半導(dǎo)體制造領(lǐng)域光刻膠的作用和意義

光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一，決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時(shí)間的40%-50%，占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材，其質(zhì)量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關(guān)。

編輯：黃飛

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芯片(461677) 芯片(461677)
pcb(421992) pcb(421992)
芯片制造(30383) 芯片制造(30383)
光刻(31195) 光刻(31195)
光刻膠(31624) 光刻膠(31624)

評(píng)論

微氣泡對(duì)光刻膠層的影響

了光刻劑。但重大挑戰(zhàn)仍然存在，部分原因是去除率不足以首先在半導(dǎo)體制造業(yè)中使用微氣泡。因此，我們需要通過(guò)明確了解微氣泡去除光刻抗蝕劑層的功能機(jī)制，來(lái)提高微氣泡的去除能力。本研究的目的是闡明微氣泡對(duì)光刻膠層表面的影響。

2022-01-10 11:37:13

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A股半導(dǎo)體光刻膠企業(yè)營(yíng)收靚麗！打造光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈博康欲成國(guó)產(chǎn)光刻膠的中流砥柱

光刻膠為何要謀求國(guó)產(chǎn)替代？中國(guó)國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)的市場(chǎng)發(fā)展機(jī)會(huì)和挑戰(zhàn)如何？光刻膠企業(yè)發(fā)展要具備哪些核心競(jìng)爭(zhēng)力？在南京半導(dǎo)體大會(huì)期間，徐州博康公司董事長(zhǎng)傅志偉和研發(fā)總監(jiān)潘新剛給我們帶來(lái)前沿觀點(diǎn)和獨(dú)家分析。

2022-08-29 15:02:23

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半導(dǎo)體制造之光刻工藝講解

光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來(lái)。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見(jiàn)光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用

2023-12-04 09:17:24

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光刻膠的類(lèi)型及特性

光刻膠類(lèi)型及特性光刻膠（Photoresist），又稱(chēng)光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類(lèi)型和光刻膠特性。

2025-04-29 13:59:33

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國(guó)產(chǎn)高端光刻膠新進(jìn)展，KrF、ArF進(jìn)一步突破！

近日，上海新陽(yáng)發(fā)布公告稱(chēng)，公司自主研發(fā)的KrF（248nm）厚膜光刻膠產(chǎn)品已經(jīng)通過(guò)客戶(hù)認(rèn)證，并成功取得第一筆訂單，取得不錯(cuò)進(jìn)展。 ? 光刻膠用于半導(dǎo)體光刻工藝環(huán)節(jié)，是決定制造質(zhì)量的重要因素，根據(jù)曝光

2021-07-03 07:47:00

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半導(dǎo)體光刻膠企業(yè)營(yíng)收靚麗！打造光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈博康欲成國(guó)產(chǎn)光刻膠的中流砥柱

電子發(fā)燒友原創(chuàng) 章鷹 ? 近日，全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模增長(zhǎng)帶動(dòng)了上游半導(dǎo)體材料旺盛需求，“光刻膠”的突破也成為國(guó)內(nèi)關(guān)注焦點(diǎn)。正當(dāng)日本光刻膠企業(yè)JSR、東京應(yīng)化和美國(guó)Lam Research在EUV光刻膠

2022-08-31 07:45:00

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國(guó)產(chǎn)光刻膠突圍，日企壟斷終松動(dòng)

厚膠量產(chǎn)到ArF浸沒(méi)式膠驗(yàn)證，從樹(shù)脂國(guó)產(chǎn)化到EUV原料突破，一場(chǎng)靜默卻浩蕩的技術(shù)突圍戰(zhàn)已進(jìn)入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長(zhǎng)的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A膠以120nm分辨率和93.7%的良率通過(guò)中芯國(guó)際28nm產(chǎn)線驗(yàn)證，開(kāi)創(chuàng)了國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造的新

2025-07-13 07:22:00

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國(guó)產(chǎn)百?lài)嵓?jí)KrF光刻膠樹(shù)脂產(chǎn)線正式投產(chǎn)

? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道近日，八億時(shí)空宣布其KrF光刻膠萬(wàn)噸級(jí)半導(dǎo)體制程高自動(dòng)化研發(fā)/量產(chǎn)雙產(chǎn)線順利建成，標(biāo)志著我國(guó)在中高端光刻膠領(lǐng)域的自主化進(jìn)程邁出關(guān)鍵一步。 ? 此次建成的KrF光刻膠產(chǎn)線采用

2025-08-10 03:26:00

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國(guó)產(chǎn)光刻膠重磅突破：攻克5nm芯片制造關(guān)鍵難題

電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道近日，我國(guó)半導(dǎo)體材料領(lǐng)域迎來(lái)重大突破。北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院彭海琳教授團(tuán)隊(duì)及合作者通過(guò)冷凍電子斷層掃描技術(shù)，首次在原位狀態(tài)下解析了光刻膠分子在液相環(huán)境中的微觀三維結(jié)構(gòu)、界面

