存儲芯片廠商 SK 海力士 2 月 1 日宣布，其公司位于韓國首爾南部利川市的 M16 新廠已經(jīng)竣工，SK 海力士將首次使用極紫外輻射（EUV）光刻機在生產(chǎn)存儲芯片。

SK 海力士經(jīng)過兩年的時間，花費了 3.5 萬億韓元（約合 31 億美元）建成了這座芯片工廠，工廠長 336 米，寬 163 米，高 105 米，相當于一座 37 層公寓的高度，是 SK 海力士目前最大的芯片工廠。

SK 集團董事長崔泰源在頒獎典禮上稱，建造新工廠的決定在兩年前是十分大膽的，因為當時整個半導體存儲芯片市場正處于低迷，如今看來這個決定十分明智。

SK 海力士稱已在新廠 M16 引進了 EUV 光刻機，從而提高芯片電路的精細程度。

目前 SK 海力士計劃從今年 6 月開始使用 EUV 光刻機量產(chǎn)第四代 10nm（1α）DRAM 芯片。

據(jù) SK 海力士 CEO 李錫熙介紹，M16 是比較先進的芯片制造工廠，集中了符合 ESG（環(huán)境、社會和治理）理念的先進設(shè)施，例如專門用于 EUV 設(shè)備的車間和最新的污染減排設(shè)施。

他還稱，M16 的竣工也代表著其公司于 2015 年宣布的 “未來愿景”的早期實現(xiàn)。當時，SK 海力士宣布將從 2014 年起在 10 年內(nèi)建造三座新工廠，M14 和 M15 分別于 2015 年和 2018 年竣工，M16 是其 “未來愿景”中最后一間工廠。

結(jié)語：SK 海力士正式使用 EUV 技術(shù)，三大存儲廠商只剩美光未使用

本次 SK 海力士的工廠竣工將正好趕上服務(wù)器擴充，全球芯片短缺這一節(jié)點。該公司預(yù)計今年 DRAM 需求將增長約 17% 至 20%，此外今年服務(wù)器產(chǎn)品的需求也可能增長 30% 以上。SK 海力士的工廠竣工趕在了最合適的節(jié)點上，這離不開其公司對整體行業(yè)的精準判斷。

同時在 SK 海力士使用 EUV 技術(shù)后，三大芯片存儲廠商就只剩下美光還未引入 EUV 光刻機。短期內(nèi)美光采用 1α工藝的 DRAM 成本可能會低于另外兩家，但是長期來看可能將缺少三星、SK 海力士大規(guī)模采用 EUV 技術(shù)生產(chǎn) DRAM 的經(jīng)驗，這可能會使其在市場競爭中處于下風。

責任編輯：PSY