euv光刻機是干什么的
光刻機是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，它能夠制造和維護需要高水平的光學(xué)和電子產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)，全球只有少數(shù)制造商掌握了這一基礎(chǔ)。
光刻機的作用是對芯片晶圓進行掃描曝光，對集成電路進行蝕刻。精度更高的光刻機可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。
EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。
目前，最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預(yù)計在光路系統(tǒng)的幫助下，能夠產(chǎn)出2-5nm芯片。
本文綜合自百度百科、大嘴猴侃科技、CSDN
編輯：何安
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
光刻機
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1197瀏覽量
48766 -
EUV
+關(guān)注
關(guān)注
8文章
614瀏覽量
88559
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點推薦
中國打造自己的EUV光刻膠標準！
其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例，這是決定芯片 圖案能否被精準 刻下來的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入 7nm及以下先進制程芯片 時代，不僅需要EUV光刻機，更需要
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機被譽為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
國產(chǎn)高精度步進式光刻機順利出廠
近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司（簡稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進式光刻機已成功出廠，標志著我國在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進式光刻機屬于WS180i
ASML官宣：更先進的Hyper NA光刻機開發(fā)已經(jīng)啟動
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，日前，ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨家合作伙伴蔡司，啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發(fā)。這一舉措標志著
發(fā)表于 06-29 06:39
?1862次閱讀
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān)，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關(guān)于光刻機概念大漲，后市迎來機會
【2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元】 光刻機作為半導(dǎo)體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長，尤其是在先
不只依賴光刻機！芯片制造的五大工藝大起底！
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時代的“心臟”，其制造過程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機這一高端設(shè)備，但實際上，芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了
EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者
? EUV光刻有多強？目前來看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機
什么是光刻機的套刻精度
在芯片制造的復(fù)雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關(guān)鍵指標。簡單來說，它就像建造摩天大樓
如何提高光刻機的NA值
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
光刻機的分類與原理
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹
納米級別的分辨率。本文將詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機的心臟，負責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源，但隨著技術(shù)的進步，目前多采用深紫外（DUV）或極紫外（
日本首臺EUV光刻機就位
據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司，已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進行安裝，設(shè)備安裝預(yù)計在
工商網(wǎng)監(jiān)
評論