2025-10-27 09:13:04

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光刻膠

改進(jìn)；廣泛應(yīng)用于全球半導(dǎo)體行業(yè)。光刻膠產(chǎn)品型號(hào)及參數(shù)[tr=transparent]光刻膠名稱(chēng)型號(hào)勻膠厚度規(guī)格[/tr][tr=transparent]Merck AZ 正/負(fù)可轉(zhuǎn)換型光刻膠AZ

2018-07-12 11:57:08

光刻膠在集成電路制造中的應(yīng)用

]。光刻膠涂覆在半導(dǎo)體、導(dǎo)體和絕緣體上，經(jīng)曝光顯影后留下的部分對(duì)底層起保護(hù)作用，然后采用超凈高純?cè)噭┻M(jìn)行蝕刻，從而完成了將掩膜版圖形轉(zhuǎn)移到底層上的圖形轉(zhuǎn)移過(guò)程。一個(gè)IC的制造一般需要經(jīng)過(guò)10多次圖形轉(zhuǎn)移

2018-08-23 11:56:31

光刻膠有什么分類(lèi)？生產(chǎn)流程是什么？

光刻膠也稱(chēng)為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來(lái)將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過(guò)曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過(guò)顯影后被

2019-11-07 09:00:18

光刻膠殘留要怎么解決？

這是我的版圖一部分，然后生成了圖案是這樣的：感覺(jué)間距小的地方全都有殘留，間距大的地方?jīng)]有殘留；工藝參數(shù)：s9920光刻膠， evg 620‘未進(jìn)行蒸汽底漆層涂覆，前烘：100攝氏度，90s

2016-11-29 14:59:18

半導(dǎo)體材料市場(chǎng)構(gòu)成分析

半導(dǎo)體材料市場(chǎng)構(gòu)成：在半導(dǎo)體材料市場(chǎng)構(gòu)成方面，大硅片占比最大，占比為32.9%。其次為氣體，占比為14.1%，光掩膜排名第三，占比為12.6%，其后：分別為拋光液和拋光墊、光刻膠配套試劑、光刻膠、濕化學(xué)品、建設(shè)靶材，比分別為7.2%、6.9%、 6.1%、4%和3%。

2021-01-22 10:48:36

半導(dǎo)體制造

在制造半導(dǎo)體器件時(shí)，為什么先將導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體和絕緣體之間的硅或鍺制成本征半導(dǎo)體，使之導(dǎo)電性極差，然后再用擴(kuò)散工藝在本征半導(dǎo)體中摻入雜質(zhì)形成N型半導(dǎo)體或P型半導(dǎo)體改善其導(dǎo)電性？

2012-07-11 20:23:15

半導(dǎo)體制造技術(shù)經(jīng)典教程（英文版）

半導(dǎo)體制造技術(shù)經(jīng)典教程（英文版）

2014-03-06 16:19:35

半導(dǎo)體制造的難點(diǎn)匯總

采取正確的設(shè)備維護(hù)行動(dòng)。半導(dǎo)體制造五大難點(diǎn)——集成眾多子系統(tǒng)的大系統(tǒng)伴隨著芯片的集成度越來(lái)越高、半導(dǎo)體制造的先進(jìn)程度也逐漸提升。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)包含越來(lái)越多的機(jī)械、化工、軟件、材料等其它領(lǐng)域，是集成了很多

2020-09-02 18:02:47

Futurrex高端光刻膠

半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的標(biāo)志：NR9-PY 系列負(fù)性光刻膠，適用于lift-off工藝；具有高效粘附性，高反應(yīng)速度并耐高溫性能好。 NR71-PY 系列負(fù)性光刻膠，適用于lift-off工藝，耐高溫性能好

2010-04-21 10:57:46

Microchem SU-8光刻膠 2000系列

、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用 SU- 8 光刻膠來(lái)制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。SU 8光刻膠光刻前清洗工藝：為了獲得更好的光刻效果，在進(jìn)行光刻膠旋涂之前，需要

2018-07-04 14:42:34

《半導(dǎo)體制造工藝》學(xué)習(xí)筆記

`《半導(dǎo)體制造工藝》學(xué)習(xí)筆記`

2012-08-20 19:40:32

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》光刻前 GaAs 表面處理以改善濕化學(xué)蝕刻過(guò)程中的光刻膠附著力和改善濕蝕刻輪廓

還改變了濕蝕刻輪廓GaAs 與沒(méi)有表面處理的晶片相比，反應(yīng)限制蝕刻更具各向同性；簡(jiǎn)介 光刻膠的附著力對(duì)濕蝕刻的結(jié)果以及隨后的電氣和光學(xué)器件的產(chǎn)量起著關(guān)鍵作用。有許多因素會(huì)影響光刻膠對(duì)半導(dǎo)體襯底的粘附

