光刻系統(tǒng)供應(yīng)商ASML 22日對(duì)外公布2017年第四季業(yè)績(jī)，其銷售額創(chuàng)造新單季紀(jì)錄，此外還新接10臺(tái)新一代極紫外（EUV）光刻設(shè)備訂單。ASML表示，2017年全年中國(guó)光刻設(shè)備銷售額增長(zhǎng)超過(guò)20％；2018年，將繼續(xù)支持中國(guó)發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，除了向非中國(guó)客戶在中國(guó)的晶圓廠出貨，ASML也計(jì)劃向5家中國(guó)本土晶圓廠客戶出貨。

ASML 2017年第四季業(yè)績(jī)創(chuàng)新高

ASML目前在光刻系統(tǒng)領(lǐng)域全球市占率逾8成。其業(yè)績(jī)對(duì)于半導(dǎo)體廠的先進(jìn)制程極具指標(biāo)作用。

根據(jù)ASML最新公布財(cái)報(bào)顯示，2017年銷售額90.5億歐元（約合110.4億美元），比2016年增長(zhǎng)33％；2017年實(shí)現(xiàn)利潤(rùn)21.2億歐元（約合25.9億美元），比2016年增長(zhǎng)44％。

若單看第四季度，ASML總銷售額為25.6億歐元（約合31.2億美元），比第三季度增長(zhǎng)4％毛利率45.2％；季度凈收入為6.44億歐元（約合7.86億美元），比第三季度增長(zhǎng)16％。

2017年光學(xué)光刻工具的出貨量也大幅增長(zhǎng)。該公司表示，光刻系統(tǒng)出貨量比2016年增長(zhǎng)了21％，達(dá)到了161臺(tái)。

ASML還預(yù)計(jì)，2018年第一季度銷售額約為22億歐元（約合27億美元）毛利率47％至48％。

EUV供不應(yīng)求 累積訂單高達(dá)28臺(tái)

ASML在第四季度ASML獲得了額外的10個(gè)極紫外(EUV)系統(tǒng)訂單，在這一年中，累積在手里積壓的EUV設(shè)備訂單已高達(dá)28臺(tái)，顯示該市場(chǎng)極為搶手，供不應(yīng)求。

ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink對(duì)外表示， “EUV進(jìn)入大批量芯片制造的準(zhǔn)備工作將進(jìn)一步加快”。由于來(lái)自大客戶的裝機(jī)壓力，ASML于第四季度提前交付了客戶要求的兩臺(tái)EUV光刻系統(tǒng)。同時(shí)也促成了第四季度業(yè)績(jī)的強(qiáng)勢(shì)增長(zhǎng)。

Peter Wennink說(shuō)，兩套EUV系統(tǒng)營(yíng)收早于預(yù)期，隨著EUV銷售額已突破11億歐元大關(guān)，將EUV引入大批量芯片制造的準(zhǔn)備工作在2017年進(jìn)展地“如火如荼”。

外界預(yù)料，三星和臺(tái)積電都宣布將在2018年試生產(chǎn)內(nèi)含EUV技術(shù)的圓晶制程，Intel不是目前第一個(gè)采用EUV技術(shù)量產(chǎn)圓晶的企業(yè)，但將來(lái)， Intel或許會(huì)是采購(gòu)最多EUV設(shè)備的公司。此外三星也傳出以重金包下EUV訂單，來(lái)防堵競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手臺(tái)積電的設(shè)備采購(gòu)。以上客戶積極搶下EUV訂單都是推助EUV新訂單的動(dòng)力。

從2016年僅四臺(tái)出貨量，到2017年交付10臺(tái)EUV系統(tǒng)，EUV將在2018到2019年大量被客戶裝機(jī)批量生產(chǎn)。市場(chǎng)機(jī)構(gòu)也預(yù)測(cè)，2019年市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到突破30億美元以上。

關(guān)鍵零件供給有限 賣方市場(chǎng)吃香

艾司摩爾（ASML）已積壓大量訂單在手。有媒體指出，艾司摩爾EUV設(shè)備生產(chǎn)出貨受限的主因，就是來(lái)自光學(xué)鏡頭供應(yīng)商蔡司（Carl Zeiss）供貨進(jìn)度跟不上需求所致。

在2017年美國(guó)舊金山舉行的2017年度Semicon West半導(dǎo)體設(shè)備展期間，ASML也已宣布達(dá)成了最重要且長(zhǎng)期難以突破的里程碑：250瓦(watt)的EUV光源。

光源功率(source power)──直接等同于生產(chǎn)力，芯片制造商一直以來(lái)都堅(jiān)持250瓦光源功率是達(dá)成每小時(shí)125片晶圓(WPH)生產(chǎn)量的必要條件，主要是ASML與光源技術(shù)供貨商Cymer。

ASML表示，目前EUV采無(wú)缺陷EUV光罩保護(hù)薄膜、已實(shí)現(xiàn)了2納米EUV-to-DUV套刻精度匹配，能夠符合5納米邏輯節(jié)點(diǎn)要求。

看好中國(guó)本土客戶供貨進(jìn)展

展望2018年，ASML認(rèn)為持續(xù)充滿希望。2018年第一季度，ASML預(yù)測(cè)凈銷售額將達(dá)到22億歐元左右，毛利率在47％至48％之間，研發(fā)投入約為3.5億歐元，SG＆A的成本約為1.15億歐元，目標(biāo)實(shí)現(xiàn)有效年化稅率約14％。

針對(duì)中國(guó)市場(chǎng)隨著不斷擴(kuò)張的國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，2017年ASML在中國(guó)的光刻設(shè)備銷售額增長(zhǎng)超過(guò)20％。2018年，除了向非中國(guó)客戶在中國(guó)的工廠出貨達(dá)成以外，ASML還計(jì)劃向5家中國(guó)本土客戶出貨。

Peter Wennink認(rèn)為，隨著消費(fèi)電子、人工智能、云計(jì)算和移動(dòng)端的持續(xù)創(chuàng)新，預(yù)計(jì)2018年ASML銷售和盈利能力將持續(xù)穩(wěn)健增長(zhǎng)。