光刻機(jī)，是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，是半導(dǎo)體行業(yè)中的核心技術(shù)。

可能有很多人都無(wú)法切身理解光刻機(jī)的重要地位，光刻機(jī)，是制造芯片的機(jī)器，要是沒(méi)有了光刻機(jī)，我們就沒(méi)有辦法造出芯片，自然也就不會(huì)有我們現(xiàn)在的手機(jī)、電腦了。

光刻機(jī)是用于芯片制造的核心設(shè)備，按照用途可以分為用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)、用于封裝的光刻機(jī)和用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。

光刻機(jī)的核心原理就是一個(gè)透鏡組，在精度上首先咱們有個(gè)概念：我們現(xiàn)在芯片的線條精度已發(fā)展到10nm級(jí)別，而較大的原子直徑是將近1nm，我們把芯片放在電子顯微鏡下即可清晰地?cái)?shù)出每個(gè)線條上有幾個(gè)原子，“調(diào)節(jié)屈光度”是典型的幾何光學(xué)（初等光學(xué)）概念，遠(yuǎn)遠(yuǎn)實(shí)現(xiàn)不了這個(gè)精度。

幾何光學(xué)中，我們認(rèn)為光是一條條“光線”，所以可以用透鏡等比例縮放。隨著人們更深入的了解，發(fā)現(xiàn)光其實(shí)是連續(xù)的“光波”，并不按直線傳播。再后來(lái)，人們發(fā)現(xiàn)光是一個(gè)個(gè)“粒子”（愛(ài)因斯坦因此獲得諾貝爾獎(jiǎng)）再后來(lái)，人們發(fā)現(xiàn)光粒子具有“波粒二象性”，還具有量子效應(yīng)。整個(gè)過(guò)程中，光的物理特性沒(méi)有改變。而是隨著人們觀察得越來(lái)越細(xì)致、越來(lái)越精密，逐步發(fā)現(xiàn)了光的特性。

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