2021-07-06 09:39:22

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》IC制造工藝

`書(shū)籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：IC制造工藝編號(hào)：JFSJ-21-046作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html摘要：集成電路的制造主要包括以下

2021-07-08 13:13:06

一文帶你了解芯片制造的6個(gè)關(guān)鍵步驟

。正性光刻膠在半導(dǎo)體制造中使用得最多，因其可以達(dá)到更高的分辨率，從而讓它成為光刻階段更好的選擇?，F(xiàn)在世界上有不少公司生產(chǎn)用于半導(dǎo)體制造的光刻膠。光刻光刻在芯片制造過(guò)程中至關(guān)重要，因?yàn)樗鼪Q定了芯片上的晶體管

2022-04-08 15:12:41

想了解半導(dǎo)體制造相關(guān)知識(shí)

{:1:}想了解半導(dǎo)體制造相關(guān)知識(shí)

2012-02-12 11:15:05

最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料，涵蓋晶圓工藝到后端封測(cè)

——薄膜制作(Layer)、圖形光刻(Pattern)、刻蝕和摻雜，再到測(cè)試封裝，一目了然。全書(shū)共分20章，根據(jù)應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的主要技術(shù)分類(lèi)來(lái)安排章節(jié)，包括與半導(dǎo)體制造相關(guān)的基礎(chǔ)技術(shù)信息；總體流程圖

2025-04-15 13:52:11

負(fù)光刻膠顯影殘留原因

151n光刻膠曝光顯影后開(kāi)口底部都會(huì)有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下

2023-04-20 13:13:52

#半導(dǎo)體制造工藝補(bǔ)充光刻膠靈敏度和調(diào)制傳遞函數(shù)

靈敏度制造工藝半導(dǎo)體制造光刻膠集成電路工藝

電子技術(shù)那些事兒發(fā)布于 2022-10-15 14:56:40

光刻膠與光刻工藝技術(shù)

光刻膠與光刻工藝技術(shù) 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來(lái)以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形的工藝是由光刻來(lái)完成的,也就是說(shuō),首先在硅片上旋轉(zhuǎn)涂覆光刻膠,再將其曝露于某種光源下,如紫外光,

2011-03-09 16:43:21

光刻膠是芯片制造的關(guān)鍵材料，圣泉集團(tuán)實(shí)現(xiàn)了

這是一種老式的旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)，將芯片上涂上光刻膠然后將芯片放到上邊，可以通過(guò)機(jī)器的旋轉(zhuǎn)的力度將光刻膠均勻分布到芯片表面，光刻膠只有均勻涂抹在芯片表面，才能保證光刻的成功。

2018-05-17 14:39:37

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半導(dǎo)體光刻膠:多家廠商實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代

在國(guó)家政策與市場(chǎng)的雙重驅(qū)動(dòng)下，近年來(lái)，國(guó)內(nèi)企業(yè)逐步向面板、半導(dǎo)體光刻膠發(fā)力……

2019-04-23 16:15:36

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美系光刻膠是否能解救韓系半導(dǎo)體廠的危機(jī)?

近日，日本對(duì)韓國(guó)進(jìn)行出口限制，光刻膠材料赫然在列。

2019-07-15 09:28:49

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日本已部分解除對(duì)韓國(guó)出口光刻膠的限制日韓制裁爭(zhēng)端或緩解

2019年7月初，日韓突然陷入制裁爭(zhēng)端，日本宣布限制對(duì)韓出口三種關(guān)鍵的半導(dǎo)體材料，分別是電視和手機(jī)OLED面板上使用的氟聚酰亞胺（Fluorine Polyimide）、半導(dǎo)體制造中的核心材料光刻膠（Photoresist）和高純度氟化氫（Eatching Gas）。

2019-12-24 10:23:32

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南大光電高黏附性的ArF光刻膠樹(shù)脂專(zhuān)利揭秘

在國(guó)際半導(dǎo)體領(lǐng)域，我國(guó)雖已成為半導(dǎo)體生產(chǎn)大國(guó)，但整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈仍比較落后。特別是由于國(guó)內(nèi)光刻膠廠布局較晚，半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)相較于海外先進(jìn)技術(shù)差距較大，國(guó)產(chǎn)化不足5%。在這種條件下，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體廠商積極開(kāi)展研究，如晶瑞股份的KrF光刻膠，南大光電的ArF光刻膠均取得較好的研究效果。

2020-03-06 15:40:56

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LCD光刻膠需求快速增長(zhǎng)，政策及國(guó)產(chǎn)化風(fēng)向帶動(dòng)國(guó)產(chǎn)廠商發(fā)展

光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類(lèi)，大致分為L(zhǎng)CD光刻膠、PCB光刻膠（感光油墨）與半導(dǎo)體光刻膠等。按照下游應(yīng)用來(lái)看，目前LCD光刻膠占比26．6%，刻膠占比24．5%，半導(dǎo)體光刻膠占比24．1%，PCB光其他類(lèi)光刻膠占比24．8%。

