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未來的材料寵兒“碳化硅”和“氮化鎵” - 全文

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MACOM:硅基氮化器件成本優(yōu)勢

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為何碳化硅氮化更早用于耐高壓應(yīng)用呢?

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氮化南征北戰(zhàn)縱橫半導(dǎo)體市場多年,無論是吊打碳化硅,還是PK砷化氮化憑借其禁帶寬度大、擊穿電壓高、熱導(dǎo)率大、電子飽和漂移速度高、抗輻射能力強和良好的化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)越性質(zhì),確立了其在制備寬波譜
2019-07-31 06:53:03

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什么是碳化硅(SiC)?它有哪些用途?碳化硅(SiC)的結(jié)構(gòu)是如何構(gòu)成的?
2021-06-18 08:32:43

傳統(tǒng)的硅組件、碳化硅(Sic)和氮化(GaN)

傳統(tǒng)的硅組件、碳化硅(Sic)和氮化(GaN)伴隨著第三代半導(dǎo)體電力電子器件的誕生,以碳化硅(Sic)和氮化(GaN)為代表的新型半導(dǎo)體材料走入了我們的視野。SiC和GaN電力電子器件由于本身
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你知道為飛機電源管理提供解決方案的碳化硅嗎?

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  本文重點介紹賽米控碳化硅在功率模塊中的性能,特別是SEMITRANS 3模塊和SEMITOP E2無基板模塊?! 》至⑵骷ㄈ?TO-247)是將碳化硅集成到各種應(yīng)用中的第一步,但對于更強大和更
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新型電子封裝熱管理材料碳化硅

新型材料碳化硅解決了封裝中的散熱問題,解決各行業(yè)遇到的各種芯片散熱問題,如果你有類似的困惑,歡迎前來探討,鋁碳化硅做封裝材料的優(yōu)勢它有高導(dǎo)熱,高剛度,高耐磨,低膨脹,低密度,低成本,適合各種產(chǎn)品的IGBT。我西安明科微電子材料有限公司的趙昕。歡迎大家有問題及時交流,謝謝各位!
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  硅IGBT與碳化硅MOSFET驅(qū)動兩者電氣參數(shù)特性差別較大,碳化硅MOSFET對于驅(qū)動的要求也不同于傳統(tǒng)硅器件,主要體現(xiàn)在GS開通電壓、GS關(guān)斷電壓、短路保護(hù)、信號延遲和抗干擾幾個方面,具體如下
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被稱為第三代半導(dǎo)體材料碳化硅有著哪些特點

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請教碳化硅刻蝕工藝

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5G將于2020年將邁入商用,加上汽車走向智慧化、聯(lián)網(wǎng)化與電動化的趨勢,將帶動第三代半導(dǎo)體材料碳化硅(SiC)與氮化(GaN)的發(fā)展。根據(jù)拓墣產(chǎn)業(yè)研究院估計,2018年全球SiC基板產(chǎn)值將達(dá)1.8億美元,而GaN基板產(chǎn)值僅約3百萬美元。
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采用碳化硅氮化材料器件的應(yīng)用及優(yōu)勢介紹

1.1 碳化硅氮化器件的介紹, 應(yīng)用及優(yōu)勢
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倍思與2019年推出了首款2C1A GaN氮化充電器引爆了的氮化充電器市場,熱度持續(xù)不減,倍思再度推出全球第一款氮化+碳化硅 (GaN+SiC) 充電器。
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氮化晶體管和碳化硅MOSFET的結(jié)構(gòu)_特性_性能差異

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2021年將是氮化+碳化硅PD爆發(fā)元年

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未來氮化的價格很有可能大幅下降

氮化碳化硅一樣,不斷地挑戰(zhàn)著硅基材料的物理極限,多用于電力電子、微波射頻領(lǐng)域,在電力電子的應(yīng)用中,氮化的禁帶寬度是硅基材料的3倍,同時反向擊穿電壓是硅基材料的10倍,與同等電壓等級的硅基材料
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回顧2021年國內(nèi)外碳化硅產(chǎn)業(yè)重大事件

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/李誠)碳化硅氮化同屬于第三代半導(dǎo)體材料,均已被列入十四五發(fā)展規(guī)劃綱要。碳化硅氮化相比,碳化硅的耐壓等級更高,可使用的平臺也更廣。尤其是在新能源汽車領(lǐng)域,碳化硅高效、耐高壓的特性被越來越多的車企認(rèn)可,市場發(fā)展前景逐漸明朗。
2022-01-26 10:43:143816

氮化(GaN)和碳化硅(SiC)的區(qū)別在哪里?

