全球最先進(jìn)的1nm EUV光刻機(jī)業(yè)已完成設(shè)計(jì)
想想幾年前的全球半導(dǎo)體芯片市場(chǎng)，真的可謂哀嚎一片，一時(shí)間摩爾定律失效的言論可謂此起彼伏。但是在今天，我們不僅看到5nm工藝如期而至，臺(tái)積電宣布2nm獲得重大進(jìn)展，就連光刻機(jī)的老大ASML也傳來捷報(bào)，全球最先進(jìn)的1nm EUV光刻機(jī)業(yè)已完成設(shè)計(jì)。
ASML已完成1nm光刻機(jī)設(shè)計(jì)
近日，與ASML（阿斯麥）合作研發(fā)光刻機(jī)的比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。具體來看，ASML對(duì)于3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路線規(guī)劃，且1nm時(shí)代的光刻機(jī)體積將增大不少。
顯然，1nm光刻機(jī)需要更強(qiáng)大的物理極性，2nm之后需要更高分辨率的曝光設(shè)備。目前已經(jīng)投入量產(chǎn)的7nm、5nm工藝已經(jīng)引入了0.33NA的EUV曝光設(shè)備，而ASML已經(jīng)完成了0.55NA曝光設(shè)備的基本設(shè)計(jì)，預(yù)計(jì)在2022年實(shí)現(xiàn)商業(yè)化。
很高興看到摩爾定律又起效了！
責(zé)任編輯:pj
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%。至少將GAA納米片提升幾個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)。
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光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件免費(fèi)試用
，或者M(jìn)DP軟件。
現(xiàn)有可免費(fèi)試用的光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件，可實(shí)現(xiàn)最高1nm精度的大型圖形轉(zhuǎn)換，同時(shí)只需要的少量的電腦內(nèi)存就可以運(yùn)行。如需要請(qǐng)聯(lián)系我，謝謝！
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