2020-06-12 17:13:39

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2020年光刻膠行業(yè)情況解析

全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模從2016 年的15 億美元增長(zhǎng)至2019年的18億美元，年復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)6.3%；應(yīng)用方面，光刻膠主要應(yīng)用在PCB、半導(dǎo)體及LCD顯示等領(lǐng)域，各占約25%市場(chǎng)份額。

2020-09-21 11:28:04

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斯坦得LDI感光干膜及半導(dǎo)體光刻膠項(xiàng)目總投資15億元

9月16日，安徽馬鞍山當(dāng)涂縣9月份項(xiàng)目集中簽約、集中開(kāi)工儀式在姑孰工業(yè)集中區(qū)舉行。本次集中簽約8個(gè)項(xiàng)目，其中包括斯坦得LDI感光干膜及半導(dǎo)體光刻膠項(xiàng)目。該項(xiàng)目總投資15億元，分2期建設(shè)。其中，一期

2020-09-24 11:12:05

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新材料在線：2020年光刻膠行業(yè)研究報(bào)告

2020-10-10 17:40:25

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博聞廣見(jiàn)之半導(dǎo)體行業(yè)中的光刻膠

、電子束、準(zhǔn)分子激光束、X射線、離子束等曝光源的照射或輻射，從而使光刻膠的溶解度發(fā)生變化。按照應(yīng)用領(lǐng)域分類(lèi)，光刻膠主要包括印制電路板（PCB）光刻膠專(zhuān)用化學(xué)品（光引發(fā)劑和樹(shù)脂）、液晶顯示器（LCD）光刻膠光引發(fā)劑、半導(dǎo)

2022-12-06 14:53:54

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半導(dǎo)體光刻膠基礎(chǔ)知識(shí)講解

此外，由于光刻加工分辨率直接關(guān)系到芯片特征尺寸大小，而光刻膠的性能關(guān)系到光刻分辨率的大小。限制光刻分辨率的是光的干涉和衍射效應(yīng)。光刻分辨率與曝光波長(zhǎng)、數(shù)值孔徑和工藝系數(shù)相關(guān)。

2020-10-15 15:09:18

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半導(dǎo)體集成電路制造的核心材料：光刻膠

首先，我們都知道要制作一顆芯片可以簡(jiǎn)單分為三個(gè)步驟：IC芯片設(shè)計(jì)芯片制造封裝測(cè)試。從最早誕生于電路設(shè)計(jì)師的腦袋中，到將大腦中的線路圖像設(shè)計(jì)出來(lái)，最后送到半導(dǎo)體車(chē)間經(jīng)由光刻機(jī)反復(fù)光刻，中間經(jīng)過(guò)數(shù)百道

2020-11-14 09:36:57

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為打破光刻膠壟斷，我國(guó)冰刻2.0技術(shù)獲突破

光刻膠是微納加工過(guò)程中非常關(guān)鍵的材料。有專(zhuān)家表示，中國(guó)要制造芯片，光有光刻機(jī)還不夠，還得打破國(guó)外對(duì)“光刻膠”的壟斷。

2020-12-08 10:53:56

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光刻膠的價(jià)值與介紹及市場(chǎng)格局對(duì)國(guó)產(chǎn)光刻膠的發(fā)展趨勢(shì)

近期，專(zhuān)注于電子材料市場(chǎng)研究的TECHCET發(fā)布最新統(tǒng)計(jì)和預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)：2021年，半導(dǎo)體制造所需的光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將同比增長(zhǎng)11％，達(dá)到19億美元。

2021-03-22 10:51:12

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光刻膠國(guó)產(chǎn)化的道路上有哪6道坎？

材料是半導(dǎo)體大廈的地基，不過(guò)，目前中國(guó)的這一地基對(duì)國(guó)外依存度還很高。 2019年，日韓發(fā)生沖突，日本封鎖了三種關(guān)鍵的半導(dǎo)體材料，分別是氟化氫、聚酰亞胺和光刻膠。這三種材料韓國(guó)，中國(guó)都可以制造，但

2021-05-11 13:46:38

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2021年，半導(dǎo)體制造所需的光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將同比增長(zhǎng)11％

按照應(yīng)用領(lǐng)域分類(lèi)，光刻膠主要包括印制電路板（PCB）光刻膠專(zhuān)用化學(xué)品（光引發(fā)劑和樹(shù)脂）、液晶顯示器（LCD）光刻膠光引發(fā)劑、半導(dǎo)體光刻膠光引發(fā)劑和其他用途光刻膠四大類(lèi)。本文主要討論半導(dǎo)體光刻膠。

2021-05-17 14:15:52

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光刻膠又遇“卡脖子”，國(guó)產(chǎn)替代刻不容緩