氮化(GaN)和碳化硅(SiC)功率晶體管這兩種化合物半導(dǎo)體器件已作為方案出現(xiàn)。這些器件與長使用壽命的硅功率橫向擴散金屬氧化物半導(dǎo)體(LDMOS) MOSFET和超級結(jié)MOSFET競爭。
2022-04-01 11:05:195310

寬禁帶半導(dǎo)體發(fā)展迅猛 碳化硅MOSFET未來可期

在高端應(yīng)用領(lǐng)域,碳化硅MOSFET已經(jīng)逐漸取代硅基IGBT。以碳化硅、氮化領(lǐng)銜的寬禁帶半導(dǎo)體發(fā)展迅猛,被認(rèn)為是有可能實現(xiàn)換道超車的領(lǐng)域。
2022-07-06 12:49:161771

碳化硅的下一波浪潮

功率半導(dǎo)體是實現(xiàn)節(jié)能世界的關(guān)鍵。碳化硅氮化等新技術(shù)可實現(xiàn)更高的功率效率、更小的外形尺寸和更輕的重量。尤其是碳化硅是一種寬帶隙材料,能夠克服傳統(tǒng)硅基功率器件的限制。
2022-08-04 17:30:09795

碳化硅、氮化:注意帶隙

近年來,碳化硅(SiC)和氮化(GaN)等寬帶隙(WBG)半導(dǎo)體受到了廣泛關(guān)注。這兩種化合物都可以承受比硅更高的頻率、更高的電壓和更復(fù)雜的電子產(chǎn)品。SiC 和 GaN 功率器件的采用現(xiàn)在是不可否認(rèn)
2022-08-05 14:51:331182

氮化晶體管和碳化硅MOSFET產(chǎn)品多方面的對比與分析

氮化晶體管和碳化硅 MOSFET是近兩三年來新興的功率半導(dǎo)體,相比于傳統(tǒng)的硅材料功率半導(dǎo)體,他們都具有許多非常優(yōu)異的特性:耐壓高,導(dǎo)通電阻小,寄生參數(shù)小等。他們也有各自與眾不同的特性:氮化晶體管
2022-11-02 16:13:065427

半導(dǎo)體材料:GaN(氮化)的詳細(xì)介紹

氮化是一種寬能隙材料,它能夠提供與碳化硅(SiC)相似的性能優(yōu)勢,但降低成本的可能性卻更大。業(yè)界認(rèn)為,在未來數(shù)年間,氮化功率器件的成本可望壓低到和硅MOSFET、IGBT及整流器同等價格。
2022-11-04 09:14:2312593

氮化的優(yōu)勢特點!

傳統(tǒng)上,半導(dǎo)體生產(chǎn)中最常用的材料是硅(Si),因為它豐富且價格合理。但是,半導(dǎo)體制造商可以使用許多其他材料。此外,它們中的大多數(shù)還提供額外的好處,例如碳化硅(SiC)、砷化(GaAs)和氮化
2022-12-13 10:00:083919

碳化硅(SiC)與氮化(GaN)

一旦硅開始達(dá)不到電路需求,碳化硅氮化就作為潛在的替代半導(dǎo)體材料浮出水面。與單獨的硅相比,這兩種化合物都能夠承受更高的電壓、更高的頻率和更復(fù)雜的電子產(chǎn)品。這些因素可能導(dǎo)致碳化硅氮化在整個電子市場上得到更廣泛的采用。
2022-12-13 10:01:3516399

氮化用途和性質(zhì)

氮化用途和性質(zhì) 第三代半導(dǎo)體材料氮化(GaN)、碳化硅(SiC)、氧化鋅(ZnO)、金剛石為代表,是5G時代的主要材料,其中氮化(GaN)和碳化硅(SiC)的市場和發(fā)展空間最大。 氮化作為
2023-02-03 14:38:463001

碳化硅技術(shù)壁壘分析:碳化硅技術(shù)壁壘是什么 碳化硅技術(shù)壁壘有哪些

碳化硅技術(shù)壁壘分析:碳化硅技術(shù)壁壘是什么 碳化硅技術(shù)壁壘有哪些 碳化硅芯片不僅是一個新風(fēng)口,也是一個很大的挑戰(zhàn),那么我們來碳化硅技術(shù)壁壘分析下碳化硅技術(shù)壁壘是什么?碳化硅技術(shù)壁壘有哪些? 1
2023-02-03 15:25:165682

