記者２３日從中科院光電技術(shù)研究所獲悉，該所微電子專(zhuān)用設(shè)備研發(fā)團(tuán)隊(duì)自主研制成功紫外納米壓印光刻機(jī)。
2016-03-24 08:28:51
14774 壓印光刻是許多新興應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)，例如微光學(xué)、增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)、MEMS和光電傳感器;但它是什么以及它是如何工作的?
2022-07-25 16:15:072070 
2013年韓國(guó)首爾納米技術(shù)展NANO KOREA2013年韓國(guó)納米展 韓國(guó)納米展 首爾納米展新材料展 微電子技術(shù)展 精密陶瓷展展會(huì)時(shí)間:2013年7月 10-12日主辦單位：韓國(guó)納米組織委員會(huì) 韓國(guó)
2013-02-24 13:52:34
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個(gè)數(shù)量級(jí)（從毫米級(jí)到亞微米級(jí)），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長(zhǎng)已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
關(guān)于光刻工藝的原理，大家可以想象一下膠片照片的沖洗，掩膜版就相當(dāng)于膠片，而光刻機(jī)就是沖洗臺(tái)，它把掩膜版上的芯片電路一個(gè)個(gè)的復(fù)制到光刻膠薄膜上，然后通過(guò)刻蝕技術(shù)把電路“畫(huà)”在晶圓上?！ ‘?dāng)然
2020-07-07 14:22:55
芯片制造流程其實(shí)是多道工序?qū)⒏鞣N特性的材料打磨成形，經(jīng)循環(huán)往復(fù)百次后，在晶圓上“刻”出各種電子特性的區(qū)域，最后形成數(shù)十億個(gè)晶體管并被組合成電子元件。那光刻，整個(gè)流程中的一個(gè)重要步驟，其實(shí)并沒(méi)有
2020-09-02 17:38:07
關(guān)于納米級(jí)電接觸電阻測(cè)量的新技術(shù)看完你就懂了
2021-04-09 06:43:22
納米技術(shù)的在中國(guó)是一個(gè)新技術(shù)，中國(guó)能做的就一兩家。納米防水技術(shù)要有特殊的設(shè)備，都要自我研發(fā)，加納米材料，以及技術(shù)。應(yīng)用領(lǐng)域可滿足手機(jī)等消費(fèi)電子產(chǎn)品，服飾，登山鞋等紡織品以及醫(yī)療領(lǐng)域相關(guān)產(chǎn)品防水抗潮
2018-09-19 13:34:06
、東南亞產(chǎn)品，衣鞋等。注意：1.網(wǎng)上很多自己噴上去的，還很好賣(mài)，這些附著力很差的，可以說(shuō)是一次性的，上面有灰塵、水分。鞋子有納米防水鍍膜始需要可靠性測(cè)試的。某國(guó)際品牌已經(jīng)在做測(cè)試2.街頭的那個(gè)納米防水技術(shù)，還現(xiàn)場(chǎng)演示。實(shí)踐是檢驗(yàn)真理的唯一標(biāo)準(zhǔn)。忽悠老板姓。
2018-10-09 09:54:28
隨著納米技術(shù)和生物傳感器交叉融合的發(fā)展，越來(lái)越多的新型納米生物傳感器涌現(xiàn)出來(lái)，如量子點(diǎn)、DNA、寡核苷配體等納米生物傳感器。
2020-04-21 06:27:50
提到納米技術(shù)，人們可能會(huì)覺(jué)得離自己好遠(yuǎn)。其實(shí)納米材料在幾個(gè)世紀(jì)前，就已經(jīng)在陶瓷釉和有色窗玻璃染色劑中使用。1990年代末以來(lái)，納米技術(shù)越來(lái)越多的投入到應(yīng)用中。現(xiàn)在，全球各地的科學(xué)家和工程師都在對(duì)這個(gè)
2021-08-31 08:13:56
納米技術(shù)是怎么回事看完你就懂了
2021-05-13 07:26:16
`納米防水技術(shù)還在推廣當(dāng)中。很多人沒(méi)接觸過(guò)。納米技術(shù)的防水、防潮，耐腐蝕。技術(shù)的應(yīng)用的比較廣，比如音響喇叭網(wǎng)，容易吸潮，納米鍍膜后完全不會(huì)吸潮。對(duì)音質(zhì)測(cè)試完全無(wú)影響。藍(lán)牙耳機(jī)耐汗耐腐蝕。鞋子防水抗濺，莫高檔品牌已經(jīng)在做了。LED防水防潮等等。`
2018-09-21 15:26:09