化學(xué)之所以停止供貨部分晶圓廠KrF光刻膠，與2月份日本福島東部海域發(fā)生7.3級(jí)地震有莫大關(guān)聯(lián)。地震導(dǎo)致信越化學(xué)KrF光刻膠產(chǎn)線受到很大程度的破壞，至今尚未完全恢復(fù)生產(chǎn)。 光刻膠是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵產(chǎn)品，重要性毋庸置疑，現(xiàn)在這么多半導(dǎo)

2021-06-25 16:12:28

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光刻膠板塊的大漲吸引了產(chǎn)業(yè)注意，國(guó)產(chǎn)光刻膠再遇發(fā)展良機(jī)？

5月27日，半導(dǎo)體光刻膠概念股開(kāi)盤(pán)即走強(qiáng)，截至收盤(pán)，A股光刻膠板塊漲幅達(dá)6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停，容大感光大漲13.28%，揚(yáng)帆新材大漲11.37%，南大光電

2021-05-28 10:34:15

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半導(dǎo)體技術(shù)新進(jìn)展，南大光電高端ArF光刻膠獲得突破

在半導(dǎo)體制造方面，國(guó)內(nèi)廠商需要突破的不只是光刻機(jī)等核心設(shè)備，光刻膠也是重要的一環(huán)。而南大光電研發(fā)的高端ArF光刻機(jī)，已經(jīng)獲得了國(guó)內(nèi)某企業(yè)的認(rèn)證，可用于55nm工藝制造。南大光電發(fā)布公告稱(chēng)，控股

2021-06-26 16:32:37

3071

默克推出用于芯片制造的新一代環(huán)保光刻膠去除劑

德國(guó)達(dá)姆施塔特, 2021年7月 28日 –- 全球領(lǐng)先的科技公司默克日前宣布推出新一代環(huán)保精密清洗溶劑產(chǎn)品 ?--?AZ??910?去除劑。該系列產(chǎn)品用于半導(dǎo)體芯片制造圖形化工藝中清除光刻膠

2021-07-28 14:23:10

3911

光刻膠和光刻機(jī)的關(guān)系

光刻膠是光刻機(jī)研發(fā)的重要材料，換句話(huà)說(shuō)光刻機(jī)就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕跡，就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。

2022-02-05 16:11:00

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晶片光刻膠處理系統(tǒng)的詳細(xì)介紹

摘要在這項(xiàng)工作中，研究了新一代相流體剝離溶液在各種半導(dǎo)體光刻膠中的應(yīng)用。這些實(shí)驗(yàn)中使用的獨(dú)特的水基智能流體配方均為超大規(guī)模集成電路級(jí)，與銅兼容且無(wú)毒。實(shí)驗(yàn)的第一階段是確定是否在合理的時(shí)間內(nèi)與光刻膠

2022-03-03 14:20:05

888

一種半導(dǎo)體制造用光刻膠去除方法

本發(fā)明涉及一種去除光刻膠的方法，更詳細(xì)地說(shuō)，是一種半導(dǎo)體制造用光刻膠去除方法，該方法適合于在半導(dǎo)體裝置的制造過(guò)程中進(jìn)行吹掃以去除光刻膠。在半導(dǎo)體裝置的制造工藝中，將殘留在晶片上的光刻膠，在H2O

2022-04-13 13:56:42

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干法刻蝕去除光刻膠的技術(shù)

灰化，簡(jiǎn)單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉，光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物，在射頻或微波作用下，氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通過(guò)泵被真空抽走，完成光刻膠的去除。

2022-07-21 11:20:17

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光刻膠為何要謀求國(guó)產(chǎn)替代

南大光電最新消息顯示，國(guó)產(chǎn)193nm（ArF）光刻膠研發(fā)成功，這家公司成為通過(guò)國(guó)家“02專(zhuān)項(xiàng)”驗(yàn)收的ArF光刻膠項(xiàng)目實(shí)施主體；徐州博康宣布，該公司已開(kāi)發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產(chǎn)品系列，包括

2022-08-31 09:47:14

2371

光刻膠的原理和正負(fù)光刻膠的主要組分是什么

光刻膠的組成：樹(shù)脂（resin/polymer），光刻膠中不同材料的粘合劑，給與光刻膠的機(jī)械與化學(xué)性質(zhì)（如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等）；感光劑，感光劑對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)；溶劑（Solvent

2022-10-21 16:40:04

23795

國(guó)產(chǎn)光刻膠市場(chǎng)前景國(guó)內(nèi)廠商迎來(lái)發(fā)展良機(jī)

半導(dǎo)體光刻膠用光敏材料仍屬于“卡脖子”產(chǎn)品，海外進(jìn)口依賴(lài)較重，不同品質(zhì)之間價(jià) 格差異大。以國(guó)內(nèi) PAG 對(duì)應(yīng)的化學(xué)放大型光刻膠（主要是 KrF、ArF 光刻膠）來(lái)看，樹(shù)脂在 光刻膠中的固含量占比約

2022-11-18 10:07:43

4880

半導(dǎo)體光刻膠重要性凸出，國(guó)產(chǎn)替代加速推進(jìn)

