北方華創(chuàng)（Naura）官方宣布，ICP等離子刻蝕機第1000腔交付儀式近日在北京亦莊基地舉行，NAURA刻蝕機研發(fā)團隊見證了這一歷史性時刻。

北方華創(chuàng)表示，這不僅是公司發(fā)展征程中的重要里程碑，更是國產(chǎn)刻蝕機在歷經(jīng)了20年自主創(chuàng)新后得到客戶廣泛認可的重要標志，未來會持續(xù)在等離子刻蝕ICP技術(shù)領(lǐng)域?qū)で蟾嗤黄啤?/p>

北方華創(chuàng)科技集團股份有限公司成立于2001年，由北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司、北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司戰(zhàn)略重組而成，是目前國內(nèi)集成電路高端工藝裝備的先進企業(yè)。

北方華創(chuàng)成立后就開始組建團隊鉆研刻蝕技術(shù)，2004年第一臺設(shè)備成功起輝，2005年第一臺8英寸ICP刻蝕機在客戶端上線，并于2007年獲得國家科學(xué)技術(shù)進步二等獎。

目前，北方華創(chuàng)的刻蝕設(shè)備已經(jīng)覆蓋集成電路、LED、先進封裝、功率半導(dǎo)體、MEMS微機電系統(tǒng)、化合物半導(dǎo)體、硅基微顯、分析儀器、功率器件、光通信器件等多個領(lǐng)域，硅刻蝕機已突破14nm技術(shù)，進入主流芯片代工廠。

其中，12英寸ICP刻蝕機在實現(xiàn)客戶端28nm國產(chǎn)化替代，并在14/7nm SADP/SAQP、先進存儲器、3D TSV等工藝應(yīng)用中發(fā)揮著重要作用。

所謂等離子干法刻蝕，就是利用等離子體進行薄膜微細加工的技術(shù)，具有良好的各向異性、工藝可控性，廣泛應(yīng)用于微電子產(chǎn)品制造領(lǐng)域。

在典型的干法刻蝕工藝過程中，一種或多種氣體原子或分子混合于反應(yīng)腔室中，在外部能量作用下（如射頻、微波等）形成等離子體。

另外，很多人可能分不清***、刻蝕機。最簡單地說，***把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的硅片上面，刻蝕機則是畫了電路圖的硅片上的多余電路圖腐蝕掉。

再打個比方，***是照相機，刻蝕機就是顯影設(shè)備。

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