碳化硅氮化器件的特點差異

  碳化硅(SiC)和氮化(GaN)被稱為“寬帶隙半導(dǎo)體”(WBG)。在帶隙寬度中,硅為1.1eV,SiC為3.3eV,GaN為3.4eV,因此寬帶隙半導(dǎo)體具有更高的擊穿電壓,在某些應(yīng)用中可以達(dá)到1200-1700V。
2023-02-05 14:13:342592

什么是硅基氮化 氮化碳化硅的區(qū)別

 硅基氮化技術(shù)是一種將氮化器件直接生長在傳統(tǒng)硅基襯底上的制造工藝。在這個過程中,由于氮化薄膜直接生長在硅襯底上,可以利用現(xiàn)有硅基半導(dǎo)體制造基礎(chǔ)設(shè)施實現(xiàn)低成本、大批量的氮化器件產(chǎn)品的生產(chǎn)。
2023-02-06 15:47:337273

氮化行業(yè)發(fā)展前景如何?

氮化根據(jù)襯底不同可分為硅基氮化碳化硅氮化碳化硅氮化射頻器件具有高導(dǎo)熱性能和大功率射頻輸出優(yōu)勢,適用于5G基站、衛(wèi)星、雷達(dá)等領(lǐng)域;硅基氮化功率器件主要應(yīng)用于電力電子器件領(lǐng)域。雖然
2023-02-10 10:52:524733

氮化碳化硅的對比

氮化(GaN:Gallium Nitride)是氮和化合物,具體半導(dǎo)體特性,早期應(yīng)用于發(fā)光二極管中,它與常用的硅屬于同一元素周期族,硬度高熔點高穩(wěn)定性強。氮化材料是研制微電子器件的重要半導(dǎo)體材料,具有寬帶隙、高熱導(dǎo)率等特點,應(yīng)用在充電器可適配小型變壓器和高功率器件,充電效率高。
2023-02-13 16:49:5614117

碳化硅大功率高頻電子器件上的薄氮化

碳化硅(SiC)上開發(fā)了更薄的III族氮化物結(jié)構(gòu),以期實現(xiàn)高功率和高性能高頻薄高電子遷移率晶體管和其他器件。新結(jié)構(gòu)使用 高質(zhì)量的60納米無晶界氮化鋁成核層來避免大面積的擴展缺陷,而不是1-2米厚的氮化緩沖層(圖1)。成核層允許在0.2 m內(nèi)生 長高質(zhì)量的氮化。
2023-02-15 15:34:524

用于紫外發(fā)光二極管的碳化硅上的氮化

書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:用于紫外發(fā)光二極管的碳化硅上的氮化編號:JFKJ-21-1173作者:華林科納 一直在使用碳化硅碳化硅)襯底生長氮化鋁(AlGaN)結(jié)構(gòu),針對278nm深紫
2023-02-21 09:21:581

第四代半導(dǎo)體制備連獲突破,氧化將與碳化硅直接競爭?

此外,氧化的導(dǎo)通特性約為碳化硅的10倍,理論擊穿場強約為碳化硅3倍多,可以有效降低新能源汽車、軌道交通、可再生能源發(fā)電等領(lǐng)域在能源方面的消耗。數(shù)據(jù)顯示,氧化的損耗理論上是硅的1/3000、碳化硅的1/6、氮化的1/3。
2023-03-20 11:13:121879

有趣的材料—無處不在的碳化硅

電子器件的使用環(huán)境逐漸惡劣,航空航天、石油探測領(lǐng)域前景廣闊,在熱導(dǎo)率、擊穿場等上的要求更高,那么以碳化硅(SiC)、氮化(GaN)為主的第三代半導(dǎo)體材料起到了極大的作用。
2023-03-24 13:58:281970

碳化硅功率器件在充電樁中的應(yīng)用有哪些?

