作為近乎壟斷的光刻機巨頭，ASML的EUV光刻機已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設(shè)備
2021-12-01 10:07:41
13656 盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機廠商，憑借獨有的EUV光刻機一騎絕塵，主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場份額，但這并不代表著其他光刻機廠商也就“聽天由命”了。以兩大國外光刻機廠商尼康和佳能為例，他們就仍在
2022-11-24 01:57:007124 `光刻機MPA500FAb用光柵尺傳感器(掃描部位)供應(yīng)。型號：SONY SR-721 150mm SCALE UNIT with HK-105C`
2020-01-31 18:04:14
關(guān)于光刻工藝的原理，大家可以想象一下膠片照片的沖洗，掩膜版就相當于膠片，而光刻機就是沖洗臺，它把掩膜版上的芯片電路一個個的復(fù)制到光刻膠薄膜上，然后通過刻蝕技術(shù)把電路“畫”在晶圓上。 當然
2020-07-07 14:22:55
！光刻機本身的原理，其實和相機非常相似，同學(xué)們可以把光刻機就想成是一臺巨大的單反相機。相機的原理，是被攝物體被光線照射所反射的光線，透過相機的鏡頭，將影像投射并聚焦在相機的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38:07
`現(xiàn)在處理一批MA-1200光刻機的零件，有需要的朋友請直接聯(lián)系我：137-3532-3169`
2020-02-06 16:24:39
制造過程中，步驟會因為不同的材料和工藝而有所差異，不過大體上皆采用這樣的類似工藝過程，于是就需要用到光刻機和刻蝕機。首先，在晶圓表面沉積一層薄膜，緊接著再涂敷上光刻膠（光阻），這時候光刻機會按照設(shè)計好
2018-08-23 17:34:34
的有氧化爐、沉積設(shè)備、光刻機、刻蝕設(shè)備、離子注入機、清洗機、化學(xué)研磨設(shè)備等。以上是今日Enroo關(guān)于晶圓制造工藝及半導(dǎo)體設(shè)備的相關(guān)分享。
2018-10-15 15:11:22
太陽能電池薄膜激光刻蝕機配了臺特域冷水機，用的是什么制冷機？
2017-11-25 14:30:54
如果國家以兩彈一星的精神投入光刻機的研發(fā)制造，結(jié)果會怎樣？
2020-06-10 19:23:14
出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機對電子束質(zhì)量的要求。
只有對聚焦電極改進才是最佳選擇，以下介紹該進后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心線達到縮束的目的，使電子束分布在一條直線
2025-05-07 06:03:45
據(jù)羊城晚報報道，近日中芯國際從荷蘭進口的一臺大型光刻機，順利通過深圳出口加工區(qū)場站兩道閘口進入廠區(qū)，中芯國際發(fā)表公告稱該光刻機并非此前盛傳的EUV光刻機，主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線擴容。我們知道
2021-07-29 09:36:46
光刻機的工作臺是一個六自由度的運動臺，其中X/Y向運動臺是的核心基礎(chǔ)工序。管控XY軸角度Yaw和Pitch，直線度Horizontal Straightness和Vertical
2023-02-20 15:49:07
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統(tǒng)）等微細結(jié)構(gòu)。光刻機是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
澤攸科技ZEL304G電子束光刻機（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備，專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計。該系統(tǒng)采用先進的場發(fā)射電子槍，結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)，確保光刻質(zhì)量優(yōu)異且
2025-08-15 15:14:01
本文以光刻機為中心，主要介紹了光刻機的分類、光刻機的結(jié)構(gòu)組成、光刻機的性能指標、光刻機的工藝流程及工作原理。
2017-12-19 13:33:01166595 
荷蘭作為光刻的生產(chǎn)大國，很多人紛紛都在問為什么荷蘭能生產(chǎn)二中國不行.本文主要分析了中國光刻機的發(fā)展分析以及與荷蘭之間的差距，詳細的說明了荷蘭光刻機為什么厲害，為何光刻機不賣給中國的原因。
2017-12-19 14:56:42126505 光刻機是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的核心設(shè)備， 技術(shù)含量、價值含量極高。 光刻機涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項先進技術(shù)，是所有半導(dǎo)體制造設(shè)備中技術(shù)含量最高的設(shè)備，因此也具備極高的單臺價值量。
2018-04-10 10:19:4737625 ，多重曝光不但增加曝光次數(shù)，而且增加刻蝕和CMP工藝次數(shù)。采用EUV光刻機則不需要多重曝光，一次就能曝出想要的精細圖形，在產(chǎn)品生產(chǎn)周期、OPC的復(fù)雜程度、工藝控制、良率等方面的優(yōu)勢明顯。目前市場上已有
2018-07-13 17:25:006042 荷蘭的ASML公司生產(chǎn)的光刻機可以說得上是世界性能最好的光刻機了，每年都會有許多人來預(yù)約、購買光刻機。
