光刻機為什么這么難呢
芯片想必大家都很熟悉，光刻機是是制造芯片的核心裝備，并且光刻機只有一小部分國家擁有，那么光刻機為什么這么難呢？
據(jù)說越小的東西，建造起來就越困難。 這句話不是沒有道理的。 盡管手機中的芯片只有指甲那么大，但制作過程卻非常復(fù)雜。
光刻機的研發(fā)是需要非常多的資金支持，是用錢和技術(shù)堆起來的，許多企業(yè)都不能承受高昂的費用。而美國和一些國家來研究光刻機，每年都要投入幾十甚至上百億的研發(fā)。所以光刻機非常燒錢。
另外光刻機的光源難度也非常大，并且光刻機不是短時間就能成功制造的。光刻機的歷史比較久，在90年代的時候就有發(fā)達國家開始研究光刻機相關(guān)的技術(shù)了。并且光刻機的研究不僅僅是一個國家就能研發(fā)，還需要其他國家的生產(chǎn)力和科技支持。
本文綜合自酷奇網(wǎng)、百度百科、解碼最前沿
編輯：何安
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
光刻機
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1199瀏覽量
48883
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點推薦
中國打造自己的EUV光刻膠標準！
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/黃山明）芯片，一直被譽為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ，而制造芯片的重要設(shè)備光刻機就是 雕刻這個結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機還不夠，還需要光刻膠、掩膜版以及
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機被譽為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
AI需求飆升！ASML新光刻機直擊2nm芯片制造，尼康新品獲重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝（FOPLP）技術(shù)為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機設(shè)備，尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當中的哪些痛點問題？ 針對2nm、3nm芯片制造難題，光刻機龍頭企業(yè)ASML新款
光刻機的“精度錨點”：石英壓力傳感器如何守護納米級工藝
在7納米、3納米等先進芯片制造中，光刻機0.1納米級的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐，其作為“隱形功臣”，是保障工藝穩(wěn)定、設(shè)備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機中
國產(chǎn)高精度步進式光刻機順利出廠
近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司（簡稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進式光刻機已成功出廠，標志著我國在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進式光刻機屬于WS180i
如何確定12英寸集成電路新建項目中光刻機、刻蝕機等不同設(shè)備所需的防震基座類型和數(shù)量？-江蘇泊蘇系統(tǒng)集
確定 12 英寸集成電路新建項目中光刻機、刻蝕機等核心設(shè)備的防震基座類型與數(shù)量，需遵循 “設(shè)備需求為核心、環(huán)境評估為基礎(chǔ)、合規(guī)性為前提” 的原則，分步驟結(jié)合設(shè)備特性、廠房條件、工藝要求綜合判斷，具體流程與關(guān)鍵考量如下：
今日看點丨全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機問世；智元機器人發(fā)布行業(yè)首個機器人世界模型開源平臺
全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機問世，精度比肩國際主流 ? 近日，全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進入應(yīng)用測試階段。該設(shè)備精度達到0.6nm，線寬
發(fā)表于 08-15 10:15
?3088次閱讀
全球市占率35%，國內(nèi)90%！芯上微裝第500臺步進光刻機交付
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡稱：芯上微裝，英文簡稱：AMIES）第500臺步進光刻機成功交付，并舉辦了第500臺 步進光刻機 交付儀式。 ? ? 光刻是半導(dǎo)體器件
發(fā)表于 08-13 09:41
?2264次閱讀
佳能9月啟用新光刻機工廠，主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用
7 月 31 日消息，據(jù)《日經(jīng)新聞》報道，日本相機、打印機、光刻機大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn)，主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備，為全球芯片封裝
ASML官宣：更先進的Hyper NA光刻機開發(fā)已經(jīng)啟動
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，日前，ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨家合作伙伴蔡司，啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發(fā)。這一舉措標志著
發(fā)表于 06-29 06:39
?2018次閱讀
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān)，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關(guān)于光刻機概念大漲，后市迎來機會
【2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元】 光刻機作為半導(dǎo)體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長，尤其是在先
冠亞恒溫氣體制冷機采用全密閉循環(huán)技術(shù)，憑借±0.05℃的準確控溫能力，為光刻機提供穩(wěn)定的高低溫環(huán)境# 制冷機
光刻機
冠亞恒溫
發(fā)布于 :2025年04月03日 16:32:25
不只依賴光刻機！芯片制造的五大工藝大起底！
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時代的“心臟”，其制造過程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機這一高端設(shè)備，但實際上，芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了
工商網(wǎng)監(jiān)
評論