下一代定制設計平臺可將設計人員工作效率提高5倍
加利福尼亞州圣何塞 ， Dec。 1,2015 /PRNewswire/- 凱德斯設計系統(tǒng)公司(納斯達克股票代碼：CDNS)今天宣布推出新的Virtuoso?Advanced-Node平臺，該平臺可用于所有先進的10nm FinFET設計。這種下一代定制設計平臺可將設計人員的工作效率提高5倍，并為新興的7nm技術提供初始支持。
為了應對高級節(jié)點FinFET設計帶來的挑戰(zhàn)，Cadence?Virtuoso高級節(jié)點平臺的創(chuàng)新功能使設計人員能夠更好地管理復雜性和過程效果。關鍵功能包括：
多圖案化和顏色感知布局：支持四個以上的多圖案層進行設計分解，使用戶可以更高效地工作通過訪問各種著色選項
電感設計(EAD)：允許設計人員在設計周期中解決寄生和電遷移(EM)效應，而不是等到設計完成，從而將設計周期時間縮短了30%
基于模塊生成器(ModGen)的設備陣列流程：支持陣列內路由，大大減少了設計迭代次數(shù)并將設計人員的工作效率提高多達25倍
10nm自定義布線：支持新的設計規(guī)則，大大簡化了布局創(chuàng)建，并最大限度地減少了在10nm工藝設計時普遍存在的著色誤差
設計中的物理驗證系統(tǒng)(iPVS)：使布局工程師能夠即時檢測和f正在實施設計時出現(xiàn)ix錯誤，這可以大大減少設計規(guī)則錯誤，同時將整體設計人員的工作效率提高多達15%
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