研發(fā)到量產(chǎn)的跨越，65nm產(chǎn)品已開始送樣驗證。 ? 掩模版也稱光罩，是集成電路制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或者母板，載著圖形信息和工藝技術(shù)信息，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、平板顯示、電路板、觸控屏等領(lǐng)域。掩模版的作用是將承載的電路圖形通過曝光的方式轉(zhuǎn)移到硅
2025-07-30 09:19:50
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保持良好的勢頭。以下為您帶來200G光模塊最全解析?！ ∠?b class="flag-6" style="color: red">一代數(shù)據(jù)中心的主流：200G/400G 數(shù)據(jù)中心光互連市場的主要轉(zhuǎn)變是從10G到40G以及更高的40G到100G，另一個可預(yù)見的趨勢是逐步
2019-12-04 16:36:53
好的傳感器的設(shè)計是經(jīng)驗加技術(shù)的結(jié)晶。一般理解傳感器是將一種物理量經(jīng)過電路轉(zhuǎn)換成一種能以另外一種直觀的可表達(dá)的物理量的描述。而下文我們將對傳感器的概念、原理特性進(jìn)行逐一介紹，進(jìn)而解析傳感器的設(shè)計的要點。
2020-08-28 08:04:04
板→浸%稀H2SO4→加厚銅 圖形轉(zhuǎn)移 目的：圖形轉(zhuǎn)移是生產(chǎn)菲林上的圖像轉(zhuǎn)移到板上。 流程：（藍(lán)油流程）：磨板→印第一面→烘干→印第二面→烘干→爆光→沖影→檢查；（干膜流程）：麻板→壓膜→靜置
2018-11-28 11:32:58
` 本帖最后由 ketianjian 于 2016-2-15 14:06 編輯
來自麻省理工學(xué)院和新加坡科技大學(xué)的團(tuán)隊近期研發(fā)出了一種新技術(shù)，該技術(shù)基于圖像計算，可以使高速相機(jī)傳感器在光照較強(qiáng)
2016-02-15 14:03:02
的推動作用。近年來也出現(xiàn)了很多新技術(shù)和結(jié)構(gòu),促進(jìn)其實用化。自由組織光波網(wǎng)絡(luò)技術(shù)該技術(shù)應(yīng)用于波導(dǎo)、光開關(guān)、反射器、等光學(xué)器件的互連。先將要互連的光學(xué)器件放在一個光反射材料如全息光聚合物、光反射晶體上,這些
2016-01-29 09:19:33
，從gate size放大而來。完整的光掩膜圖形中，除了對應(yīng)電路的圖形外，還包括一些輔助圖形或測試圖形，常見的有：游標(biāo)，光刻對準(zhǔn)圖形，曝光量控制圖形，測試鍵圖形，光學(xué)對準(zhǔn)目標(biāo)圖形，劃片槽圖形，和其他
2012-01-12 10:36:16
光耦PC817中文解析
2012-08-20 14:32:28
圖形反轉(zhuǎn)工藝用于金屬層剝離的研究研究了ＡＺ?５２１４ 膠的正、負(fù)轉(zhuǎn)型和形成適用于剝離技術(shù)的倒臺面圖形的工藝技術(shù)。用掃描電鏡和臺階儀測試制作出的光刻膠斷面呈倒臺面，傾角約為６０°，膠厚１?４μｍ。得到
2009-10-06 10:05:30
今天在線材測試機(jī)CT-8681上拆了一個320*240解析度圖形液晶，可是不知道硬件怎樣連接，我想把這個液晶與單片機(jī)連接來用。在網(wǎng)上也找不到相關(guān)的資料，請大家?guī)蛶兔?。謝了。液晶板上有寫RG322421 下一行UNHCWB下一行PU03120002
2012-07-10 22:51:02
曝光，且這一過程耗時時間短，操作簡單，對操作人員要求不高，可以實現(xiàn)一鍵安裝菲林。CCD半自動曝光機(jī)系統(tǒng)特點：1.單/雙面曝光。2.伺服控制雙框進(jìn)出。3.八根軸控制四相機(jī)。4.自動對位，精度高，操作簡單
2020-07-06 10:58:52
通過i2c配置dlp曝光在27張條紋序列。當(dāng)dlp的曝光時間超過20000曝光值時，配置返回正確但是dlp沒有投光。
ps:應(yīng)該不是暗時間配置的問題，配置之前會通過命令讀取按時間。
