最先進(jìn)的光刻機(jī)多少nm 中國(guó)現(xiàn)在能做幾nm芯片
光刻機(jī)是制作芯片并不可少的重要工具，大家都知道，光刻機(jī)技術(shù)幾乎被荷蘭ASML所壟斷，那么全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是多少nm的？中國(guó)現(xiàn)在又能夠做出幾nm的芯片呢？
目前全球最先進(jìn)的光刻機(jī)已經(jīng)可以實(shí)現(xiàn)5nm的工藝制程了，它是荷蘭ASML公司的極紫外光刻機(jī)（EUV），是目前全球最頂尖的光刻機(jī)設(shè)備。
中國(guó)目前最先進(jìn)的光刻機(jī)應(yīng)該是22nm的，它的關(guān)鍵部件可以實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化了。但中國(guó)已經(jīng)可以實(shí)現(xiàn)14nm芯片的量產(chǎn)了，這是中芯國(guó)際取得的一個(gè)重大成績(jī)。
審核編輯：chenchen
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發(fā)表于 11-25 21:03
國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠
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%。至少將GAA納米片提升幾個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)。
2、晶背供電技術(shù)
3、EUV光刻機(jī)與其他競(jìng)爭(zhēng)技術(shù)
光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)體芯片
發(fā)表于 09-15 14:50
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發(fā)表于 08-26 10:00
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發(fā)表于 08-15 10:15
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光刻機(jī)
jf_90915507
發(fā)布于 :2025年08月05日 09:37:57
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發(fā)表于 06-29 06:39
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發(fā)表于 05-07 06:03
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