根據(jù)中國政府采購網(wǎng)公示，上海微電子裝備（集團）股份有限公司中標 zycgr22011903 采購步進掃描式光刻機項目，設備數(shù)量為一臺，貨物型號為 SSC800/10，成交金額 1.1 億元。



上海微電子裝備(集團)股份有限公司(簡稱SMEE)主要致力于半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設計、制造、銷售及技術(shù)服務。公司設備廣泛應用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域。

據(jù)介紹，SMEE通過制定技術(shù)創(chuàng)新與知識產(chǎn)權(quán)戰(zhàn)略，促進產(chǎn)品的性能提升，實現(xiàn)產(chǎn)品的技術(shù)領(lǐng)先以及知識產(chǎn)權(quán)的主動布局；通過有效的風險控制體系，保障產(chǎn)品技術(shù)與應用的知識產(chǎn)權(quán)合法性，增進客戶對公司產(chǎn)品和服務的信任。截至2020年3月，SMEE直接持有各類專利及專利申請超過3200項，同時通過建設并參與產(chǎn)業(yè)知識產(chǎn)權(quán)聯(lián)盟，進一步整合共享了大量聯(lián)盟成員知識產(chǎn)權(quán)資源，涉及光刻機、激光與檢測、特殊應用類等各大產(chǎn)品技術(shù)領(lǐng)域，全面覆蓋了SMEE產(chǎn)品的主要銷售地域。

官網(wǎng)顯示，SMEE的光刻設備主要有SSX600系列光刻機、SSB300系列步進光刻機、SSB500系列光刻機、SSB200小Mask系列曝光機、SSB200大Mask系列曝光機等。

其中，SSX600系列步進掃描投影光刻機采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調(diào)焦調(diào)平技術(shù)，以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術(shù)，可滿足IC前道制造90nm、110nm、280nm關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的光刻工藝需求，可用于8寸產(chǎn)線或12寸產(chǎn)線。

SSB500系列步進投影光刻機主要應用于集成電路先進封裝領(lǐng)域，包括Flip Chip、Fan-In、Fan-Out WLP/PLP和2.5D/3D等先進封裝形式，可滿足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圓級/方板級光刻工藝需求。SSB300系列步進投影光刻機主要應用于2~6英寸基底先進光刻領(lǐng)域，可滿足Micro/Mini LED、新型化合物半導體器件和MEMS等芯片制程的光刻工藝需求。