2025-02-21 07:05:46
3010光機(jī)，光機(jī)觸發(fā)相機(jī)同步采圖，曝光設(shè)置：
pre_illumination_dark_time: 11958
illumination_time: 1700
2025-02-20 08:33:17
, 以及二次成型 共三種. 關(guān)于一次成型，即 PHOTOIMAGIING 影像轉(zhuǎn)移法, 過程采電鍍級樹脂射出成型，如PES、LCP 液晶樹脂、環(huán)氧樹脂、SPS 等，經(jīng)粗化、觸媒涂怖、化學(xué)銅、電著光阻
2018-11-23 16:47:52
PCB中LDI曝光機(jī)的工作原理是什么？有哪些優(yōu)點呢？
2023-04-23 16:16:55
強(qiáng)度的設(shè)置 在光繪過程中，如果光源強(qiáng)度過高，則繪制的圖形會出現(xiàn)光暈；如果光源的強(qiáng)度過低，則繪制的圖形會曝光不足，因此無論是矢量光繪機(jī)還是激光光繪機(jī)都存在一個光強(qiáng)調(diào)節(jié)問題。在高檔的光繪機(jī)中設(shè)置有一個
2018-08-31 14:13:27
PCB制造工序中，無論是單、雙面板及多層板、最基本、最關(guān)鍵的工序之一是圖形轉(zhuǎn)移，即將照相底版(Art-work)圖形轉(zhuǎn)移到敷銅箔基材上。圖形轉(zhuǎn)移是生產(chǎn)中的關(guān)鍵控制點，也都是技術(shù)難點所在。其工藝方法有
2019-06-12 10:40:14
等?！?】干膜（壓干膜/貼膜/貼干膜）通過壓膜機(jī)，在銅面上，貼附感光材料（干膜）?！?】曝光利用感光照相原理，使感光材料（干膜）受到紫外光照射（即曝光）后，發(fā)生聚合反應(yīng)，完成圖形轉(zhuǎn)移。注：曝光又為圖形
2023-02-17 11:46:54
，圖形轉(zhuǎn)移的首件確認(rèn)工作，絕大多數(shù)情況下，并不在圖形轉(zhuǎn)移確認(rèn)，而是在AOI，而AOI，其實也是圖形轉(zhuǎn)移的檢驗子流程之一。只不過，因為此子流程非常重要，為了更好地確保所生產(chǎn)出線路圖形的品質(zhì)，與便于生產(chǎn)管理
2023-02-27 10:48:09
圖形的一面用黑色布與曝光燈射出的紫外光隔開，如果不用黑布，紫外光透過沒有圖形的一面透射到焊盤里使焊盤孔里的阻焊料經(jīng)過曝光后，顯影不掉。在曝兩面圖形不一致的印制板時，先網(wǎng)印一面阻焊，然后進(jìn)行單面曝光
2014-12-25 11:10:05
了感光抗蝕材料的PCB基材（覆銅箔層）緊密貼附是精密曝光機(jī)最重要的技術(shù)要求之一，它的目的是為了獲得高質(zhì)量的抗蝕圖形。但是，仔細(xì)分析這種曝光工藝，仍然可以發(fā)現(xiàn)它存在著不可抗拒的產(chǎn)生質(zhì)量缺陷的因素，因為該
2008-06-17 10:07:17
中文資料 6頁7 線性光耦原理與電路設(shè)計 5頁8 變頻器電路中的光耦器件 9頁9 光耦使用技巧 6頁10 光耦繼電器 8頁【【【如果下載不了，請看最后一貼】】】★★★下載網(wǎng)盤帳號：：*** 密碼
2012-07-30 17:35:17
對比 4頁4 線性光耦在電流采樣中的應(yīng)用 5頁5 變頻器電路中的光耦器件_BB變頻器電路原理圖 4頁6 線性光耦hcnr200中文資料 6頁7 線性光耦原理與電路設(shè)計 5頁8 變頻器電路中的光耦器件 9
2012-09-27 08:21:16
同行。本文就LDI曝光與傳統(tǒng)CCD曝光技術(shù)的差異進(jìn)行分析。一.光成像制程定義：利用UV光或激光將客戶需要之影像轉(zhuǎn)到基板干膜上，使干膜發(fā)生聚合交聯(lián)反應(yīng),使其圖形轉(zhuǎn)移到板面上，搭配后段處理工序，以完成客戶
2020-05-18 14:35:29
的制作是PCB制作的根本。所以圖形轉(zhuǎn)移過程對PCB制作來說，有非常重要的意義。內(nèi)層干膜包括內(nèi)層貼膜、曝光顯影、內(nèi)層蝕刻等多道工序。內(nèi)層貼膜就是在銅板表面貼上一層特殊的感光膜，就是我們所說的干膜。這種膜遇
2018-09-20 17:27:19