光刻膠是IC制造的核心耗材，技術(shù)壁壘極高。根據(jù)TECHCET數(shù)據(jù)，預(yù)計(jì)2022年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到23億美元，同比增長(zhǎng)7.5%，2025年超過(guò)25億美元。

2023-03-21 14:00:49

3248

一文講透光刻膠及芯片制造關(guān)鍵技術(shù)

在集成電路制造領(lǐng)域，如果說(shuō)光刻機(jī)是推動(dòng)制程技術(shù)進(jìn)步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。

2023-05-13 11:28:38

3489

化學(xué)放大型光刻膠的作用原理

感光速度:即光刻膠受光照射發(fā)生溶解速度改變所需的最小能量，感光速度越快，單位時(shí)間內(nèi)芯片制造的產(chǎn)出越高，經(jīng)濟(jì)效益越好，另-方面，過(guò)快的感光速度會(huì)對(duì)引起工藝寬容度的減小，影響工藝制程的穩(wěn)定性。

2023-05-25 09:46:09

1705

半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解

半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解

2023-08-24 10:38:54

3038

EUV光刻膠開(kāi)發(fā)面臨哪些挑戰(zhàn)？

EUV光刻膠材料是光敏物質(zhì)，當(dāng)受到EUV光子照射時(shí)會(huì)發(fā)生化學(xué)變化。這些材料在解決半導(dǎo)體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用，包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度（LER）、降低釋氣和提高熱穩(wěn)定性。

2023-09-11 11:58:42

1622

具有獨(dú)特底部輪廓的剝離光刻膠的開(kāi)發(fā)

金屬圖案的剝離方法已廣泛應(yīng)用于各種電子器件的制造過(guò)程中，如半導(dǎo)體封裝、MEMS和LED的制造。與傳統(tǒng)的金屬刻蝕方法不同的是，采用剝離法的優(yōu)點(diǎn)是節(jié)省成本和工藝簡(jiǎn)化。在剝離過(guò)程中，經(jīng)過(guò)涂層、曝光和開(kāi)發(fā)過(guò)程后，光刻膠會(huì)在晶片上形成圖案。

2023-10-25 10:40:05

946

半導(dǎo)體關(guān)鍵材料光刻膠市場(chǎng)格局發(fā)展現(xiàn)狀

生產(chǎn)光刻膠的原料包括光引發(fā)劑（光增感劑、光致產(chǎn)酸劑幫助其更好發(fā)揮作用）、樹(shù)脂、溶劑和其他添加劑等，我國(guó)由于資金和技術(shù)的差距，如感光劑、樹(shù)脂等被外企壟斷，所以光刻膠自給能力不足。

2023-11-01 15:51:48

1331

光刻膠黏度如何測(cè)量？光刻膠需要稀釋嗎？

光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類(lèi)的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項(xiàng)重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？

2023-11-13 18:14:11

2940

不僅需要*，更需要光刻膠**

為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠，需要高純度的配方原料，例如光刻樹(shù)脂，溶劑PGMEA…此外，生產(chǎn)過(guò)程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測(cè)也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)。例如，2019年，某家半導(dǎo)體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染，導(dǎo)致上萬(wàn)片12吋晶圓報(bào)廢

2023-11-27 17:15:48

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萬(wàn)潤(rùn)股份在半導(dǎo)體制造材料領(lǐng)域穩(wěn)步推進(jìn)，涉足光刻膠單體、PI等業(yè)務(wù)

近期，萬(wàn)潤(rùn)股份在接受機(jī)構(gòu)調(diào)研時(shí)透露，其“年產(chǎn)65噸半導(dǎo)體用光刻膠樹(shù)脂系列”項(xiàng)目已經(jīng)順利投入運(yùn)營(yíng)。該項(xiàng)目旨在為客戶(hù)提供專(zhuān)業(yè)的半導(dǎo)體用光刻膠樹(shù)脂類(lèi)材料。

2023-12-12 14:02:58

2311

光刻膠價(jià)格上漲，韓國(guó)半導(dǎo)體公司壓力增大

光刻膠類(lèi)別的多樣化，此次漲價(jià)案所涉KrF光刻膠屬于高階防護(hù)用品，也是未來(lái)各地廠家的競(jìng)爭(zhēng)焦點(diǎn)。當(dāng)前市場(chǎng)中，光刻膠主要由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學(xué)、住友化學(xué)及東進(jìn)半導(dǎo)體等大型制造商掌控。

2023-12-14 15:20:36

2439

勻膠速度影響光刻膠的哪些性質(zhì)？

勻膠是光刻中比較重要的一步，而旋涂速度是勻膠中至關(guān)重要的參數(shù)，那么我們?cè)趧?b class="flag-6" style="color: red">膠時(shí)，是如何確定勻膠速度呢？它影響光刻膠的哪些性質(zhì)？

2023-12-15 09:35:56

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光刻膠分類(lèi)與市場(chǎng)結(jié)構(gòu)

