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MOSFET的原理、特性及參數(shù)

芯長(zhǎng)征科技 ? 來源:從零學(xué)電源 ? 2025-10-23 13:56 ? 次閱讀
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來源:從零學(xué)電源

一、場(chǎng)效應(yīng)管的介紹

MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor 全稱:金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管),簡(jiǎn)稱MOS管,屬于場(chǎng)效應(yīng)管(FET)的一種。

wKgZO2j5w8iAB6G9AAFClLhFyAw604.jpg

場(chǎng)效應(yīng)管利用控制輸入回路的電場(chǎng)效應(yīng)來控制輸出回路電流的一種半導(dǎo)體器件。其中最常用的是增強(qiáng)型NMOS。

為什么是NMOS?——NMOS具有更快的速度,更小的面積,更簡(jiǎn)單的工藝。因?yàn)镹MOS的載流子是電子,PMOS的載流子是空穴,電子的遷移率是空穴的2-3倍,在相同電場(chǎng)作用下,電子跑得比空穴快。相同尺寸大小的NMOS和PMOS相比,NMOS導(dǎo)通電流可以做到更大。

為什么是增強(qiáng)型?——增強(qiáng)型在不加?xùn)旁措妷簳r(shí)沒有溝道,器件默認(rèn)是關(guān)閉的。耗盡型在沒有柵源電壓時(shí)就存在溝道,器件默認(rèn)是導(dǎo)通的,需要加負(fù)壓才能關(guān)閉。由于耗盡型默認(rèn)開啟,不符合數(shù)字邏輯思維,不符合低功耗設(shè)計(jì),且制造工藝復(fù)雜,故耗盡型很少見。

為什么是MOS?——MOSFET符合現(xiàn)代數(shù)字芯片CMOS工藝,JFET與標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝不兼容,不易高密度集成,且JFET通常為耗盡型,不符合低功耗理念。JFET只適用于對(duì)噪聲、可靠性要求高的特殊模擬應(yīng)用。

二、MOSFET的原理

以增強(qiáng)型NMOS管為例,柵極與襯底之間存在很薄的絕緣層(SiO2),將柵極金屬和P型襯底隔開。

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為什么源極和襯底短接在一起?襯底與源極短接,電位相同,可以讓該P(yáng)N結(jié)處于零偏置狀態(tài),防止其正向?qū)ㄓ绊慚OS管工作,同時(shí)也能避免襯底偏置效應(yīng)影響Vth閾值電壓。

在襯底P型半導(dǎo)體里,由于存在少量的自由電子,故當(dāng)Vgs存在電壓時(shí),襯底中的少量電子受電場(chǎng)作用向柵極靠近并聚集,形成N型溝道,連通源極和漏極。在源漏極加上電壓時(shí),電子就可以通過溝道從源極流向漏極,形成漏極電流Id。

其中絕緣層越薄,電場(chǎng)作用越明顯,形成導(dǎo)通溝道的閾值電壓越小。但是電路設(shè)計(jì)者(DE)無法改變閾值電壓(Vth),閾值電壓由工藝決定,設(shè)計(jì)者只能基于晶圓廠提供的PDK進(jìn)行設(shè)計(jì),PDK中的器件模型參數(shù)是固定的。

wKgZPGj5w8eALvaGAADemwD8s84593.jpg

如何從符號(hào)上區(qū)分增強(qiáng)型和耗盡型?由于增強(qiáng)型MOS的溝道在Vgs=0時(shí)還未形成,所以符號(hào)上溝道是斷開的,而耗盡型MOS的溝道在沒有Vgs時(shí)已經(jīng)形成,所以在符號(hào)上溝道是連續(xù)的。

如何從符號(hào)上區(qū)分PMOS、NMOS?由于PMOS和NMOS的溝道類型不同,溝道處的箭頭方向都是從P指向N,所以可以通過觀察箭頭方向來確定溝道類型。箭頭指向外,則溝道為P型;箭頭指向溝道處,則溝道為N型。

如何確定體二極管方向?以NMOS為例,由于源極S與襯底相連,且襯底(P型)與漏極(N型)可以看作一個(gè)二極管,又被稱為體二極管(body diode),故存在源極-漏極之間的二極管,二極管導(dǎo)通方向由源極指向漏極,從符號(hào)上看二極管方向與溝道處的箭頭方向相同。

如何區(qū)分源極、漏極、柵極?MOS管腳中柵極(Gate)與其他極絕緣,而源極(Source)與襯底(Substrate)相連,故連接到符號(hào)中間襯底溝道的都是源極,不連接的是漏極。