詳細(xì)介紹ATECLOUD智能云測(cè)試平臺(tái)。產(chǎn)品特點(diǎn)：零代碼編程；快速搭建測(cè)試方案；多臺(tái)設(shè)備多線程測(cè)試；遠(yuǎn)程監(jiān)
2022-01-03 07:34:15
;互聯(lián)網(wǎng)的出現(xiàn)讓我們與世界的聯(lián)系更加緊密?？萍几淖冎?，也改變著世界?！ ≡谌ツ?，有一個(gè)新的科學(xué)技術(shù)逐漸被我們所認(rèn)識(shí)和關(guān)注。它已經(jīng)較為普遍的應(yīng)用于我們的出行、工作中，但我們對(duì)它卻知之甚少，甚至沒(méi)有太多人知道它的名字。今天筆者就向各位介紹一下它——NFC。
2019-07-12 06:11:38
三種常見(jiàn)的光刻技術(shù)方法根據(jù)暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術(shù)?！ 敉队笆奖┕馐抢猛哥R或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
納米級(jí)電氣的特性是什么？
2021-05-12 06:22:56
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分別采用了什么芯片？ 3協(xié)同通信的方式有哪些？ 4大數(shù)據(jù)及認(rèn)知無(wú)線電（名詞解釋?zhuān)?4半導(dǎo)體工藝的4個(gè)主要步驟： 4簡(jiǎn)敘半導(dǎo)體光刻技術(shù)基本原理 4給出4個(gè)全球著名的半導(dǎo)體設(shè)備制造商并指出其生產(chǎn)的設(shè)備核心技術(shù)： 5衛(wèi)
2021-07-26 08:31:09
的韋亞一研究員及其團(tuán)隊(duì)具有多年的學(xué)術(shù)界及工業(yè)界的光刻技術(shù)經(jīng)驗(yàn)積累，并出版有多本專(zhuān)著，其中《計(jì)算光刻與版圖優(yōu)化》一書(shū)更是列入中國(guó)科學(xué)院大學(xué)研究生教學(xué)輔導(dǎo)書(shū)系列。本號(hào)獲授權(quán)將陸續(xù)介紹《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)
2021-10-14 09:58:07
。 SuPR-NaP法是向氟類(lèi)聚合物層照射紫外線，使圖案部分形成潛影，然后在上面掃過(guò)銀納米墨，以化學(xué)方式使銀納米墨僅吸附在圖案部分，形成布線。產(chǎn)綜研等單位在介紹該技術(shù)的發(fā)布會(huì)上，向新聞媒體公開(kāi)了實(shí)驗(yàn)室水平
2016-04-26 18:30:37
求介紹納米定位臺(tái)是怎么運(yùn)行的？、
2013-06-21 15:21:53
GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過(guò)將光線通過(guò)
2023-07-07 11:46:07
據(jù)Pixelligent Technologies LLC表示，該公司開(kāi)發(fā)出一種據(jù)稱(chēng)可提高現(xiàn)有光刻設(shè)備分辨率的納米晶（nanocrystalline）材料，使光學(xué)光刻（Optical lithography）可擴(kuò)展至32納米以下。
2009-06-07 18:31:181781 英特爾認(rèn)為浸入式光刻能延伸到11納米
英特爾的先進(jìn)光刻和制造部的Yan Borodovsky表明,英特爾希望EUV或者無(wú)掩模電子束光刻能作為193納米浸入式光刻在11納米的后補(bǔ)者
2010-02-25 10:17:551136 
隨著 納米加工 技術(shù)的發(fā)展,納米結(jié)構(gòu)器件必將成為將來(lái)的集成電路的基礎(chǔ). 本文介紹了幾種用電子束光刻、反應(yīng)離子刻蝕方法制備硅量子線、量子點(diǎn)和用電子束光刻、電子束蒸發(fā)以及剝
2011-06-20 16:16:09
36 本文主要介紹集成電路加工-光刻技術(shù)與光刻膠。集成電路加工主要設(shè)備和材料：光刻設(shè)備，半導(dǎo)體材料：?jiǎn)尉Ч璧?，掩膜，化學(xué)品：光刻膠（光致抗蝕劑），超高純?cè)噭庋b材料及光刻機(jī)的介紹
2017-09-29 16:59:0218 對(duì)于邏輯器件、存儲(chǔ)器件等主流IC行業(yè)，可以利用不同技術(shù)實(shí)現(xiàn)10nm以下工藝的光刻設(shè)備商只有三家：荷蘭ASML–EUV（極紫外光）光刻、日本尼康–浸沒(méi)式DUV（深紫外光）光刻、日本佳能–納米壓印光刻（NIL）
2018-03-24 10:10:001838 