2018-08-31 10:20:1712756 格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示，如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機，那么光刻的步驟將會超過100步，這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1814886 
光刻機是芯片制造最為重要的設(shè)備之一。目前，ASML壟斷了全世界的高端光刻機。
2019-11-28 17:19:3017428 光刻機是芯片制造最為重要的設(shè)備之一。目前，ASML壟斷了全世界的高端光刻機。中國一直以來都想掌握光刻機技術(shù)，但是上海微電子經(jīng)過17年的努力，才造出90nm的光刻機，這已經(jīng)十分不容易了，這可是0的突破。那么為什么光刻機這么難造呢？
2020-01-29 11:07:008876 半導(dǎo)體器件被廣泛應(yīng)用于從智能手機到汽車等各個領(lǐng)域，在其制造過程中半導(dǎo)體光刻機必不可少。你知道嗎，日本首臺半導(dǎo)體光刻機發(fā)售已經(jīng)50周年了。
2020-01-16 08:36:1010821 眾所周知，說起芯片，大家就會想到光刻機，說起光刻機，大家就會想到ASML。因為在芯片生產(chǎn)中，光刻機特別重要，而ASML又是高端光刻機的壟斷者，占了85%以上的高端市場。
2020-02-20 20:30:456051 據(jù)中國證券報報道，3月6日下午從中芯國際獲悉，日前中芯國際深圳工廠從荷蘭進口了一臺大型光刻機，但這是設(shè)備正常導(dǎo)入，用于產(chǎn)能擴充，并非外界所稱的EUV光刻機。
2020-03-07 10:55:145046 經(jīng)常聽說，高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的，那么什么是光刻機呢？上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程，今天我們就來聊聊什么是光刻～
2020-03-15 14:46:00229670 在EUV光刻機方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機，預(yù)計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:483419 在EUV光刻機方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機，預(yù)計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:195447 近日，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）公司2019年的年報中披露了關(guān)于下一代EUV極紫光刻機的研發(fā)進程，預(yù)計2022年年初開始出貨，2024年實現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)。
2020-03-17 15:25:593906 ，中國最好的光刻機廠商上海微電子裝備有限公司（SMEE）已經(jīng)量產(chǎn)的光刻機中，性能最好的SSA600/20工藝只能達到90nm，相當于2004年上市的奔騰四CPU的水準。而國外的先進水平已經(jīng)達到了7納米，正因如此，國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。
2020-03-18 10:52:1192637 光刻機是集成電路制造中最精密復(fù)雜、難度最高、價格最昂貴的設(shè)備，用于在芯片制造過程中的掩膜圖形到硅襯底圖形之間的轉(zhuǎn)移。集成電路在制作過程中經(jīng)歷材料制備、掩膜、光刻、刻蝕、清洗、摻雜、機械研磨等多個工序，其中以光刻工序最為關(guān)鍵，因為它是整個集成電路產(chǎn)業(yè)制造工藝先進程度的重要指標。
2020-03-18 11:00:4175540 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一，作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一，其實光刻機除了能用于生產(chǎn)芯片之外，還有用于封裝的光刻機，或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。目前，我國高端的光刻機，基本上是從荷蘭ASML進口的。
2020-03-18 11:12:0247310 我國的光刻機目前能做的只有90nm制程，而荷蘭的ASML 最新EUV工藝光刻機可以做到7nm制程、6nm制程、5nm制程，并且一臺頂級的光刻機需要上萬個零部件，需要不同國家的各個頂級部件，售價也高達7億人民幣。
2020-03-19 16:46:3823747 作為芯片制造的核心設(shè)備之一，光刻機對芯片生產(chǎn)的工藝有著決定性影響。 據(jù)悉，光刻機按照用途可分為生產(chǎn)芯片的光刻機、封裝芯片的光刻機以及用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。其中，生產(chǎn)芯片的High End
2020-06-15 08:05:541506 頂級光刻機有多難搞？ASML的光刻機，光一個零件他就調(diào)整了10年！拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機舉例，其內(nèi)部精密零件多達10萬個，比汽車零件精細數(shù)十倍！
2020-07-02 09:38:3912919 芯片是半導(dǎo)體中的積分器，目前芯片的利用率很高，要想在技術(shù)領(lǐng)域有所突破，就必須在芯片領(lǐng)域發(fā)展。在芯片制造中，最受關(guān)注的是光刻機的發(fā)展。到目前為止，我國光刻機制造領(lǐng)域還比較缺乏機械。我們的光刻機技術(shù)相對