光刻膠主要下游應(yīng)用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用，占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%，是第三達(dá)應(yīng)用場(chǎng)景。

2024-01-03 18:12:21

2813

2023年中國(guó)光刻膠行業(yè)市場(chǎng)前景及投資研究報(bào)告

光刻膠又稱(chēng)光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，是半導(dǎo)體制造中使用的核心電子材料之一。伴隨著晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升，中國(guó)有望承接半導(dǎo)體

2024-01-19 08:31:24

1602

瑞紅集成電路高端光刻膠總部落戶(hù)吳中

據(jù)吳中發(fā)布的最新消息，簽約項(xiàng)目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項(xiàng)目，該項(xiàng)投資高達(dá)15億元，旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。

2024-01-26 09:18:43

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光刻膠和光刻機(jī)的區(qū)別

光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。

2024-03-04 17:19:18

9618

關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

與正光刻膠相比，電子束負(fù)光刻膠會(huì)形成相反的圖案?；诰酆衔锏呢?fù)型光刻膠會(huì)在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過(guò)程中溶解，而曝光的光刻膠則保留下來(lái)，從而形成負(fù)像。

2024-03-20 11:36:50

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一文讀懂半導(dǎo)體工藝制程的光刻膠

光刻膠按照種類(lèi)可以分為正性的、負(fù)性的。正膠受到紫外光照射的部分在顯影時(shí)被去除，負(fù)膠受到紫外光曝光的地方在顯影后被留下。

2024-04-24 11:37:05

6635

光刻膠的保存和老化失效

我們?cè)谑褂?b class="flag-6" style="color: red">光刻膠的時(shí)候往往關(guān)注的重點(diǎn)是光刻膠的性能，但是有時(shí)候我們會(huì)忽略光刻膠的保存和壽命問(wèn)題，其實(shí)這個(gè)問(wèn)題應(yīng)該在我們購(gòu)買(mǎi)光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且，在光刻過(guò)程中如果發(fā)現(xiàn)有異常情況發(fā)生，我們

2024-07-08 14:57:08

3146

光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝

圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見(jiàn)的一種紫外光刻膠，它既可以當(dāng)正膠使用又可以作為負(fù)膠使用。相比而言，負(fù)膠工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)膠工藝。應(yīng)用領(lǐng)域 在反轉(zhuǎn)工藝下，通過(guò)適當(dāng)?shù)墓に噮?shù)，可以獲得底切的側(cè)壁

2024-07-09 16:06:00

1988

光刻膠后烘技術(shù)

一般光刻過(guò)程文章中簡(jiǎn)單介紹過(guò)后烘工藝但是比較簡(jiǎn)單，本文就以下一些應(yīng)用場(chǎng)景下介紹后烘的過(guò)程和作用。化學(xué)放大正膠機(jī)理當(dāng)使用“正常”正膠時(shí)，曝光完成后光反應(yīng)也就完成了，但是化學(xué)放大的光刻膠需要隨后的烘烤步驟。光反應(yīng)在曝光期間開(kāi)始并在后烘環(huán)節(jié)中完

2024-07-09 16:08:43

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光刻膠的一般特性介紹

評(píng)價(jià)一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能，這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度靈敏度（sensitivity）是衡量曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高，所需的曝光劑量

2024-07-10 13:43:49

2388

光刻膠的硬烘烤技術(shù)

根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝，我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽?duì)已顯影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來(lái)實(shí)現(xiàn)整個(gè)光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián)，稱(chēng)為硬烘烤或者堅(jiān)膜。或通過(guò)低劑量紫外線輻照

2024-07-10 13:46:59

2702

導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些？

存儲(chǔ)時(shí)間正膠和圖形反轉(zhuǎn)膠在存儲(chǔ)數(shù)月后會(huì)變暗，而且隨著儲(chǔ)存溫度升高而加速。因?yàn)樵擃?lèi)型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料，在可見(jiàn)光譜的部分具有很強(qiáng)的吸收能力，對(duì)紫外靈敏度沒(méi)有任何影響。這種變色過(guò)程

2024-07-11 16:07:49

1791

如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠？

控SU-8光刻膠烘烤：軟烘、后曝光烘烤和硬烘在整個(gè)SU-8模具制備的過(guò)程中，微流控SU-8光刻膠需要烘烤2或3次，每一次烘烤都有不同的作用。第一次光刻膠烘烤叫做軟烘，是SU-8光刻膠旋涂之后需要完成的操作。目標(biāo)是蒸發(fā)溶劑，使SU-8光刻膠更加堅(jiān)固。溶劑蒸發(fā)會(huì)稍微的改變光

2024-08-27 15:54:01

1241

掩膜版與光刻膠的功能和作用

掩膜版與光刻膠在芯片制造過(guò)程中扮演著不可或缺的角色，它們的功能和作用各有側(cè)重，但共同促進(jìn)了芯片的精確制造。? 掩膜版?，也稱(chēng)為光罩、光掩膜或光刻掩膜版，是微電子制造過(guò)程中的圖形轉(zhuǎn)移母版。它的主要功能