從2009年開(kāi)始算起，中國(guó)研究團(tuán)隊(duì)一路攻堅(jiān)克難，國(guó)產(chǎn)首套90納米高端光刻機(jī)已于近期第一次成功曝光。2022年左右有望完成驗(yàn)收。這意味著，中國(guó)半導(dǎo)體材料和設(shè)備（工藝技術(shù)）產(chǎn)業(yè)又向前跨出了關(guān)鍵一大步
2018-04-10 10:57:41248746 穩(wěn)定的微納集成結(jié)構(gòu)不僅能為研究納米材料的光、電等方面的性能提供方便，還可能為功能微/納米電子器件的研制打下基礎(chǔ)。
2018-06-12 19:16:1514361 ”的同時(shí)，NGL正在研究，包括極紫外線光刻技術(shù)，電子束光刻技術(shù)，X射線光刻技術(shù)，納米壓印技術(shù)等。
光學(xué)光刻技術(shù)
光學(xué)光刻是通過(guò)廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件
2018-06-27 15:43:5013171 西村涼博士表示，液晶聚合物相位差膜的價(jià)格原來(lái)比較高，10年以來(lái)一直在降低成本，JXTG也通過(guò)很多其他材料特性來(lái)做驗(yàn)證，而最終成功研發(fā)出納米壓印技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)更簡(jiǎn)單的工藝和制造成本。JXTG的納米壓印技術(shù)，可通過(guò)周期性的納米尺寸凹凸構(gòu)造從而實(shí)現(xiàn)相位延遲。
2018-07-13 10:51:346641 通過(guò)驗(yàn)收，這是我國(guó)成功研制出的世界首臺(tái)分辨力最高紫外超分辨光刻裝備。該***由中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制，光刻分辨力達(dá)到22納米，結(jié)合多重曝光技術(shù)后，可用于制造10納米級(jí)別的芯片。
中科院
2018-12-01 09:29:4515360 的技術(shù)水平上獲得更高分辨率的光刻圖形。如1999年初Canon公司推出的FPA-1000ASI掃描步進(jìn)機(jī)，該機(jī)的光源為193納米，通過(guò)采用波前技術(shù)，可在300毫米硅片上實(shí)現(xiàn)0.13微米光刻線寬。
光刻
2019-01-02 16:32:2329609 近日，據(jù)外媒報(bào)道，一個(gè)國(guó)際研究團(tuán)隊(duì)報(bào)告說(shuō)，在制造納米芯片方面取得了突破性進(jìn)展。這一突破可能對(duì)納米芯片的生產(chǎn)和全球各地的納米技術(shù)實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)生深遠(yuǎn)的影響。
2019-02-11 09:28:392875 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車(chē)間中車(chē)床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開(kāi)光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會(huì)發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長(zhǎng)，直接關(guān)系到大型計(jì)算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-02-25 10:07:536886 隨著半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)突破設(shè)計(jì)尺寸不斷縮小的極限，極紫外 （EUV） 光刻技術(shù)的運(yùn)用逐漸擴(kuò)展到大規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境中。對(duì)于 7 納米及更小的高級(jí)節(jié)點(diǎn)，EUV 光刻技術(shù)是一種能夠簡(jiǎn)化圖案形成工藝的支持技術(shù)。要在如此精細(xì)的尺寸下進(jìn)行可靠制模，超凈的掩模必不可少。
2019-07-03 15:32:372675 
德克薩斯州奧斯汀 - 國(guó)際Sematech公司的研究經(jīng)理表示，他們對(duì)將光刻技術(shù)擴(kuò)展到生產(chǎn)的可能性更加樂(lè)觀一組專(zhuān)家回顧了下一代157納米曝光工具關(guān)鍵材料的最新發(fā)展后，低于0.10微米技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路。
