擊穿強度更高。氮化鎵技術(shù)可實現(xiàn)高功率密度和更小的磁性。氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)是兩種
2024-07-06 08:13:18
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SiC和GaN被稱為“寬帶隙半導體”(WBG)。由于使用的生產(chǎn)工藝,WBG設備顯示出以下優(yōu)點:1.寬帶隙半導體氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)在帶隙和擊穿場方面相對相似。氮化鎵的帶隙為3.2eV
2024-09-16 08:02:25
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650V SiC碳化硅MOSFET全面取代超結(jié)MOSFET和高壓GaN氮化鎵器件
2025-01-23 16:27:43
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電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《GAN039-650NBB氮化鎵(GaN)FET規(guī)格書.pdf》資料免費下載
2025-02-13 16:10:22
0 電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《GAN041-650WSB氮化鎵(GaN)FET規(guī)格書.pdf》資料免費下載
2025-02-13 14:24:19
2 什么是氮化鎵(GaN)充電頭?氮化鎵充電頭是一種采用氮化鎵(GalliumNitride,GaN)半導體材料制造的新型電源適配器。相比傳統(tǒng)硅基(Si)充電器,GaN材料憑借其物理特性顯著提升了功率
2025-02-27 07:20:33
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