芯片制作完整過(guò)程包括:芯片設(shè)計(jì)、晶片制作、封裝制作、成本測(cè)試等幾個(gè)環(huán)節(jié),其中晶片片制作過(guò)程尤為的復(fù)雜。下面圖示讓我們共同來(lái)了解一下芯片制作的過(guò)程,尤其是晶片制作部分。
小編將為大家介紹一下芯片制造流程:
- 首先是芯片設(shè)計(jì),根據(jù)設(shè)計(jì)的需求,生成的“圖樣”。
- 制作晶圓。使用晶圓切片機(jī)將硅晶棒切割出所需厚度的晶圓。
- 晶圓涂膜。在晶圓表面涂上光阻薄膜,該薄膜能提升晶圓的抗氧化以及耐溫能力。
- 晶圓光刻顯影、蝕刻。使用紫外光通過(guò)光罩和凸透鏡后照射到晶圓涂膜上,使其軟化,然后使用溶劑將其溶解沖走,使薄膜下的硅暴露出來(lái)。
- 離子注入。使用刻蝕機(jī)在裸露出的硅上刻蝕出N阱和P阱,并注入離子,形成PN結(jié)(邏輯閘門);然后通過(guò)化學(xué)和物理氣象沉淀做出上層金屬連接電路。
- 晶圓測(cè)試。經(jīng)過(guò)上面的幾道工藝之后,晶圓上會(huì)形成一個(gè)個(gè)格狀的晶粒。通過(guò)針測(cè)的方式對(duì)每個(gè)晶粒進(jìn)行電氣特性檢測(cè)。
- 封裝。將制造完成的晶圓固定,綁定引腳,然后根據(jù)用戶的應(yīng)用習(xí)慣、應(yīng)用環(huán)境、市場(chǎng)形式等外在因素采用各種不同的封裝形式;同種芯片內(nèi)核可以有不同的封裝形式。
制造芯片主要就是在晶圓片上不斷累加圖案,讓圖案縱向連接,非常多層,會(huì)有100多層。并且需要花費(fèi)許多的時(shí)間,從設(shè)計(jì)到量產(chǎn)可能需要四個(gè)月的時(shí)間。
文章整合自:上海海思技術(shù)、百度經(jīng)驗(yàn)、39度
編輯:ymf
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
芯片
+關(guān)注
關(guān)注
462文章
53608瀏覽量
460013 -
晶片
+關(guān)注
關(guān)注
1文章
410瀏覽量
32752
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
芯片引腳成型與整形:電子制造中不可或缺的兩種精密工藝
、工藝流程:定位制造鏈的不同環(huán)節(jié)二者的分工,清晰地體現(xiàn)在生產(chǎn)鏈條的不同節(jié)點(diǎn)上:
成型設(shè)備位于制造前端,通常緊隨在芯片封裝工序之后。它是保證產(chǎn)品能夠順利進(jìn)入下一階段裝配的“準(zhǔn)入門檻”。
發(fā)表于 10-21 09:40
博世如何簡(jiǎn)化智能制造工藝流程
在新能源行業(yè)飛速發(fā)展的今天,產(chǎn)品更新迭代的的速度越來(lái)越快,制作工藝的要求也越來(lái)越高。市場(chǎng)要求我們“快速上線、高效生產(chǎn)”,那我們?nèi)绾尾拍茏?b class='flag-5'>制造流程中的工藝環(huán)節(jié)變得更智能,更高效?