三、MOSFET的特性

以NPN三極管BJT為例,對(duì)比介紹增強(qiáng)型NMOS的特性

wKgZO2j5w8eABzR7AAClmArEScY316.jpg

3.1 輸入特性曲線

三極管BJT的輸入特性曲線是VBE與IB之間的關(guān)系曲線,類似于二極管的正向特性曲線。

MOS管的輸入特性曲線是VGS與IG之間的關(guān)系曲線,由于G極下方具有絕緣層,柵極與溝道之間構(gòu)成一個(gè)電容,直流狀態(tài)下IG只有微小的漏電流。

wKgZPGj5w8iAUh4XAAC6twfm_nY956.jpg

由于MOS管的柵極絕緣,輸入阻抗極高,不吸取電流,故通常不討論MOS管的輸入特性曲線。

3.2 輸出特性曲線

三極管以共發(fā)射極配置,輸出特性曲線是VCE與IC之間的關(guān)系曲線,參變量以基極電流IB作為不同的曲線參數(shù)。

MOS管的輸出特性曲線是VDS與ID之間的關(guān)系曲線,參變量以柵源電壓VGS作為不同的曲線參數(shù)。

wKgZO2j5w8iANsNAAAHQlxNeRvg926.jpg

MOS管的恒流區(qū)/飽和區(qū),相當(dāng)于三極管的放大區(qū):

wKgZPGj5w8iAdGOyAAGhI5iKiMs209.jpg

3.3 轉(zhuǎn)移特性曲線

轉(zhuǎn)移特性曲線反映的是輸入量對(duì)輸出量的控制能力,三極管的轉(zhuǎn)移特性曲線是IB與IC之間的關(guān)系曲線,MOS管的轉(zhuǎn)移特性曲線是VGS與ID之間的關(guān)系曲線。

wKgZPGj5w8iAJHLaAADJcKHASOI781.jpg

BJT是電流控型器件,IB控制IC,IC與IB呈線性關(guān)系;MOS管是壓控型器件,VGS控制ID,是平方律的關(guān)系。

四、MOSFET的參數(shù)

針對(duì)電源應(yīng)用,需要考慮的MOS管重要參數(shù)包含以下:

wKgZO2j5w8iAUxZJAAFC-2LL1z0131.jpg

4.1 額定漏源電壓VDS、額定柵源電壓VGS

wKgZO2j5w8eAcD2mAABmq0EMcX8587.jpg

額定漏源電壓VDS:柵極G和源極S短路,在漏極D和源極S所能施加的最大電壓值,表明了MOS管在關(guān)斷狀態(tài)下,漏源極之間能承受的最大電壓,可理解為源漏擊穿電壓,具有正溫度系數(shù),高溫下,MOS管能承受的瞬時(shí)電壓反而比室溫下更高,而低溫下實(shí)際擊穿電壓會(huì)低于標(biāo)稱值,選型時(shí)仍需要留有充分裕量,避免尖峰電壓和瞬態(tài)沖擊損壞MOS。

額定柵源電壓VGS:漏極D和源極S短路,在漏極G和源極S所能施加的最大電壓值。如果超過該額定電壓,可能導(dǎo)致柵氧化層損傷。

4.2 柵源閾值電壓VGS(th)

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閾值電壓VGS(th):在MOS的柵源之間加的可以形成導(dǎo)通溝道的最小電壓。VGS達(dá)到閾值電壓后,MOS從截止?fàn)顟B(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)閷?dǎo)通狀態(tài)。閾值電壓具有負(fù)溫度系數(shù),高溫下避免噪聲超過閾值電壓發(fā)生誤動(dòng)作。一般來說,高閾值電壓的MOS具有較小的柵源漏電流,但是其開關(guān)速度較慢,動(dòng)態(tài)功耗較大。

4.3 漏源導(dǎo)通電阻RDS(on)

wKgZPGj5w8iAfenvAABEepmVEtc634.jpg

漏源導(dǎo)通電阻RDS(on):MOS管處于導(dǎo)通狀態(tài)時(shí),源漏之間的等效電阻,具有正溫度特性。

wKgZPGj5w8iANvgnAAADHR6BhIs270.jpg

尤其在大電流應(yīng)用中,較低的導(dǎo)通電阻可以降低MOS的導(dǎo)通損耗,減少M(fèi)OS發(fā)熱,提升電源的轉(zhuǎn)化效率。通常RDS(on)與器件尺寸、成本成反比。高壓器件RDS(on)一般高于低壓器件。設(shè)計(jì)中需要綜合考慮成本、體積和效率。