2019-08-13 10:53:594676 聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics能力中心開(kāi)展，這是一個(gè)開(kāi)放式的光刻/納米壓印（NIL）技術(shù)創(chuàng)新孵化器，同時(shí)也是全球唯一可及的300-mm光刻/納米壓印技術(shù)線 2019年8月28日，奧地利
2019-08-29 22:48:032854 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車(chē)間中車(chē)床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開(kāi)光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會(huì)發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長(zhǎng)，直接關(guān)系到大型計(jì)算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-12-21 09:58:4023318 本文首先介紹了納米技術(shù)的定義，其次闡述了生活中中納米技術(shù)的應(yīng)用，最后介紹了納米技術(shù)給人類(lèi)帶來(lái)好處。
2020-04-09 15:07:1825442 近日，埃眸科技與常熟高新區(qū)正式簽署項(xiàng)目協(xié)議，打造納米壓印光刻機(jī)生產(chǎn)線。
2020-04-13 16:18:059002 臺(tái)，完成圖像的納米定位加工。納米光刻技術(shù)是制作納米結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵，具有廣闊的應(yīng)用前景。 利用芯明天P12系列XY二維掃描臺(tái)，可帶動(dòng)鍍膜鏡片對(duì)讀取的圖像信息進(jìn)行優(yōu)化，同時(shí)控制激光器及掃描臺(tái)，二者配合完成圖像的納米精度加工。
2020-04-21 15:30:311459 納米壓印光刻技術(shù)及其應(yīng)用的需求正在不斷變化。因此，此次合作的基本目標(biāo)是了解市場(chǎng)最新需求，進(jìn)而通過(guò)雙方在工藝和材料方面的優(yōu)勢(shì)，合力開(kāi)發(fā)出相應(yīng)的解決方案，從而應(yīng)對(duì)該行業(yè)不斷出現(xiàn)的嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。
2020-06-17 14:27:425742 EVG技術(shù)開(kāi)發(fā)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)總監(jiān)Markus Wimplinger表示：“為推動(dòng)納米壓印技術(shù)的發(fā)展，我們成立了NILPhotonics Competence Center。EVG與納米壓印產(chǎn)業(yè)鏈的企業(yè)合作，如Inkron等
2020-10-13 14:43:543237 最近光刻機(jī)十分火，我們經(jīng)常聽(tīng)到別人說(shuō)7納米光刻機(jī)、5納米光刻機(jī)，但其實(shí)嚴(yán)格意義上來(lái)說(shuō)并不存在7納米光刻機(jī)，5納米光刻機(jī)，我為什么會(huì)這樣說(shuō)呢？
2020-10-19 11:42:5123695 產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)技術(shù)。目前，納米壓印技術(shù)在國(guó)際半導(dǎo)體藍(lán)圖（ITRS）中被列為下一代32nm、22nm和16nm節(jié)點(diǎn)光刻技術(shù)的代表之一。國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體設(shè)備制造商、材料商以及工藝商紛紛開(kāi)始涉足這一領(lǐng)域，短短25年，已經(jīng)取得很大進(jìn)展。 ? 納米壓印技術(shù)首先通過(guò)接觸式壓印
2021-01-03 09:36:0028855 
經(jīng)常聽(tīng)到別人說(shuō)7納米光刻機(jī)、5納米光刻機(jī)，但其實(shí)嚴(yán)格意義上來(lái)說(shuō)并不存在7納米光刻機(jī)，5納米光刻機(jī)，我為什么會(huì)這樣說(shuō)呢？