的衛(wèi)星信息； 2.使用迪文屏T5L內(nèi)部的單片機(jī)做主控，合定位模塊通訊，并控制屏幕動態(tài)顯示；下面詳細(xì)說明一下開發(fā)的過程及要點。一、合宙Air551G定位模塊的通訊及數(shù)據(jù)解析： Air551G支持多種衛(wèi)星
2022-02-18 17:49:48
數(shù)量級范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)?！ 〕Ｒ?guī)光刻技術(shù)是采用波長為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理，最終把圖像信息
2012-01-12 10:51:59
]。光刻膠涂覆在半導(dǎo)體、導(dǎo)體和絕緣體上，經(jīng)曝光顯影后留下的部分對底層起保護(hù)作用，然后采用超凈高純試劑進(jìn)行蝕刻，從而完成了將掩膜版圖形轉(zhuǎn)移到底層上的圖形轉(zhuǎn)移過程。一個IC的制造一般需要經(jīng)過10多次圖形轉(zhuǎn)移
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
`有時自己做一些PCB，閑來無事，利用紫外光LED和一個網(wǎng)購定時模塊制作了一個曝光箱，還沒進(jìn)行PCB實操，放一個變色鏡在上面，十幾秒就變色，上圖`
2018-01-30 14:47:54
內(nèi)的程序，這就是所謂單片機(jī)加密或者說鎖定功能。事實上，這樣的保護(hù)措施很脆弱，很容易被破解。單片機(jī)攻擊者借助專用設(shè)備或者自制設(shè)備，利用單片機(jī)芯片設(shè)計上的漏洞或軟件缺陷，通過多種技術(shù)手段，就可以從芯片中提取關(guān)鍵信息，獲取單片機(jī)內(nèi)程序。 單片機(jī)攻擊技術(shù)解析 目前，攻擊單片機(jī)主要有四種技術(shù)，分別是：
2021-12-13 07:28:51
→曝光→顯影（貼干膜→曝光→顯影）→形成負(fù)相圖象→圖形鍍銅→圖形電鍍金屬抗蝕層→去膜→蝕刻→進(jìn)入下工序 圖像轉(zhuǎn)移有兩種方法，一種是網(wǎng)印圖像轉(zhuǎn)移
2010-03-09 16:22:39
針對目前大型平行光管成像質(zhì)量監(jiān)測的現(xiàn)狀,本文提出了一種對平行光管進(jìn)行實時監(jiān)測的新方法,驗證了這種監(jiān)測方法的可行性。該方法根據(jù)光管自準(zhǔn)檢測原理,采用小平面鏡對光管像質(zhì)進(jìn)行實時監(jiān)測,計算了在一個焦深
2010-05-13 09:04:36
微米級的直接成像數(shù)字曝光開發(fā)人員提供了一個強(qiáng)大工具，從而能夠在批量生產(chǎn)情況下實現(xiàn)快速曝光，以及更低的運營成本。 通過使用可編程光控制的DLP技術(shù)，開發(fā)人員可以將圖形直接曝光在光阻膠片上，而無需接觸掩膜
2018-08-29 15:19:25
等?！?】干膜（壓干膜/貼膜/貼干膜）通過壓膜機(jī)，在銅面上，貼附感光材料（干膜）?！?】曝光利用感光照相原理，使感光材料（干膜）受到紫外光照射（即曝光）后，發(fā)生聚合反應(yīng)，完成圖形轉(zhuǎn)移。注：曝光又為圖形
2023-02-17 11:54:22
曝光，且這一過程耗時時間短，操作簡單，對操作人員要求不高，可以實現(xiàn)一鍵安裝菲林。那么深圳CCD半自動曝光機(jī)系統(tǒng)有哪些特點及參數(shù)？相信不少人是有疑問的，今天深圳四元數(shù)就跟大家解答一下！四元數(shù)CCD半自動
2021-09-28 14:44:04
需要數(shù)據(jù)背后的根因。但業(yè)界的圖形棧測試，絕大部分都只提供應(yīng)用層面的數(shù)據(jù)，有一部分可以深入系統(tǒng)層分析，但仍無法觸及硬件這一層的測試分析。 HarmonyOS圖形棧測試技術(shù)，不僅可以深入系統(tǒng)層分析，幫助
2022-04-08 11:14:00
用labview怎么模擬產(chǎn)生一束平行光
2015-04-30 11:26:39
自18世紀(jì)在德國被發(fā)明以來，被稱為“數(shù)字曝光”的打印方法經(jīng)歷了一段很長的發(fā)展歷程。今天，數(shù)字曝光可以在多種表面上打印文字和圖片，包括書本和T恤。 這項打印技術(shù)的變化也不斷地激發(fā)出新的創(chuàng)新。被稱為