4.4 持續(xù)漏電流wKgZPGj5w8iAYu4-AAAAjZDcEEc821.jpgID,零柵壓漏極電流IDSS,柵源漏電流IGSS

持續(xù)漏電流ID表明MOS管支持工作的最大直流電流,受溫度、導(dǎo)通阻抗、封裝等影響。

零柵壓漏極電流IDSS表明MOS管在柵源短路狀態(tài)下(VGS=0),漏極與源極之間加額定電壓下的泄漏電流。該值具有正溫度系數(shù)。

柵源漏電流IGSS表明MOS管在源漏短路狀態(tài)下(VDS=0),柵極與源極之間加額定電壓下的泄露電流。

wKgZPGj5w8iAXVqiAACgBh_fI4Q257.jpg

4.5 輸入電容Ciss、輸出電容Coss、反向傳輸電容Crss

wKgZPGj5w8iAQANSAACNaUsbRwE350.jpg

輸入電容(Ciss)表明漏源短接下,交流信號(hào)測(cè)得的柵極和源極之間的電容,其代表著驅(qū)動(dòng)MOS管時(shí)柵極驅(qū)動(dòng)電路需要充電的總電容,直接影響MOS管的柵極電荷Qg和驅(qū)動(dòng)電流。Ciss越大,開關(guān)MOS所需要的能量和時(shí)間就越大。

Ciss=Cgs+Cgd

輸出電容(Coss)表明柵源短接下,交流信號(hào)測(cè)得的漏極與源極之間的電容,其代表著MOS管在關(guān)斷時(shí),漏極和源極之間存在的總電容。

Coss=Cds+Cgd

在硬開關(guān)電路中,MOS管由導(dǎo)通到關(guān)斷時(shí),其VDS會(huì)從0上升到母線電壓,這個(gè)電壓會(huì)對(duì)Coss充電,消耗的能量稱為關(guān)斷損耗。

wKgZPGj5w8eAXDXqAAFNOPttXR0199.jpg

在軟開關(guān)電路中,例如LLC,輸出電容Coss是諧振電容的一部分,其大小直接影響諧振頻率。

對(duì)于橋式電路,若Coss過大,由于另一管開關(guān)引起的快速電壓變化(dV/dt)通過Coss充放電電流,誤觸發(fā)關(guān)斷的MOS管使其導(dǎo)通。

反向傳輸電容(Crss)表明源極接地,測(cè)漏極和柵極之間的電容。由于其會(huì)引發(fā)米勒效應(yīng),故也稱作米勒電容。米勒效應(yīng)會(huì)阻止Vgs上升,從而也就阻止了Vds的下降。米勒電容會(huì)顯著延長(zhǎng)開關(guān)過程的平臺(tái)階段,其是造成開關(guān)損耗(尤其是開通損耗:ID×VDS)的主要原因,影響開關(guān)上升、下降時(shí)間和關(guān)斷延時(shí)時(shí)間。

Crss=Cgd

wKgZO2j5w8eATnJbAADDT-oDztE085.jpg

輸入電容(Ciss)、輸出電容(Coss)、反向傳輸電容(Crss)共同決定了MOS管的交流特性,影響MOS管的開關(guān)速度、損耗、電路穩(wěn)定性。

4.6 導(dǎo)通、關(guān)斷延時(shí)時(shí)間Td(on)/Td(off)、上升、下降時(shí)間TrTf

wKgZO2j5w8eAP5vpAACViKHlGy4419.jpg

Td(on)導(dǎo)通延時(shí)時(shí)間:從柵極驅(qū)動(dòng)電壓VGS上升到其幅值的10%開始,到漏極電流上升到其幅值的90%的時(shí)間間隔。

Td(off)關(guān)斷延時(shí)時(shí)間:從柵極驅(qū)動(dòng)電壓 VGS下降到其幅值的90%開始,到漏極電流下降到其幅值的90%的時(shí)間間隔。

tr上升時(shí)間:漏極電流從其幅值的10%上升到90%所需的時(shí)間。

tf下降時(shí)間:漏極電流從其幅值的90%下降到10%所需的時(shí)間。

如何優(yōu)化縮短這些時(shí)間呢?

選擇本身開關(guān)速度快(Qg低柵極電壓和低寄生電容)的MOSFET

提高柵極驅(qū)動(dòng)能力(增加驅(qū)動(dòng)電壓、減小驅(qū)動(dòng)電阻)

使用專用的柵極驅(qū)動(dòng)IC,可提供瞬間的峰值電流

4.7 安全動(dòng)作區(qū)SOA

MOS管的SOA(Safe Operating Area)結(jié)合了MOS的多種物理限制,只要MOS的工作點(diǎn)落在這個(gè)區(qū)域,器件就不會(huì)因過應(yīng)力而損壞,超過SOA邊界可能導(dǎo)致MOS永久性失效。

wKgZPGj5w8eAAiMiAADj9XbXC1c881.jpg

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原文標(biāo)題:MOSFET在電源中的應(yīng)用

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