2021-03-30 09:19:413514 
在今年慕尼黑光博會(huì)舉辦的3D人臉識(shí)別大會(huì)上，3D光學(xué)器件廠商均拿出了自己的光學(xué)解決方案，無(wú)論是采用散斑結(jié)構(gòu)光方案，還是i-TOF、d-TOF方案，其核心光學(xué)器件DOE和Diffuser的制造都是采用納米壓印技術(shù)量產(chǎn)的。
2021-05-06 15:41:186272 
在過(guò)去幾十年的發(fā)展中，納米加工技術(shù)促進(jìn)了集成電路的迅速發(fā)展，實(shí)現(xiàn)了器件的高集成度，納米加工技術(shù)是人類(lèi)認(rèn)識(shí)學(xué)習(xí)微觀世界的工具，通過(guò)理解這一技術(shù)可以幫助我們更好認(rèn)識(shí)納米技術(shù)以及納米技術(shù)支撐的現(xiàn)代高科技產(chǎn)業(yè)。
2021-07-16 15:54:122605 壓印技術(shù)是指將“模具”壓在柔軟的樹(shù)脂等，將形狀轉(zhuǎn)印的技術(shù)。如下示意圖，可將樹(shù)脂壓在模具（mold）上轉(zhuǎn)印形狀，同理也可將形狀從金屬或玻璃制圓筒形模具上將形狀轉(zhuǎn)印到薄膜等。
2022-06-30 10:48:174547 大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了?，F(xiàn)在，全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)，那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢？ 到現(xiàn)在，世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4253097 MicroFAB-3D雙光子聚合3D納米光刻機(jī)是一款超緊湊、超高分辨率交鑰匙型3D打印機(jī)。雙光子聚合3D納米光刻機(jī)基于雙光子聚合(TPP)激光直寫(xiě)技術(shù)，兼容多種高分子材料，包括生物材料。MicroFAB-3D 3D納米光刻機(jī)幫助您以百納米級(jí)的分辨率生產(chǎn)出前所未有的復(fù)雜的微部件.
2022-08-08 13:54:188185 
過(guò)去二十年見(jiàn)證了193 nm以下波長(zhǎng)光刻技術(shù)的發(fā)展。在使用 F2 準(zhǔn)分子激光器開(kāi)發(fā)基于 157 納米的光刻技術(shù)方面付出了一些努力，但主要關(guān)注點(diǎn)是使用 13.5 納米軟 X 射線作為光源的極紫外 (EUV) 光刻技術(shù)。
2023-02-02 11:49:593901 ROG幻16 經(jīng)典版2023吸納宇宙炫彩射線靈感，新創(chuàng)時(shí)尚星際黑配色。A面除了更加精密的CNC開(kāi)孔打造幻彩棱鏡光效，還搭配納米壓印光刻炫彩銘牌，輕薄且高顏值。
2023-02-19 10:02:435887 .什么是納米壓印**
納米壓印技術(shù)，從字面的意思剖析。納米代表了這個(gè)技術(shù)加工的尺度是（納米：Nanometer，符號(hào):nm，即為毫微米，是長(zhǎng)度的度量單位。1納米=10的負(fù)9次方米。）。壓印則是代表
2023-02-20 15:20:1222982 
日本最寄望于納米壓印光刻技術(shù)，并試圖靠它再次逆襲，日經(jīng)新聞網(wǎng)也稱(chēng)，對(duì)比EUV光刻工藝，使用納米壓印光刻工藝制造芯片，能夠降低將近四成制造成本和九成電量，鎧俠 (KIOXIA）、佳能和大日本印刷等公司則規(guī)劃在2025年將該技術(shù)實(shí)用化。
2023-03-22 10:20:393968 中國(guó)在芯片制造領(lǐng)域一直在追趕先進(jìn)的技術(shù)，雖然在一些關(guān)鍵技術(shù)方面還存在一定差距，但近年來(lái)中國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域取得了一些進(jìn)展，下面將詳細(xì)介紹中國(guó)目前最先進(jìn)的光刻機(jī)是多少納米。
2023-04-24 15:10:0163440 壓電納米定位臺(tái)在精密定位領(lǐng)域中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用，可集成于各類(lèi)高精密裝備，為其提供納米級(jí)運(yùn)動(dòng)控制，且應(yīng)用非常廣泛，例如顯微掃描、光路調(diào)整、納米操控技術(shù)、激光干涉、納米光刻、生物科技、光通信、納米