2020-08-02 10:32:3226008 作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一，光刻機一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。 光刻機 光刻機（Mask
2020-08-28 14:39:0415066 
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最關(guān)鍵設(shè)備，光刻工藝決定了半導(dǎo)體線路的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:136909 
光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2020-10-09 11:29:3611493 
荷蘭阿斯麥（ASML）公司的光刻機作為世界上最貴最精密的儀器，相信大家都有耳聞，它是加工芯片的設(shè)備。其最先進的EUV（極紫外光）光刻機已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片，據(jù)說一套最先進的7納米EUV
2020-10-15 09:20:055352 光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。
2020-10-16 10:33:39316026 
近段時間有關(guān)芯片以及光刻機的話題非常熱門，我們今天也來探討一下光刻機的話題。
2020-10-17 11:32:149266 最近光刻機十分火，我們經(jīng)常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機，但其實嚴格意義上來說并不存在7納米光刻機，5納米光刻機，我為什么會這樣說呢？
2020-10-19 11:42:5123697 ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達11.74億元
2020-10-19 12:02:4910752 
中國需要光刻機，尤其是支持先進制程的高端光刻機。具體來說，就是 EUV （極紫外光源）光刻機。
2020-11-11 10:13:305279 
在芯片制造環(huán)節(jié)中，光刻機是核心設(shè)備。沒有光刻機，半導(dǎo)體或遭斷鏈危機，摩爾定律將停止，人類也就無法設(shè)計、制造和封裝硅芯片。放眼全球，一家叫做ASML（阿斯麥）的荷蘭公司市場占有率達80%，是行業(yè)的絕對
2020-11-13 09:28:516405 在光刻機領(lǐng)域一家獨大的荷蘭光刻機巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進工藝制程的芯片是沒戲的。
2021-01-22 09:39:222566 
在光刻機領(lǐng)域一家獨大的荷蘭光刻機巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進工藝制程的芯片是沒戲的。 財報披露，ASML2020年全年凈銷售額140億歐元，毛利率為48.6
2021-01-22 10:38:165843 
根據(jù)芯思想研究院（ChipInsights）的數(shù)據(jù)表明，2020年全球集成電路、面板、LED用光刻機出貨約58臺，較2019年增加3臺。其中集成電路制造用光刻機出貨約410臺；面板、LED用光刻機出貨約170臺。
2021-02-24 16:56:1211839 一提起ASML這家公司，就少不了對光刻機問題的討論，因為截至目前，ASML仍然是全球最領(lǐng)先的光刻機廠商。普通的DUV光刻機就不多說了，ASML每年都能賣出去很多臺，而在更先進的EUV光刻機方面，ASML更是占據(jù)了絕對壟斷的地位。
2021-02-27 09:59:4216218 光刻機是我國芯片制造業(yè)一大痛點，目前，在EUV光刻機賽道中，僅有ASML一個玩家。
2021-03-02 15:29:1310214 中芯國際的芯片工藝目前已發(fā)展至14nm，若想將芯片工藝進一步提升至7nm乃至3nm等先進制程，EUV光刻機設(shè)備就必不可少。那么，中芯國際此次12億美元的采購協(xié)議都有哪些類型的光刻機，包含EUV光刻機嗎？
2021-03-10 14:36:5511344 以下內(nèi)容由對話音頻整理 本期話題 ● EUV光刻機產(chǎn)能如何？ ● 晶圓為什么是圓的？ ● 不同制程的芯片之間有何區(qū)別？ ● 什么是邏輯芯片，邏輯芯片又包括哪些？ ● 專用芯片與通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3025243 、用途 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機;有用于封裝的
2021-03-27 10:00:372014 
用途 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機;有用于封裝的光刻機
2021-03-30 18:17:272900 
眾所周知，想要在芯片領(lǐng)域打破由歐美國家所壟斷的市場，必須要解決光刻機的問題，這是傳統(tǒng)硅基芯片制造過程中最為重要的一環(huán)。而在光刻機領(lǐng)域，荷蘭的ASML則是光刻機領(lǐng)域金字塔最頂尖的企業(yè)，尤其是在極紫外光領(lǐng)域
2021-04-16 14:31:125274 
不會有我們現(xiàn)在的手機、電腦了。 光刻機是用于芯片制造的核心設(shè)備，按照用途可以分為用于生產(chǎn)芯片的光刻機、用于封裝的光刻機和用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。 光刻機的核心原理就是一個透鏡組，在精度上首先咱們有個概念：我們現(xiàn)在芯片的
2021-07-07 14:31:18130298 光刻機原理怎么做芯片 光刻是集成電路中最重要的工藝，光刻機是制造芯片的核心裝備，在芯片的制作中，幾乎每個工藝的實施，都需要用到光刻技術(shù)。可以說，光刻機是半導(dǎo)體界的一顆明珠。那么光刻機原理怎么做芯片呢