2022-11-16 07:18:34
一 前言 最早PCB生產(chǎn)過程的圖形轉(zhuǎn)移材料采用濕膜，隨著濕膜的不斷使用和PCB的技術(shù)要求提高，濕膜的缺點也顯露出來了，主要聚中在生產(chǎn)周期長、涂膜厚度不均、涂膜后板面針眼和雜物太多、孔中顯影困難
2018-08-29 10:20:48
自制pcb曝光機(jī)原理圖和程序，求大神們哦
2013-10-28 10:44:53
給面子，于是估摸著想買個曝光機(jī)，到淘寶淘了一下看價格動則三五百，實在是....~，還是自己動手DIY吧，反正他描述得再神奇我也只是用到燈泡功能，看來又要充分發(fā)揮我的粗工濫造精神了——迷你便攜式曝光機(jī)，寫下
2013-08-18 17:49:40
設(shè)計的位置有所差別，將影響到total pitch(圖案實際長度與設(shè)計長度的誤差容忍值)的誤差。而一般接近式曝光技術(shù)解析度與光罩及基板的間隙和光的波長有關(guān)。隨著基片的增大，光罩也隨之增大，由于光罩本身
2019-08-16 11:11:34
單平行式貼片機(jī)的優(yōu)點是什么？
2021-04-25 07:21:06
路燈用聲音、光測量電路仿真.ms10文件。求一個??！急
2013-12-27 20:35:19
程序包含了去膠渣、化學(xué)銅和電鍍銅三個程序。3、干膜壓合：制作感光性蝕刻的阻抗層。4、內(nèi)層線路影像轉(zhuǎn)移 ：利用曝光將底片的影像轉(zhuǎn)移至板面。5、 外層線路曝光：經(jīng)過感光膜的貼附后，電路板曾經(jīng)過類似內(nèi)層板
2020-10-27 08:52:37
紫外線曝光機(jī)是PCB 圖形轉(zhuǎn)移中的重要設(shè)備。傳統(tǒng)的邁拉曬架雖然簡便，但存在著需要趕氣、效率低、不能實現(xiàn)精確對位的缺點。而雙玻璃曬架與傳統(tǒng)的邁拉曬架相比不僅具有不需
2009-07-15 10:58:55
28 GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
在材料科學(xué)領(lǐng)域，鐳射轉(zhuǎn)移復(fù)合紙剝離試驗機(jī)作為一種先進(jìn)的測試設(shè)備，發(fā)揮著越來越重要的作用。這種試驗機(jī)主要用于研究各種材料的剝離性能，特別是在紙張、塑料、金屬等材料的復(fù)合剝離方面，具有廣泛的應(yīng)用價值。一
2023-10-30 16:29:48
精密圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)控制要點一·高密度FPC柔性電路圖形轉(zhuǎn)移
2006-04-16 21:18:141287 摘要本文通過筆者多年對圖形轉(zhuǎn)移工藝控制及管理經(jīng)驗，得出一些心得體
2006-04-16 21:20:351042 單片機(jī)教程十三:單片機(jī)條件轉(zhuǎn)移指令
條件轉(zhuǎn)移指令是指在滿足一定條件時進(jìn)行相對轉(zhuǎn)移。
判A內(nèi)容是否為0轉(zhuǎn)移指令
JZ rel
JNZ rel
2009-05-15 23:08:111929 
曬圖機(jī)概述 曬圖機(jī)是一種將描圖紙上的圖形通過曝光手段將圖形轉(zhuǎn)移到感光材料上，即曬圖紙上，再
2009-12-31 11:08:241231 在圖形轉(zhuǎn)移工藝時檢測板上余膠的方法
在圖形轉(zhuǎn)移工藝時如何檢測板上的余膠？方法有二： 方法一、將板放入1%甲基紫酒精水溶液或1-2%
2010-03-11 15:22:021087 什么是光發(fā)射端機(jī)/光交換技術(shù)？
發(fā)射端機(jī)
光發(fā)射端機(jī)完成電/光轉(zhuǎn)換，線路編碼和光調(diào)
2010-03-13 16:28:302262 一、高密度多層板圖形轉(zhuǎn)移工藝控制技術(shù)
2010-10-22 17:29:39946 圖形轉(zhuǎn)移就是將照相底版圖形轉(zhuǎn)移到敷銅箔基材上，是PCB制造工藝中重要的一環(huán)，其工藝方法有很多，如絲網(wǎng)印刷圖形轉(zhuǎn)移工藝、干膜圖形轉(zhuǎn)移工藝、液態(tài)光致抗蝕劑圖形轉(zhuǎn)