2023-05-11 08:56:021562 
納米壓印技術(shù)，即Nanoimprint Lithography（NIL），是一種新型的微納加工技術(shù)。該技術(shù)將設(shè)計(jì)并制作在模板上的微小圖形，通過(guò)壓印等技術(shù)轉(zhuǎn)移到涂有高分子材料的硅基板上。
2023-05-19 09:37:472515 
非光刻圖案化方法可以從圖案設(shè)計(jì)的自由度上分為三大類(lèi)，第一類(lèi)能夠自由形成任意圖案，主要包括掃描探針刻?。⊿PL）和噴墨打印；第二類(lèi)需要在模板或預(yù)圖案化基材的輔助下形成復(fù)雜的圖案，包括區(qū)域選擇性沉積（ASD）、納米壓印（NIL）、微接觸印刷（mCP）
2023-06-21 15:49:503416 
據(jù)新維度公司總經(jīng)理羅鋼博士介紹，新維度公司繼承了劉忠范教授和瑞典lars montelius教授的納米壓印技術(shù)系統(tǒng)，是世界主要納米壓印技術(shù)路線之一。
2023-07-20 10:58:363042 2000年代初，芯片行業(yè)一直致力于從193納米氟化氬（ArF）光源光刻技術(shù)過(guò)渡到157納米氟（F 2 ）光源光刻技術(shù)。
2023-08-23 10:33:462377 
歐洲極紫外光刻（EUVL）技術(shù)利用波長(zhǎng)為13.5納米的光子來(lái)制造集成電路。產(chǎn)生這種光的主要來(lái)源是使用強(qiáng)大激光器產(chǎn)生的熱錫等離子體。激光參數(shù)被調(diào)整以產(chǎn)生大多數(shù)在13.5納米附近發(fā)射的錫離子（例如Sn10+-Sn15+）。
2023-09-25 11:10:502593 
璞璘科技成立于2017年，致力于納米壓印設(shè)備及材料的生產(chǎn)和開(kāi)發(fā)。據(jù)璞璘科技官方消息，公司是目前國(guó)內(nèi)市場(chǎng)上唯一一家集納米壓印設(shè)備、材料、技術(shù)于一體的納米壓印尖端微納米制造企業(yè)。
2023-10-13 10:03:234245 為了制備蜂窩狀紋理的絨面結(jié)構(gòu)，研究人員利用了熱輔助紫外輥納米壓印光刻技術(shù)（TUV-Roller-NIL），基于TUV-Roller-NIL制造蜂窩紋理的工藝鏈可以分為以下四步。
2023-10-25 09:31:361758 
納米壓印是微納工藝中最具發(fā)展?jié)摿Φ牡谌?b class="flag-6" style="color: red">光刻工藝，是最有希望取代極紫外光的新一代工藝。最近，海力士公司從佳能購(gòu)買(mǎi)了一套奈米壓印機(jī)，進(jìn)行了大規(guī)模生產(chǎn)，并取得了不錯(cuò)的效果。
2023-11-08 14:34:022455 據(jù)DIGITIMES此前消息，SK海力士2023年引進(jìn)佳能納米壓印設(shè)備，正在進(jìn)行測(cè)試與研發(fā)，目標(biāo)在2025年左右將該設(shè)備用于3D NAND量產(chǎn)。有業(yè)內(nèi)人士表示：“與EUV相比，納米壓印技術(shù)形成圖案
2023-11-10 16:25:062346 
“半導(dǎo)體研發(fā)機(jī)構(gòu) imec 的項(xiàng)目經(jīng)理塞德里克-羅林（Cedric Rolin）說(shuō)：”納米壓印技術(shù)很難在質(zhì)量上與 EUV 相媲美。” 他說(shuō)，納米壓印的缺陷率“相當(dāng)高”。
2023-12-06 15:54:421272 對(duì)于納米壓印技術(shù)，佳能半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)務(wù)部巖本和德介紹道，它是通過(guò)將刻有半導(dǎo)體電路圖的掩膜壓制于晶圓之上完成二維或三維電路成型的過(guò)程。巖本進(jìn)一步補(bǔ)充道，若對(duì)掩膜進(jìn)行改良，將有可能實(shí)現(xiàn)2nm級(jí)別的電路線條寬度。
2023-12-25 14:51:511653 佳能近日表示，計(jì)劃年內(nèi)或明年上市使用納米壓印技術(shù)的光刻設(shè)備FPA-1200NZ2C。對(duì)比已商業(yè)化的EUV光刻技術(shù)，雖然納米壓印的制造速度較傳統(tǒng)方式緩慢，但由于制程簡(jiǎn)化，耗電僅為EUV的十分之一，且投資額也僅為EUV設(shè)備的四成。