2021-08-07 14:54:5414859 沒有任何一個國家的人比中國人更想造出頂級光刻機。網(wǎng)友甚至表示，只要造出光刻機，無論一個人做錯了什么都可以原諒。
2021-08-26 17:32:3763288 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）作為近乎壟斷的光刻機巨頭，ASML的EUV光刻機已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了
2021-12-07 14:01:1012038 光刻機作為芯片產(chǎn)業(yè)制造中不可缺少的設(shè)備，也是工時和成本占比最高的設(shè)備，更是全球頂尖技術(shù)和人類智慧的結(jié)晶。那么目前有哪些國家可以制造出光刻機呢？
2022-01-03 17:30:0091372 光刻機作為芯片的核心制造設(shè)備，也是當前最復(fù)雜的精密儀器之一。其實光刻機不僅可以用于芯片生產(chǎn)，還可以用于封裝和用于LED制造領(lǐng)域。
2022-01-03 16:43:0018187 一臺高端的光刻機由上萬個零部件構(gòu)成，光刻機的主要核心部件主要分為兩個部分：分別是對準系統(tǒng)和紫外光源。
2022-01-03 17:09:0020048 光刻機是芯片制造的重要設(shè)備，內(nèi)部結(jié)構(gòu)精密復(fù)雜，它決定著芯片的制程工藝，是芯片生產(chǎn)中不可少的關(guān)鍵設(shè)備，而且光刻機的技術(shù)門檻極高，整個設(shè)備的不同部位采用了世界上最先進的技術(shù)
2021-12-30 09:46:535114 光刻機制作芯片過程非常復(fù)雜，而光刻機是制造芯片最重要的設(shè)備之一，由于先進光刻機的技術(shù)封鎖，中國芯片廠商的芯片制作工藝目前比較落后，也沒有優(yōu)秀的國產(chǎn)光刻機來掌握到最先進的光刻技術(shù)。
2021-12-30 11:23:2113196 光刻機的曝光方式主要有三種，分別是接觸式曝光、非接觸式曝光和投影式曝光。
2022-01-03 17:31:008787 刻蝕機不能代替光刻機。光刻機的精度和難度的要求都比刻蝕機高出很多，在需要光刻機加工的時候刻蝕機有些不能辦到，并且刻蝕機的精度十分籠統(tǒng)，而光刻機對精度的要求十分細致，所以刻蝕機不能代替光刻機。
2022-02-05 15:47:0044425 光刻膠是光刻機研發(fā)的重要材料，換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕跡，就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0015758 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機，有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機，還有用于封裝的光刻機。光刻機是采用類似照片沖印的技術(shù)，然后把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0090746 據(jù)CNBC報道稱，世界聞名的先進光刻機智造商荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機。
2022-06-18 08:13:032334 眾所周知，光刻機一直處于壟斷地位，在光刻機領(lǐng)域，最有名的就是ASML公司了。
2022-07-04 11:21:15294540 中國芯的進步那是有目共睹，我國在光刻機，特別是在EUV光刻機方面，更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3518612 三星電子和ASML就引進今年生產(chǎn)的EUV光刻機和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協(xié)議。
2022-07-05 15:26:156764 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機。
2022-07-06 11:03:078348 如今世界最先進的EUV光刻機，只有asml一家公司可以制造出來。
2022-07-06 11:19:3852761 在半導(dǎo)體制造過程中，光刻機是最核心的設(shè)備，同時，也是研發(fā)難度最高的設(shè)備。
2022-07-07 09:38:238478 EUV光刻機是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:445306 大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機了?，F(xiàn)在，全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機，那么euv光刻機目前幾納米呢？ 到現(xiàn)在，世界上最先進的光刻機能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4253102 說到芯片，估計每個人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設(shè)備。沒有光刻機的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個人都知道光刻機對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機
2022-07-10 11:42:278556 光刻機是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，它能夠制造和維護需要高水平的光學(xué)和電子產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)，全球只有少數(shù)制造商掌握了這一基礎(chǔ)。 光刻機的作用是對芯片晶圓進行掃描曝光，對集成電路進行蝕刻。精度更高的光刻機