在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,碳化硅氮化無疑是當(dāng)前最炙手可熱的明星。其中,碳化硅擁有高壓、高頻和高效率等特性,其耐高頻耐高溫的性能,是同等硅器件耐壓的10倍。
2023-04-06 11:06:531209

碳化硅是如何制造的?碳化硅的優(yōu)勢和應(yīng)用

碳化硅,也稱為SiC,是一種由純硅和純碳組成的半導(dǎo)體基礎(chǔ)材料。您可以將SiC與氮或磷摻雜以形成n型半導(dǎo)體,或?qū)⑵渑c鈹,硼,鋁或摻雜以形成p型半導(dǎo)體。雖然碳化硅存在許多品種和純度,但半導(dǎo)體級質(zhì)量的碳化硅僅在過去幾十年中浮出水面以供使用。
2023-07-28 10:57:453687

氮化碳化硅誰將贏得寬帶隙之戰(zhàn)?

氮化碳化硅正在爭奪主導(dǎo)地位,它們將減少數(shù)十億噸溫室氣體排放。
2023-08-07 14:22:082323

碳化硅的性能和應(yīng)用場景

碳化硅具備耐高壓、耐高溫、高頻、抗輻射等優(yōu)良電氣特性,突破硅基半導(dǎo)體材料物理限制,是第三代半導(dǎo)體核心材料。碳化硅材料主要可以制成碳化硅氮化射頻器件和碳化硅功率器件。受益于5G通信、國防軍工、新能源汽車和新能源光伏等領(lǐng)域的發(fā)展,碳化硅需求增速可觀。
2023-08-19 11:45:224787

igbt和碳化硅區(qū)別是什么?

igbt和碳化硅區(qū)別是什么?? IGBT和碳化硅都是半導(dǎo)體器件,它們之間的區(qū)別主要體現(xiàn)在以下幾個方面。 一、材料: IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor,絕緣
2023-08-25 14:50:0421116

硅基氮化未來發(fā)展趨勢分析

GaN 技術(shù)持續(xù)為國防和電信市場提供性能和效率。目前射頻市場應(yīng)用以碳化硅氮化器件為主。雖然硅基氮化(GaN-on-Si)目前不會威脅到碳化硅氮化的主導(dǎo)地位,但它的出現(xiàn)將影響供應(yīng)鏈,并可能塑造未來的電信技術(shù)。
2023-09-14 10:22:362157

氮化碳化硅的結(jié)構(gòu)和性能有何不同

作為第三代功率半導(dǎo)體的絕世雙胞胎,氮化MOS管和碳化硅MOS管日益受到業(yè)界特別是電氣工程師的關(guān)注。電氣工程師之所以如此關(guān)注這兩種功率半導(dǎo)體,是因為它們的材料與傳統(tǒng)的硅材料相比具有許多優(yōu)點。 氮化
2023-10-07 16:21:182776

碳化硅氮化哪個好

碳化硅氮化的區(qū)別? 碳化硅(SiC)和氮化(GaN)是兩種常見的寬禁帶半導(dǎo)體材料,在電子、光電和功率電子等領(lǐng)域中具有廣泛的應(yīng)用前景。雖然它們都是寬禁帶半導(dǎo)體材料,但是碳化硅氮化在物理性質(zhì)
2023-12-08 11:28:514542

氮化半導(dǎo)體和碳化硅半導(dǎo)體的區(qū)別

氮化半導(dǎo)體和碳化硅半導(dǎo)體是兩種主要的寬禁帶半導(dǎo)體材料,在諸多方面都有明顯的區(qū)別。本文將詳盡、詳實、細(xì)致地比較這兩種材料的物理特性、制備方法、電學(xué)性能以及應(yīng)用領(lǐng)域等方面的差異。 一、物理特性: 氮化
2023-12-27 14:54:184061

氮化的發(fā)展難題及技術(shù)突破盤點

同為第三代半導(dǎo)體材料,氮化時常被人用來與碳化硅作比較,雖然沒有碳化硅發(fā)展的時間久,但氮化依舊憑借著禁帶寬度大、擊穿電壓高、熱導(dǎo)率大、飽和電子漂移速度高和抗輻射能力強等特點展現(xiàn)了它的優(yōu)越性。
2024-01-10 09:53:294465

碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈圖譜

、碳化硅MOSFET等功率器件,應(yīng)用于新能源汽車、光伏發(fā)電、軌道交通、智能電網(wǎng)、航空航天等領(lǐng)域;半絕緣型襯底可用于生長氮化外延片,制成耐高溫、耐高頻的HEMT 等微波射頻器件,主要應(yīng)用于5G 通訊、衛(wèi)星、雷達(dá)等領(lǐng)域。 碳化硅產(chǎn)
2024-01-17 17:55:171411

