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光刻機(jī)無法被取代?華為芯片技術(shù)曝光

電子工程師 ? 來源:科技的十字路口 ? 作者:科技的十字路口 ? 2021-04-16 14:31 ? 次閱讀
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在全球數(shù)字加速的浪潮下,催生出了許多不同的行業(yè),比如5G、AI、云計算等等,領(lǐng)域看似不同,但都需要芯片作為驅(qū)動。而在芯片領(lǐng)域,我國長期以來一直依賴于美國的核心技術(shù),然而不管是中興歷經(jīng)過的遭遇,華為正在受到的嚴(yán)峻挑戰(zhàn),還是如履薄冰的中芯國際,都讓我們嘗到了什么是“剔骨之痛”,更讓我們意識到了芯片國產(chǎn)化的重要性,為此,這也讓我國的芯片產(chǎn)業(yè)迎來了黃金發(fā)展期。

光刻機(jī)無法被取代?

眾所周知,想要在芯片領(lǐng)域打破由歐美國家所壟斷的市場,必須要解決光刻機(jī)的問題,這是傳統(tǒng)硅基芯片制造過程中最為重要的一環(huán)。而在光刻機(jī)領(lǐng)域,荷蘭的ASML則是光刻機(jī)領(lǐng)域金字塔最頂尖的企業(yè),尤其是在極紫外光領(lǐng)域,ASML形成了字面上的絕對壟斷,但ASML公司最大的股東是資本國際,第二大股東是貝萊德,這兩股勢力都是美國資本,中西科技競爭的日益激烈,讓我們無法采購ASML的EUV光刻機(jī)。然而,想要制造更先進(jìn)的芯片,難道光刻機(jī)真的無法取代嗎?

華為芯片技術(shù)曝光

近日,華為公開了一項名為“耦合光的光學(xué)芯片及制造方法”的發(fā)明專利,這項發(fā)明不僅提供了一種用于在光學(xué)芯片與另一光學(xué)器件之間耦合光的光學(xué)芯片,同時還提供了制造這種光學(xué)芯片的方法,包括對晶圓的切割,蝕刻等。

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光學(xué)芯片被業(yè)內(nèi)認(rèn)為是最有希望的未來技術(shù),用超微透鏡取代晶體管,用磷化銦等發(fā)光材料制作而成,通過持續(xù)產(chǎn)生的激光束作為光信號,替代電信號進(jìn)行運算,無需改變二進(jìn)制計算機(jī)的軟件原理,就可以輕松實現(xiàn)極高的運算頻率,從而能彌補(bǔ)傳統(tǒng)芯片在數(shù)據(jù)處理能力及高頻穩(wěn)定性等方面的劣勢,并且功耗、成本也能進(jìn)一步的降低。

在傳統(tǒng)芯片領(lǐng)域,不管是三星還是臺積電,7nm、5nm制程工藝都已經(jīng)成熟,并且展開了對3nm工藝的研究,其工藝很快將觸及到天花板,之后的2nm、1nm工藝芯片,其制造難度與設(shè)計成本將會呈指數(shù)增長,很難大范圍進(jìn)入消費市場。任正非曾公開表示,制造芯片砸錢不行,必須要砸大量的物理學(xué)家、化學(xué)家,想要在傳統(tǒng)芯片領(lǐng)域趕上美國芯片制造技術(shù),難度可想而知。

也正是因為傳統(tǒng)芯片達(dá)到物理瓶頸,這也意味著芯片將迎來一個新時代,不僅制造材料會發(fā)生變化,制造技術(shù)也會發(fā)生變化。而此時華為啟動并加速光芯片的研究,不僅能以先發(fā)的優(yōu)勢避免在未來被卡脖子,擺脫對ASML光刻機(jī)的依賴,同時還有希望芯片領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)彎道超車,不得不說,任正非卻是有遠(yuǎn)見!

相信,在全球最大的芯片市場、70%自給率的鐵令和半導(dǎo)體免稅優(yōu)惠等條件之下,國產(chǎn)新一代芯片技術(shù)必然能得到穩(wěn)步、快速發(fā)展。而此時,埋頭苦干、腳踏實地,也許是這個“芯片時代變革”中最好的姿態(tài)。

責(zé)任編輯:lq

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原文標(biāo)題:取代ASML光刻機(jī)?華為芯片及制造技術(shù)曝光,國產(chǎn)芯或迎來轉(zhuǎn)機(jī)

文章出處:【微信號:AMTBBS,微信公眾號:世界先進(jìn)制造技術(shù)論壇】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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