【2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元】

光刻機作為半導(dǎo)體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長，尤其是在先進制程領(lǐng)域，曝光波長逐漸縮短至13.5nm，光刻技術(shù)逐步完善成熟。2024年光刻機市場的規(guī)模為230億美元。2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元。

【光刻機的發(fā)展機會主要體現(xiàn)在以下四方面】

一、技術(shù)突破與市場競爭

中科院成功研發(fā)了突破性的固態(tài)深紫外激光技術(shù)，能夠發(fā)射出193nm的光， 一波長被普遍應(yīng)用于DUV光刻機，標(biāo)志著我國在DUV光刻機領(lǐng)域取得了重大突破。此外，國內(nèi)企業(yè)在光源系統(tǒng)、照明系統(tǒng)和投影物鏡等環(huán)節(jié)也取得了進展，進一步推動了國產(chǎn)光刻機的發(fā)展。這些技術(shù)突破為國內(nèi)光刻機企業(yè)提供了更多的市場機會和競爭優(yōu)勢。

二、市場需求增長

隨著全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，光刻機的需求也在不斷增加。特別是在電動汽車、人工智能等領(lǐng)域的需求增長，為光刻機市場帶來了新的機遇。中國作為全球最大的半導(dǎo)體市場之一，對光刻機的需求尤為顯著。盡管ASML等國際巨頭在中國市場的收入可能會減少，但這為中國本土光刻機企業(yè)提供了更多的市場空間和發(fā)展機會。

三、政策支持與投資增加

國家對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重視和投入加大，為光刻機的發(fā)展提供了有力的政策支持和資金保障。國內(nèi)企業(yè)如上海微電子已經(jīng)實現(xiàn)了90nm光刻機的量產(chǎn)，并在不斷努力突破先進制程，加速國產(chǎn)化進程。這些政策支持和投資增加為光刻機的發(fā)展創(chuàng)造了良好的環(huán)境。

四、國際競爭與合作

雖然歐美企業(yè)在光刻機領(lǐng)域占據(jù)主導(dǎo)地位，但中國在光刻機領(lǐng)域的自主研發(fā)和創(chuàng)新也在不斷推進。通過與國際企業(yè)的競爭與合作，中國光刻機企業(yè)可以不斷提升技術(shù)水平，拓展國際市場，進一步推動光刻機產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

我們篩選出以下潛力標(biāo)的

飛凱材料(300398)：主營業(yè)務(wù)包括光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。其產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于LED、TFT-LCD、PCB制造以及屏幕顯示制造等領(lǐng)域，并已逐步拓展至半導(dǎo)體制造和OLED材料領(lǐng)域。其核心優(yōu)勢在于豐富的產(chǎn)品線和廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域 , 以及持續(xù)的技術(shù)創(chuàng)新和市場拓展能力。

新萊應(yīng)材(300260)：光刻機的制造工藝對超高真空和特殊氣體條件有著嚴(yán)格的要求。新萊應(yīng)材的AdvanTorr真空產(chǎn)品系列以及NanoPure氣體產(chǎn)品系列，均能滿足這一需求，并廣泛應(yīng)用于光刻機設(shè)備中。公司已成功與多家光刻機制造商建立了合作關(guān)系。

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審核編輯 黃宇