2022-07-10 14:35:067939 光刻機和euv光刻機區(qū)別是是什么呢？ duv光刻機和euv光刻機區(qū)別 1.基本上duv只能做到25nm，而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產(chǎn)。 2. duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，內(nèi)部必須是真空操作。 以上就是duv光刻機和euv光刻機區(qū)別了，現(xiàn)在基本都是euv光刻機
2022-07-10 14:53:1087068 光刻機的原理是接近或接觸光刻，通過無限接近，將圖案復(fù)制到掩模上。直寫光刻是將光束聚焦到一個點上，通過移動工作臺或透鏡掃描實現(xiàn)任意圖形處理。投影光刻是集成電路的主流光刻技術(shù)，具有效率高、無損傷等優(yōu)點。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工
2022-07-10 15:28:1018347 光刻機是當前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等
2022-07-10 16:34:405150 芯片想必大家都很熟悉，光刻機是是制造芯片的核心裝備，并且光刻機只有一小部分國家擁有，那么光刻機為什么這么難呢？ 據(jù)說越小的東西，建造起來就越困難。 這句話不是沒有道理的。 盡管手機中的芯片只有指甲
2022-07-10 17:37:2210041 是的！光刻機本身的原理，其實和相機非常相似，同學(xué)們可以把光刻機就想成是一臺巨大的單反相。機。相機的原理，是被攝物體被光線照射所反射的光線，透過相機的鏡頭，將影像投射并聚焦在相機的底片（感光元件）上， 如此便可把被攝物體的影像復(fù)制到底片上。
2022-11-21 10:03:068553 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機廠商，憑借獨有的EUV光刻機一騎絕塵，主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場份額，但這并不代表著其他光刻機廠商也就“聽天由命”了。以兩大國外光刻機
2022-11-24 07:10:035174 利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
2022-12-01 09:32:116988 光刻機是集成電路生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備之一，在整個生產(chǎn)過程中占據(jù)重要的地位。高精度的工作臺作為光刻機核心部件之一，其運動性能和定位精度決定了光刻工藝所能實現(xiàn)的線寬和產(chǎn)率。光刻機的工作臺是一個六自由度的運動臺
2022-03-08 09:07:461789 
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:189618 刻蝕機的刻蝕過程和傳統(tǒng)的雕刻類似，先用光刻技術(shù)將圖形形狀和尺寸制成掩膜，再將掩膜與待加工物料模組裝好，將樣品置于刻蝕室內(nèi)，通過化學(xué)腐蝕或物理磨蝕等方式將待加工物料表面的非掩膜區(qū)域刻蝕掉，以得到所需的凹槽和溝槽。
2024-03-11 15:38:2416635 
光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發(fā)展到浸沒步進式投影光刻機和極紫外式光刻機。
2024-03-21 11:31:4110788 
光刻機有很多種類型，但有時也很難用類型進行分類來區(qū)別設(shè)備，因為有些分類僅是在某一分類下的分類。
2024-04-10 15:02:063819 
據(jù)外媒報道，目前，俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機，作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線
2024-05-28 15:47:541441 ，光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備，其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 一、光刻機發(fā)展歷程 光刻機的發(fā)展歷程可以追溯到早期接觸式、接近式光刻技術(shù)，逐步發(fā)展到
2024-11-22 09:09:137429 
，是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。芯片的加工過程對精度要求極高，光刻機通過一系列復(fù)雜的技術(shù)手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖
2024-11-24 09:16:387675 ? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程，但精度要求極高，能夠達到
2025-01-07 10:02:304531 
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片光刻機和面板光刻機。面板光刻機的工作原理和芯片光刻機相似
2025-01-16 09:29:456363 
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
2025-01-20 09:44:182478 
光刻機用納米位移系統(tǒng)設(shè)計
2025-02-06 09:38:031030 
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