2010-10-25 16:29:58841 或許是傳聞將在六月份發(fā)布的緣故，傳說中的一加5手機(jī)最近在網(wǎng)絡(luò)上頻繁曝光。就在不久前印度網(wǎng)站首次披露了該機(jī)的渲染圖和證實將配有雙攝像頭之后，又有國外科技網(wǎng)站True-tech獨家放出了據(jù)稱是一加5
2017-05-02 09:24:05651 基于高通Adreno圖形處理器全解析
2017-10-30 16:15:1811 本文介紹了proe技術(shù)的平行混合特征范例。 本例使用平行混合特征建立如圖6-1所示的零件模型。該例中練習(xí)使用截面邊數(shù)不同時建立平行混合特征的技巧。
2017-11-17 14:15:560 本文主要對特斯拉無人駕駛技術(shù)原理進(jìn)行了最全面的解析，特斯拉的愿景是為所有人提供比人類駕駛更高的行車安全；為車主提供更低的交通成本；為無車之人提供低價、按需的出行服務(wù)。究竟特斯拉無人駕駛技術(shù)達(dá)到何種地步，人們能否完全在特斯拉電動車內(nèi)解放雙手，下面給大家詳細(xì)的解析一下。
2018-01-04 16:09:4861704 
光刻機(jī)（Mask Aligner） 又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
2018-04-10 09:49:17134950 
本文闡述了曝光機(jī)的工作原理、曝光機(jī)的配件清單以及用途，最后介紹了關(guān)于曝光機(jī)的參考價格。
2018-04-10 16:28:5412423 、鉆孔、表面處理（浸泡高頻整孔劑）、孔化、圖形制作轉(zhuǎn)移、圖形電鍍等十八個方面詳細(xì)解析，具體的跟隨小編一起來了解一下吧。
2018-05-03 09:44:3412273 一文解析PLC的應(yīng)用，具體的跟隨小編一起來了解一下。
2018-07-19 11:21:566116 
通過使用可編程光控制的DLP技術(shù)，開發(fā)人員可以將圖形直接曝光在光阻膠片上，而無需接觸掩膜，這樣做降低了材料成本，提高了生產(chǎn)率，并且可實現(xiàn)圖形的快速變化，使得這項技術(shù)非常適用于最小外形尺寸需要兩次曝光的情況。
2018-09-25 09:20:002948 基板的表面處理—— 》涂布（絲?。奉A(yù)烘——》曝光——》顯影——》干燥——》檢查——》蝕刻——》褪膜——》檢查 （備注：內(nèi)層板）
基板的表面處理—— 》涂布（絲印）——》預(yù)烘——》曝光——》顯影——》干燥——》檢查——》電鍍——》褪膜——》蝕刻——》檢查 （備注：外層板）
2019-07-05 14:47:323352 
圖形轉(zhuǎn)移是制造高密度多層板的關(guān)鍵控制點，也是技術(shù)難點，其質(zhì)量的優(yōu)劣直接影響多層板的合格率。所以，在制作過程中，必須要達(dá)到以下幾點：
2019-04-28 14:50:383387 在印制電路板的制作工藝中，圖形轉(zhuǎn)移是關(guān)鍵工序，以前常用干膜工藝來進(jìn)行印制電路圖形的轉(zhuǎn)移?，F(xiàn)在，濕膜主要用于多層印制電路板的內(nèi)層線路圖形的制作和雙面及多層板的外層線路圖形的制作。
2019-05-21 16:51:427064 在印制板的制作工藝中，圖形轉(zhuǎn)移是關(guān)鍵工序，以前常用干膜工藝來進(jìn)行印制電路圖形的轉(zhuǎn)移。
2019-11-15 11:20:222152 Aligner) 又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。 光刻（Photolithography） 意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時復(fù)制到硅片上的過程。 一般的光刻工藝要經(jīng)
2020-08-28 14:39:0415066 
晶振是重要元器件之一，對于晶振，小編于往期晶振相關(guān)文章中有過諸多闡述。本文中，小編將對單片機(jī)晶振腳的原理加以解析，以幫助大家更好理解晶振。
2020-10-02 17:27:005076 