碳化硅氮化未來將怎樣共存

在這個電子產(chǎn)品更新?lián)Q代速度驚人的時代,半導(dǎo)體市場的前景無疑是光明的。新型功率半導(dǎo)體材料,比如碳化硅(SiC)和氮化(GaN),因其獨特的優(yōu)勢正成為行業(yè)內(nèi)的熱門話題。
2024-04-07 11:37:111454

萬年芯:“國家隊”出手!各國角逐碳化硅/氮化三代半產(chǎn)業(yè)

碳化硅、氮化為代表的第三代半導(dǎo)體材料被認(rèn)為是當(dāng)今電子電力產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要推動力,已在新能源汽車、光儲充、智能電網(wǎng)、5G通信、微波射頻、消費電子等領(lǐng)域展現(xiàn)出較高應(yīng)用價值,并具有較大的遠(yuǎn)景發(fā)展空間。以
2024-08-10 10:07:401199

碳化硅氮化哪種材料更好

引言 碳化硅(SiC)和氮化(GaN)是兩種具有重要應(yīng)用前景的第三代半導(dǎo)體材料。它們具有高熱導(dǎo)率、高電子遷移率、高擊穿場強等優(yōu)異的物理化學(xué)性質(zhì),被廣泛應(yīng)用于高溫、高頻、高功率等極端環(huán)境下的電子器件
2024-09-02 11:19:473434

氮化碳化硅哪個有優(yōu)勢

氮化(GaN)和碳化硅(SiC)都是當(dāng)前半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的佼佼者,它們各自具有獨特的優(yōu)勢,應(yīng)用領(lǐng)域也有所不同。以下是對兩者優(yōu)勢的比較: 氮化(GaN)的優(yōu)勢 高頻應(yīng)用性能優(yōu)越 : 氮化具有較高
2024-09-02 11:26:114884

碳化硅 (SiC) 與氮化 (GaN)應(yīng)用 | 氮化硼高導(dǎo)熱絕緣片

SiC和GaN被稱為“寬帶隙半導(dǎo)體”(WBG)。由于使用的生產(chǎn)工藝,WBG設(shè)備顯示出以下優(yōu)點:1.寬帶隙半導(dǎo)體氮化(GaN)和碳化硅(SiC)在帶隙和擊穿場方面相對相似。氮化的帶隙為3.2eV
2024-09-16 08:02:252049

為什么650V SiC碳化硅MOSFET全面取代超結(jié)MOSFET和高壓GaN氮化器件?

650V SiC碳化硅MOSFET全面取代超結(jié)MOSFET和高壓GaN氮化器件
2025-01-23 16:27:431780

碳化硅材料的特性和優(yōu)勢

碳化硅(SiC)是一種高性能的陶瓷材料,因其卓越的物理和化學(xué)特性而在許多工業(yè)領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用。從高溫結(jié)構(gòu)部件到電子器件,SiC的應(yīng)用范圍廣泛,其獨特的性能使其成為許多應(yīng)用中的首選材料碳化硅
2025-01-23 17:11:342729

納微半導(dǎo)體氮化碳化硅技術(shù)進(jìn)入戴爾供應(yīng)鏈

近日,GaNFast氮化功率芯片和GeneSiC碳化硅功率器件的行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者——納微半導(dǎo)體(納斯達(dá)克股票代碼:NVTS)今日宣布其氮化碳化硅技術(shù)進(jìn)入戴爾供應(yīng)鏈,為戴爾AI筆記本打造功率從60W至360W的電腦適配器。
2025-02-07 13:35:081237

基于氮化碳化硅功率MOSFET高頻諧振柵極驅(qū)動器

對于碳化硅(SiC)或氮化(GaN)等寬禁帶(WBG)功率器件而言,優(yōu)化的柵極驅(qū)動尤為重要。此類轉(zhuǎn)換器的快速開關(guān)需仔細(xì)考量寄生參數(shù)、過沖/欠沖現(xiàn)象以及功率損耗最小化問題,而驅(qū)動電路在這些方面都起著
2025-05-08 11:08:401153

碳化硅晶圓特性及切割要點

01襯底碳化硅襯底是第三代半導(dǎo)體材料氮化、碳化硅應(yīng)用的基石。碳化硅襯底以碳化硅粉末為主要原材料,經(jīng)過晶體生長、晶錠加工、切割、研磨、拋光、清洗等制造過程后形成的單片材料。按照電學(xué)性能
2025-07-15 15:00:19961

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