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九同方:EDA工具“單點(diǎn)登頂”與產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同,方能破局行業(yè)內(nèi)卷

花茶晶晶 ? 來源:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 作者:黃晶晶 ? 2025-12-02 09:10 ? 次閱讀
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電子發(fā)燒友報(bào)道(文/黃晶晶)在2025集成電路發(fā)展論壇(成渝)暨三十一屆集成電路設(shè)計(jì)業(yè)展覽會(huì)(ICCAD-Expo2025)上,上海九同方技術(shù)有限公司總經(jīng)理李紅在接受行業(yè)媒體采訪時(shí),暢談國產(chǎn)EDA如何破局行業(yè)內(nèi)卷,做到又好又全等話題。

圖:九同方總經(jīng)理李紅



從單一維度到多物理場融合仿真

九同方致力于研發(fā)完整的“射頻EDA工具鏈”,早期以電磁場仿真為龍頭產(chǎn)品。隨著行業(yè)技術(shù)演進(jìn),三維堆疊技術(shù)的普及讓熱應(yīng)力等多物理場景的重要性日益凸顯,而器件、芯片、封裝系統(tǒng)的跨尺寸融合趨勢,也對仿真軟件提出了更高要求。在此背景下,公司確立了構(gòu)建多物理場、跨尺寸的微電子領(lǐng)域仿真軟件的戰(zhàn)略方向,精準(zhǔn)響應(yīng)行業(yè)從 “單一維度”向“綜合場景”的需求轉(zhuǎn)變。

九同方的核心業(yè)務(wù)聚焦于多物理場仿真技術(shù),尤其在電磁場仿真、熱仿真及芯片封裝協(xié)同仿真領(lǐng)域具有顯著優(yōu)勢。九同方以電磁場仿真平臺(tái)為基礎(chǔ),開發(fā)了覆蓋芯片-封裝-系統(tǒng)協(xié)同仿真的多物理場解決方案,支持芯片、封裝及系統(tǒng)級的跨尺度仿真,適用于三維異質(zhì)異構(gòu)集成場景。

“單點(diǎn)登頂”破局行業(yè)內(nèi)卷

面對射頻行業(yè)競爭激烈、盈利困難的現(xiàn)狀,九同方給出了獨(dú)特的破局思路。避開同質(zhì)化的 “全工具覆蓋”,聚焦高頻電路派生的電磁場領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn) “單點(diǎn)突破”。李紅強(qiáng)調(diào),EDA 軟件的核心競爭力在于“世界頂尖水平”。物理規(guī)律的唯一性決定了軟件不存在“本土適配”的妥協(xié)空間,必須做到全球最優(yōu)才能立足。公司的實(shí)踐也印證了這一邏輯,通過在高頻電磁場仿真領(lǐng)域登頂世界領(lǐng)先水平,成功在內(nèi)卷的行業(yè)中站穩(wěn)腳跟。

仿真軟件的核心衡量指標(biāo)是精度與效率,二者呈此消彼長的關(guān)系,精度要求越高,計(jì)算開銷越大、耗時(shí)越長。如何實(shí)現(xiàn)平衡呢,李紅認(rèn)為一方面通過優(yōu)化數(shù)學(xué)算法,在保證精度達(dá)標(biāo)的前提下,最大化降低計(jì)算復(fù)雜度;另一方面,借助算力堆疊提升硬件支撐能力,縮短仿真周期。值得注意的是,EDA 工具在客戶成本中占比不足2%,客戶更愿意為“又準(zhǔn)又快”的頂尖工具付費(fèi),因此在技術(shù)研發(fā)中,精度是不可妥協(xié)的底線,效率提升則是核心優(yōu)化方向。

“又好又全”需行業(yè)協(xié)同

本土射頻、模擬等領(lǐng)域企業(yè)對EDA工具的核心需求可概括為“又好又全”,但二者存在優(yōu)先級排序。“好”是前提,精度達(dá)標(biāo)、性能頂尖的單點(diǎn)工具可通過組合拼湊滿足基礎(chǔ)需求;“全” 則是行業(yè)共同的追求,需要整合產(chǎn)業(yè)鏈資源實(shí)現(xiàn)。

李紅認(rèn)為,“好” 的實(shí)現(xiàn)依賴三大核心要素,即是充足的資金支持、深厚的技術(shù)功底、持續(xù)的應(yīng)用場景迭代。2019 年后,國內(nèi)應(yīng)用場景的開放為 EDA 企業(yè)提供了絕佳的迭代環(huán)境,只要技術(shù)過硬,就能獲得登頂機(jī)會(huì)。而 “全” 的實(shí)現(xiàn)則需行業(yè)協(xié)同,當(dāng)前的解決方案是通過國家層面串聯(lián)優(yōu)秀 EDA 企業(yè),整合單點(diǎn)優(yōu)勢,提供既好又全的解決方案。

李紅指出,從純經(jīng)濟(jì)學(xué)角度看,國產(chǎn)EDA替代是“偽命題”,但在地緣政治背景下,這是必須攻克的難題。政府的角色不僅是提供經(jīng)濟(jì)補(bǔ)貼,更要通過政策引導(dǎo)和榮譽(yù)激勵(lì),為國產(chǎn)EDA企業(yè)樹立發(fā)展信心。當(dāng)前,資本活躍、應(yīng)用場景開放、政策支持的多重利好,為國產(chǎn)EDA企業(yè)創(chuàng)造難得的發(fā)展窗口,企業(yè)需抓住機(jī)遇,以“單點(diǎn)登頂”夯實(shí)基礎(chǔ),以行業(yè)協(xié)同完善生態(tài),推動(dòng)國產(chǎn)EDA從可用向好用全面邁進(jìn)。


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