盡管ASML作為目前占據(jù)主導地位的光刻機廠商，憑借獨有的EUV光刻機一騎絕塵，主導著半數(shù)以上的市場份額，但這并不代表著其他光刻機廠商也就“聽天由命”了。以兩大國外光刻機廠商尼康和佳能為例，他們就仍在堅持開發(fā)并擴展自己的光刻機業(yè)務。

尼康

尼康的光刻機產品陣容比較全面，包括ArF浸沒式掃描光刻機、ArF步進掃描光刻機、KrF掃描光刻機、i線步進式光刻機和FPD面板光刻機，基本涵蓋了除EUV以外的主流光刻機。其中最新的NSR-S635E為ArF浸沒式掃描光刻機，可以做到小于等于38nm的分辨率，1.35的數(shù)值孔徑和大于275晶圓/小時的吞吐量。

雖然這樣的機器在分辨率上與ASML的EUV光刻機還存在著不小的差距，但已經(jīng)足以覆蓋不少成熟工藝的晶圓制造，以及部分次先進節(jié)點的輔助制造了。而在去年的SPIE先進光刻機技術會議上，尼康展示了名為雙光束EUV光刻技術。

雖然仍在概念階段，但從論文上看基于該技術打造的光刻系統(tǒng)可以做到10nm的分辨率，0.4的數(shù)值孔徑和200晶圓/小時以上的吞吐量，這樣的參數(shù)甚至可以與ASML正在制造的高NA EUV光刻機一較高下了。不過要想造出這樣的機器光有概念可不夠，與之相關的元件與設備生態(tài)都得建立起來才行。

從尼康最新季度的財報來看，由于工廠建設的投入被推遲，F(xiàn)PD光刻系統(tǒng)市場有所下滑，所以銷量有所降低，上季度只賣出了6臺FPD光刻機，6臺i線光刻機、1臺KrF光刻機和1臺ArF浸沒式光刻機。由于ArF光刻機仍有著較為強勁的需求，所以尼康仍然看好這一市場的未來趨勢，目前核心客戶因為人員短缺或能源供應等問題，只是在交付上有所推遲。所以哪怕是半導體市場有些許低迷，尼康也并沒有任何訂單因此被取消。

值得一提的是，雖然尼康本身目前并沒有生產EUV光刻機，卻有為EUV系統(tǒng)生產光學組件的。不過與EUV光刻機本身一樣，EUV的光學組件擁有極長的交期。除EUV系統(tǒng)以外，一些先進測量設備、先進封裝設備用到的光學組件同樣是高附加值、長交貨周期的產品，即便半導體市場增速減緩，也不太會受到設備廠商資本支出變化的影響。

佳能

對于佳能來說，光刻機業(yè)務隸屬于他們的工業(yè)與其他事業(yè)部，除了光刻機以外還有貼片機等設備。但從具體數(shù)額看來，佳能的主要營收來源還是他們的印刷和影像部門，包括打印機、數(shù)碼相機等等，從2021年的年報來看，兩部門分別貢獻了55.2%和18.6%的營收。

佳能與尼康一樣，同樣擁有影像和光刻機兩大業(yè)務，但在光刻機上，佳能的主要產品是i線和KrF光刻機，其中主打高分辨率高產量的KrF掃描光刻機FPA-6300ES6a可以做到小于等于90nm的分辨率。雖然分辨率不高，但佳能正在以納米壓印技術打造下一代nm級的光刻機，以該技術打造的光刻系統(tǒng)制造成本將比EUV低40%，同時將運行功耗90%。不過這類設備目前仍在研發(fā)中，從目前已經(jīng)展示的結果來看，還只能做到10nm工藝的圖形化。

而今年的第三季度，佳能的光刻系統(tǒng)營收相較去年同比增長了22.9%，達到645億日元，主要來自50臺半導體光刻機、15臺FPD光刻機的銷量。佳能預計將在今年賣出180臺半導體光刻機，52臺FPD光刻機。

在財報中，佳能指出，2022年的半導體設備市場中，雖然存儲市場有所下滑，但功率設備和邏輯設備的需求依然在強勁增長。與此同時，佳能計劃在宇都宮擴建一座新的光刻機工廠，用于加倍產能，進一步擴大在半導體光刻機市場的份額。

至于面板市場，由于全球通脹和經(jīng)濟下行等原因，PC、電視和智能手機的銷量下滑，全球市場相較去年會有所下滑。但佳能認為，從中長期角度來看，被用于各種產品中的OLED面板勢必會帶來顯著的增長。不過佳能面臨的處境還是組件短缺和客戶延遲工廠建設，所以部分FPD光刻機的交付都被推遲到了明年。

小結

從尼康和佳能兩家的財報來看，他們都沒有屈服于ASML可怕的實力，仍在積極推動DUV光刻機、FPD光刻機的銷售和交付，與此同時也都在低調地進行著下一代光刻系統(tǒng)的研究。對于整個半導體產業(yè)來說，有更多的廠商來攪局也未免不是一件好事。