2024-01-31 16:51:182044 Takeishi向英國(guó)《金融時(shí)報(bào)》表示，公司計(jì)劃于2024年開(kāi)始出貨其納米壓印光刻機(jī)FPA-1200NZ2C，并補(bǔ)充說(shuō)芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月，該公司表示該設(shè)備的價(jià)格將比ASML的EUV機(jī)器便宜一位數(shù)。 佳能表示，與利用光曝光電路圖案的傳統(tǒng)光刻技術(shù)不同，納米壓印光刻不需要光源，利用
2024-02-01 15:42:051616 
納米壓印光刻（NIL）技術(shù)已被用于解決光學(xué)超構(gòu)表面（metasurfaces）的高成本和低產(chǎn)量的制造挑戰(zhàn)。為了克服以低折射率（n）為特征的傳統(tǒng)壓印樹(shù)脂的固有局限性，引入了高折射率納米復(fù)合材料直接用作超構(gòu)原子（meta-atoms）。然而，對(duì)這些納米復(fù)合材料的全面研究明顯缺乏。
2024-05-09 09:09:511790 
研究人員基于超薄納米壓印超構(gòu)透鏡陣列開(kāi)發(fā)出一種透視增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)（AR）原型，開(kāi)創(chuàng)了一種全彩、視頻速率和低成本的3D近眼顯示方案。
2024-05-15 09:09:092530 
在探索微觀世界的奧秘中，納米技術(shù)以其獨(dú)特的尺度和潛力，開(kāi)啟了一扇通往未知領(lǐng)域的大門(mén)。納米壓印技術(shù)（Nanoimprint Lithography, NIL），作為納米制造領(lǐng)域的一項(xiàng)高精度的微納加工技術(shù)
2024-08-26 10:05:034643 
在慶祝成立十周年的重要時(shí)刻，荷蘭納米壓印技術(shù)領(lǐng)域的佼佼者M(jìn)orphotonics宣布成功完成了1000萬(wàn)美元的B1輪融資，這一里程碑式的成就不僅彰顯了公司在全球顯示技術(shù)領(lǐng)域的深厚積累與廣闊前景，也為其持續(xù)推動(dòng)技術(shù)創(chuàng)新注入了強(qiáng)勁動(dòng)力。
2024-09-19 17:29:231110 其中。 ? 報(bào)道援引知情人士的消息稱(chēng)，蘋(píng)果退出了最近一輪的談判，該輪融資預(yù)計(jì)將于下周結(jié)束。另外兩家科技巨頭公司微軟和英偉達(dá)也參與了這一輪談判。有消息稱(chēng)微軟預(yù)計(jì)將在此前已向該公司投資130億美元的基礎(chǔ)上再投資約10億美元。 ? 2. 佳能首次出貨納米壓印光刻機(jī)
2024-09-29 11:24:291303 電子束光刻技術(shù)使得對(duì)構(gòu)成多種納米技術(shù)基礎(chǔ)的納米結(jié)構(gòu)特征實(shí)現(xiàn)精細(xì)控制成為可能。納米結(jié)構(gòu)制造與測(cè)量的研究人員致力于提升納米尺度下的光刻精度，并開(kāi)發(fā)了涵蓋從光學(xué)到流體等多個(gè)物理領(lǐng)域、用以制造創(chuàng)新器件和標(biāo)準(zhǔn)的工藝流程。
2024-10-18 15:23:261801 
光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán)，而光刻膠，又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展，對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng)，光刻膠的需求也水漲船高，在微電子制造和納米技術(shù)等高精尖領(lǐng)域占據(jù)著至關(guān)重要的位置。
2024-11-11 10:08:214402 
? 本文介紹了用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造：光刻技術(shù)的演進(jìn) 過(guò)去半個(gè)多世紀(jì)，摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長(zhǎng)卡在193nm，芯片制程縮小至65nm
2024-11-24 11:04:144451 
?? 光刻掩膜簡(jiǎn)介 ?? ? 光刻掩膜（Photomask）又稱(chēng)光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，通常簡(jiǎn)稱(chēng)“mask”，是半導(dǎo)體制造過(guò)程中用于圖案轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具，對(duì)于光刻工藝的重要性不弱于光刻機(jī)、光刻