CMOS超大規(guī)模集成電路制造工藝流程的基礎(chǔ)知識(shí)
本節(jié)將介紹 CMOS 超大規(guī)模集成電路制造工藝流程的基礎(chǔ)知識(shí),重點(diǎn)將放在工藝流程的概要和不同工藝步驟對(duì)器件及電路性能的影響上。
最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測(cè)
資料介紹
此文檔是最詳盡最完整介紹半導(dǎo)體前端工藝和后端制程的書籍,作者是美國(guó)人Michael Quirk??赐晗嘈拍銓?duì)整個(gè)芯片制造流程會(huì)非常清晰地了解。從硅片
發(fā)表于 04-15 13:52
【「芯片通識(shí)課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】芯片怎樣制造
就被保留在了硅片上。
其流程如下圖所示。
芯片制造的工藝流程
芯片設(shè)計(jì)(圖形設(shè)計(jì))
繪制芯片
發(fā)表于 04-02 15:59
【「芯片通識(shí)課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】了解芯片怎樣制造
工藝流程: 芯片設(shè)計(jì),光掩模版制作,晶圓上電路制造,(薄膜氧化,平坦化,光刻膠涂布,光刻,刻蝕,離子注入擴(kuò)散,裸片檢測(cè))
發(fā)表于 03-27 16:38
光刻工藝的主要流程和關(guān)鍵指標(biāo)
光刻工藝貫穿整個(gè)芯片制造流程的多次重復(fù)轉(zhuǎn)印環(huán)節(jié),對(duì)于集成電路的微縮化和高性能起著決定性作用。隨著半導(dǎo)體制造
詳解晶圓的劃片工藝流程
在半導(dǎo)體制造的復(fù)雜流程中,晶圓歷經(jīng)前道工序完成芯片制備后,劃片工藝成為將芯片從晶圓上分離的關(guān)鍵環(huán)節(jié),為后續(xù)封裝奠定基礎(chǔ)。由于不同厚度的晶圓具
通快與SCHMID集團(tuán)合作創(chuàng)新芯片制造工藝
德國(guó)通快集團(tuán)(TRUMPF)與SCHMID集團(tuán)近期宣布了一項(xiàng)重大合作,旨在為全球芯片行業(yè)帶來(lái)革命性的制造工藝升級(jí)。雙方正攜手開發(fā)最新一代微芯片的創(chuàng)新
芯片制造:光刻工藝原理與流程
光刻是芯片制造過(guò)程中至關(guān)重要的一步,它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案,并且要求極高的精度。以下是光刻過(guò)程的詳細(xì)介紹,包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻機(jī)
芯片制造的7個(gè)前道工藝
本文簡(jiǎn)單介紹了芯片制造的7個(gè)前道工藝。 ? 在探索現(xiàn)代科技的微觀奇跡中,芯片制造無(wú)疑扮演著核心角色,它不僅是信息技術(shù)飛速發(fā)展的基石,也是連接
【「大話芯片制造」閱讀體驗(yàn)】+ 芯片制造過(guò)程和生產(chǎn)工藝
保護(hù),并使其具備與外部交換電信號(hào)的能力。整個(gè)封裝流程包含五個(gè)關(guān)鍵步驟:晶圓鋸切、晶片附著、互連、成型以及封裝測(cè)試。
通過(guò)該章節(jié)的閱讀,學(xué)到了芯片的生產(chǎn)制造過(guò)程、生產(chǎn)工藝、晶圓的處理及
發(fā)表于 12-30 18:15
半導(dǎo)體晶圓制造工藝流程
半導(dǎo)體晶圓制造是現(xiàn)代電子產(chǎn)業(yè)中不可或缺的一環(huán),它是整個(gè)電子行業(yè)的基礎(chǔ)。這項(xiàng)工藝的流程非常復(fù)雜,包含了很多步驟和技術(shù),下面將詳細(xì)介紹其主要的制造工藝流
大話芯片制造之讀后感超純水制造
大家能看到這篇讀后感,說(shuō)明贈(zèng)書公益活動(dòng)我被選中參加,我也算幸運(yùn)兒,再次感謝贈(zèng)書主辦方!
關(guān)于芯片制造過(guò)程中,超純水設(shè)備制造工藝流程中導(dǎo)電率控制。在正常思維方式,水是導(dǎo)電的,原因?qū)щ娛撬?/div>
發(fā)表于 12-20 22:03

芯片制造工藝的流程
評(píng)論