全球最大的光刻機企業(yè)ASML表示DUV光刻機系統(tǒng)不需要向美國申請出口許可，它將向中國大量出售DUV光刻機，在中國建立合資工廠，強化與中國加強合作，這被視為它向中國釋放善意。

中國最大的芯片制造企業(yè)中芯國際已投產(chǎn)14nmFinFET工藝，上海華虹已投產(chǎn)28nm工藝，ASML此時表示可以向中國大量出售DUV光刻機，這有助于中國的芯片制造廠迅速擴張產(chǎn)能。

中國是全球最大制造國，除了對先進工藝有需求之外，確實也對較為落后的14nmFinFET、28nm等工藝有龐大需求，例如路由器、電視芯片、空調(diào)芯片等都可以以這些較為落后的工藝生產(chǎn)，可以幫助中國增強自主研發(fā)能力。

目前中國也在加快模擬芯片的發(fā)展，國產(chǎn)模擬芯片占中國需求的比例只有10%左右，中國迅速加快模擬芯片的發(fā)展也需要大量購買這些DUV光刻機開發(fā)自己的芯片制造工藝。等等這些都說明ASML在此刻釋放善意，對中國有重大的支持意義。

不過ASML有許多元件需要從美國進口，業(yè)界專家表示它不能違反“瓦森納協(xié)議”，研發(fā)7nm及更先進工藝所需要的EUV光刻機依然無法向中國出口，這對中國的支持實在有限。

值得注意的是ASML三季度公布的業(yè)績顯示它有66%的利潤來自技術(shù)先進的EUV光刻機，如此一來依靠EUV光刻機提供的豐厚利潤，它完全可以依賴EUV光刻機的豐厚利潤以價格戰(zhàn)在DUV光刻機市場壓制中國光刻機企業(yè)，ASML在這個表示向中國大量出口DUV光刻機有可能存有打壓中國光刻機產(chǎn)業(yè)的考慮。

中國如今已認識到發(fā)展光刻機的重要性，因此正積極扶持國內(nèi)的光刻機產(chǎn)業(yè)，然而受限于技術(shù)，中國光刻機企業(yè)研發(fā)的當然是技術(shù)較為落后的DUV光刻機，如果中國的芯片企業(yè)不采購國產(chǎn)光刻機，國產(chǎn)光刻機也就無法積累技術(shù)和資金研發(fā)技術(shù)更先進的EUV光刻機，這對于中國的光刻機產(chǎn)業(yè)可謂毀滅性的影響。

如果ASML一直受制于相關(guān)的限制無法向中國供應(yīng)技術(shù)先進的EUV光刻機，而中國自己的光刻機企業(yè)又無法研發(fā)出EUV光刻機，那么中國的芯片制造企業(yè)就一直都只能止步于7nm工藝，而中國大陸以外的芯片制造企業(yè)如今已投產(chǎn)5nm工藝，未來更先進的工藝也在加速發(fā)展，中國的芯片制造工藝只會越來越落后。

綜上所述，ASML在這個時候宣布向中國大量出口光刻機，固然顯示了它的善意，但是對于中國的光刻機產(chǎn)業(yè)和芯片制造產(chǎn)業(yè)來說卻未必是好事，它此舉很可能是為了保持自己的技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢，而中國芯片產(chǎn)業(yè)將可能因此而導(dǎo)致長遠利益受損。

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