2025-01-02 13:46:225047 
納米級(jí)別的分辨率。本文將詳細(xì)介紹光刻機(jī)的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機(jī)的心臟，負(fù)責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機(jī)使用汞燈作為光源，但隨著技術(shù)的進(jìn)步，目前多采用深紫外（DUV）或極紫外（EUV）光源，
2025-01-07 10:02:304530 
來(lái)源：John Boyd IEEE電氣電子工程師學(xué)會(huì) 9月，佳能交付了一種技術(shù)的首個(gè)商業(yè)版本，該技術(shù)有朝一日可能顛覆最先進(jìn)硅芯片的制造方式。這種技術(shù)被稱(chēng)為納米壓印光刻技術(shù)（NIL
2025-01-09 11:31:181280 本文旨在介紹人類(lèi)祖先曾經(jīng)使用過(guò)納米晶體的應(yīng)用領(lǐng)域。 ? 納米技術(shù)/材料在現(xiàn)代社會(huì)中的應(yīng)用與日俱增。納米晶體，這一類(lèi)獨(dú)特的納米材料，預(yù)計(jì)將在液晶顯示器、發(fā)光二極管、激光器等新一代設(shè)備中發(fā)揮關(guān)鍵作用
2025-01-13 09:10:191505 
光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
2025-02-06 09:38:031028 
光刻技術(shù)對(duì)芯片制造至關(guān)重要，但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制，摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸，下一代光刻（NGL）技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。本文將介紹納米壓印技術(shù)（NIL）的原理、發(fā)展、應(yīng)用及設(shè)備，并探討其在半導(dǎo)體制造中
2025-02-13 10:03:503709 
的問(wèn)題，還存在工藝復(fù)雜度大幅增加的瓶頸。而納米壓印技術(shù)憑借其在高分辨率加工、低成本生產(chǎn)以及高量產(chǎn)效率等方面的顯著優(yōu)勢(shì)，正逐步成為下一代微納制造領(lǐng)域的核心技術(shù)之一。 （注：圖片來(lái)源于網(wǎng)絡(luò)） 一、納米壓印：芯片制造領(lǐng)域的
2025-06-19 10:05:36767 
與成熟制程市場(chǎng)提供更多設(shè)備產(chǎn)能支持。 據(jù)介紹，這座新工廠是佳能在 2023 年開(kāi)始動(dòng)工建設(shè)的，并可能使用自家開(kāi)發(fā)的 Nanoimprint (納米壓印) 技術(shù)，總投資額超過(guò) 500 億日元，涵蓋廠房與先進(jìn)制造設(shè)備。新廠面積達(dá) 6.75 萬(wàn)平方公尺，投產(chǎn)后將使光刻設(shè)備總產(chǎn)能提
2025-08-04 17:39:28712 電子束光刻（EBL）是一種無(wú)需掩模的直接寫(xiě)入式光刻技術(shù)，其工作原理是通過(guò)聚焦電子束在電子敏感光刻膠表面進(jìn)行納米級(jí)圖案直寫(xiě)。
2025-08-14 10:07:212553 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李寧遠(yuǎn)）提及芯片制造技術(shù)，首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。眾所周知在芯片行業(yè)，光刻是芯片制造過(guò)程中最重要、最繁瑣、最具挑戰(zhàn)也最昂貴的一項(xiàng)工藝步驟。在光刻機(jī)的支持下，摩爾定律
2023-07-16 01:50:154710 
壓印光刻技術(shù)NIL在這條賽道上備受關(guān)注，是最有機(jī)會(huì)率先應(yīng)用落地的技術(shù)路線。 ? 今年早些時(shí)候，根據(jù)英國(guó)金融時(shí)報(bào)的報(bào)道，負(fù)責(zé)監(jiān)督新型光刻機(jī)開(kāi)發(fā)的佳能高管武石洋明在接受采訪時(shí)稱(chēng)，采用納米壓印技術(shù)的佳能光刻設(shè)備FPA-1200NZ2C目標(biāo)最快在
2024-03-09 00:15:005545 
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