光刻機(jī)（Mask Aligner) 又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2020-10-09 11:29:3611494 
UVLED曝光機(jī)與傳統(tǒng)曝光機(jī) UVLED固化曝光機(jī)作為一種新型的曝光機(jī)，自誕生以來就備受關(guān)注。UVLED固化曝光機(jī)是指通過開啟燈光,將膠片或其他透明體上的圖像信息轉(zhuǎn)移到涂有感光物質(zhì)的表面上的設(shè)備
2020-12-03 10:00:591912 HDC 2021華為開發(fā)者大會HarmonyOS測試技術(shù)與實戰(zhàn)-HarmonyOS圖形棧測試技術(shù)深度解析
2021-10-23 15:09:001988 
Microchip圖形庫與PIC單片機(jī)Microchip圖形庫與PIC單片機(jī)Microchip圖形庫設(shè)計原理 如何在單片機(jī)顯示圖形與fltk區(qū)別等
2021-11-16 13:36:0116 SADP 技術(shù)先利用浸沒式光刻機(jī)形成節(jié)距較大的線條，再利用側(cè)墻圖形轉(zhuǎn)移的方式形成 1/2 節(jié)距的線條，這種技術(shù)比較適合線條排列規(guī)則的圖形層，如 FinFET 工藝中的 Fin 或后段金屬線條。
2022-11-25 10:14:4412823 利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
2022-12-01 09:32:116988 銜接上文，繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。 如圖，第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。 圖形轉(zhuǎn)移的目的為： 利用光化學(xué)原理，將圖形線路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上，再利用化學(xué)原理，將圖形線路在印制板上制作
2023-02-16 21:00:073637 銜接上文，繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。 如圖，第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。 圖形轉(zhuǎn)移的目的為： 利用光化學(xué)原理，將圖形線路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上，再利用化學(xué)原理，將圖形線路在印制板上制作
2023-02-17 11:59:001099 
由于Micro LED的特征尺寸小于100μm，傳統(tǒng)轉(zhuǎn)移技術(shù)在轉(zhuǎn)移效率、轉(zhuǎn)移精度上很難達(dá)到要求。傳統(tǒng)轉(zhuǎn)移技術(shù)對單顆芯片的尺寸要求存在物理極限，芯片太小無法轉(zhuǎn)移，轉(zhuǎn)移精度也難以滿足。
2023-03-27 14:49:172559 銜接上文，繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。 如圖，第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。 圖形轉(zhuǎn)移的目的為： 利用光化學(xué)原理，將圖形線路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上，再利用化學(xué)原理，將圖形線路在印制板上制作
2023-04-06 09:20:031726 光刻機(jī)用UV光源，其通過特殊光學(xué)設(shè)計發(fā)射出接近平行光的UV平行光，使特定波段的紫外線通過掩膜掩孔對集成電路高精密線路完成蝕刻曝光顯影的工作。
2023-05-11 10:34:284263 
銜接上文，繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。如圖，第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。圖形轉(zhuǎn)移的目的為：利用光化學(xué)原理，將圖形線路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上，再利用化學(xué)原理，將圖形線路在印制板上制作
2023-02-17 13:52:201693 
工藝也有其獨到之處。其中最基本、最關(guān)鍵的工序之一是圖形轉(zhuǎn)移，即將照相底版圖形轉(zhuǎn)移到陶瓷基材上。圖形轉(zhuǎn)移是生產(chǎn)中的關(guān)鍵控制點，也是技術(shù)難點所在。其工藝方法有很多，如絲網(wǎng)印刷（Screen Printing
2023-09-12 11:31:512420 
窺探材料性能的利器：平行擠壓測試儀解析
2023-12-11 09:09:271005 
微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移母版掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，是圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。
2024-01-06 11:33:5549325 
利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
2024-03-06 14:28:502582 
，其中光刻技術(shù)起著至關(guān)重要的作用。光刻是指在特定波長光線的作用下，將設(shè)計在掩膜板上的集成電路圖形轉(zhuǎn)移到硅片表面的光刻膠上的技術(shù)工藝。為了完成圖形轉(zhuǎn)移，需要經(jīng)歷沉積、旋轉(zhuǎn)涂膠、軟烘、對準(zhǔn)與曝光、后烘、顯影、堅膜烘焙、顯影檢測等八道
2024-11-28 09:58:483739 
工藝的核心材料。它由高分子樹脂、光敏劑、溶劑及添加劑組成。其特性直接影響芯片圖形化的精度。 ? 光阻的作用： 圖形轉(zhuǎn)移：通過曝光顯影，在硅片表面形成納米級圖案，作為后續(xù)刻蝕或離子注入的掩膜。 保護(hù)作用：阻擋刻蝕劑或離子對非目標(biāo)區(qū)域的損傷
2025-02-13 10:30:233891 
電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《一文解析工業(yè)互聯(lián)網(wǎng).pptx》資料免費下載
2025-02-20 16:42:511 的應(yīng)用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量，可避免因曝光過度導(dǎo)致光刻膠過度反應(yīng)，使線寬變寬；或曝光不足造成線寬變窄。采用先進(jìn)的曝光設(shè)備，如極紫外（EUV）光刻機(jī)
2025-06-30 15:24:55740 
平行光太陽模擬器測試系統(tǒng)的核心原理，是先通過精密光學(xué)結(jié)構(gòu)生成高精度平行光（模擬無限遠(yuǎn)目標(biāo)），再利用平行光的物理特性，反向或正向檢測被測系統(tǒng)的性能參數(shù)，本質(zhì)是基于“平行光的方向性、無發(fā)散性”建立標(biāo)準(zhǔn)化
2025-10-13 18:02:06473 
提供可靠的圖形化保障。以下深度解析其工藝優(yōu)勢與技術(shù)創(chuàng)新。 一、設(shè)備核心工藝流程 華林科納四步閉環(huán)工藝，實現(xiàn)亞微米級圖形保真 （1）預(yù)處理（Pre-wetting） 去離子水浸潤：均勻潤濕晶圓表面，消除靜電吸附效應(yīng)。 邊緣曝光消除（Edge
2025-12-24 15:03:51145 
半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座在 LCD 面板制造曝光機(jī)中的成功應(yīng)用案例-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司一、案例背景在 LCD（Liquid Crystal Display）面板制造領(lǐng)域，曝光機(jī)
2024-12-24 14:43:37
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