2024-09-06 14:09:47

2516

一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見(jiàn)光刻膠

共讀好書(shū)關(guān)于常用光刻膠型號(hào)也可以查看這篇文章：收藏！常用光刻膠型號(hào)資料大全，幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識(shí)星球，領(lǐng)取公眾號(hào)資料

2024-11-01 11:08:07

3091

國(guó)產(chǎn)光刻膠通過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證

來(lái)源：太紫微公司近日，光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專(zhuān)用光刻膠領(lǐng)域實(shí)現(xiàn)重大突破：武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“太紫微公司”）推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品，已通過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證，實(shí)現(xiàn)配方全自主

2024-10-17 13:22:44

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光刻膠的使用過(guò)程與原理

本文介紹了光刻膠的使用過(guò)程與原理。

2024-10-31 15:59:45

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一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán)，而光刻膠，又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展，對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng)，光刻膠的需求也水漲船高，在微電子制造和納米技術(shù)等高精尖領(lǐng)域占據(jù)著至關(guān)重要的位置。

2024-11-11 10:08:21

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三星減少NAND生產(chǎn)光刻膠使用量

的使用量降低至目前的一半。這一技術(shù)革新不僅將顯著降低生產(chǎn)成本，還將有助于提升生產(chǎn)效率，為三星在全球NAND閃存市場(chǎng)的競(jìng)爭(zhēng)中增添更多優(yōu)勢(shì)。 光刻膠是半導(dǎo)體制造過(guò)程中不可或缺的關(guān)鍵材料之一，其質(zhì)量和性能直接影響到芯片的生產(chǎn)質(zhì)量和良

2024-11-27 11:00:24

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光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料，在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。它主要由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中，感光樹(shù)脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能，增感劑有助于提高

2024-12-19 13:57:36

2091

晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究

隨著半導(dǎo)體器件的應(yīng)用范圍越來(lái)越廣，晶圓制造技術(shù)也得到了快速發(fā)展。其中，光刻技術(shù)在晶圓制造過(guò)程中的地位尤為重要。光刻膠是光刻工藝中必不可少的材料，其質(zhì)量直接影響到晶圓生產(chǎn)的效率和質(zhì)量。本文將圍繞著晶圓

2025-01-03 16:22:06

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半導(dǎo)體材料介紹 | 光刻膠及生產(chǎn)工藝重點(diǎn)企業(yè)

體。在光刻工藝過(guò)程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時(shí)，若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類(lèi)有正性、負(fù)性?xún)纱箢?lèi)

2025-03-18 13:59:53

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光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料，其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí)，精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)量意義重大，白光干涉儀為此提供了有力的技術(shù)保障

2025-05-29 09:38:53

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減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié)，但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí)，光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法，并介紹白光

2025-06-14 09:42:56

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金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對(duì)金屬層產(chǎn)生過(guò)度刻蝕，影響器件性能。同時(shí)，光刻圖形的精確測(cè)量也是確保制造質(zhì)量的關(guān)鍵。本文聚焦金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用，并

2025-06-16 09:31:51

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低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮（NMF）雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色，但因其高含量使用帶來(lái)的成本、環(huán)保等問(wèn)題備受關(guān)注。同時(shí)，光刻圖形的精準(zhǔn)

2025-06-17 10:01:01

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金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言在半導(dǎo)體及微納制造領(lǐng)域，光刻膠剝離工藝對(duì)金屬結(jié)構(gòu)的保護(hù)至關(guān)重要。傳統(tǒng)剝離液易造成金屬過(guò)度蝕刻，影響器件性能。同時(shí)，光刻圖形的精確測(cè)量是保障工藝質(zhì)量的關(guān)鍵。本文將介紹金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合

2025-06-24 10:58:22

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行業(yè)案例|膜厚儀應(yīng)用測(cè)量之光刻膠厚度測(cè)量

光刻膠，又稱(chēng)光致抗蝕劑，是一種關(guān)鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下，溶解度會(huì)發(fā)生變化，主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細(xì)微圖形加工作業(yè)。由于

2025-07-11 15:53:24

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從光固化到半導(dǎo)體材料：久日新材的光刻膠國(guó)產(chǎn)替代之路

當(dāng)您尋找可靠的國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體材料供應(yīng)商時(shí)，一家在光刻膠領(lǐng)域實(shí)現(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈突破的企業(yè)正脫穎而出——久日新材（688199.SH）。這家光引發(fā)劑巨頭，正以令人矚目的速度在半導(dǎo)體核心材料國(guó)產(chǎn)化浪潮中嶄露頭角

2025-08-12 16:45:38

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光刻膠旋涂的重要性及厚度監(jiān)測(cè)方法

在芯片制造領(lǐng)域的光刻工藝中，光刻膠旋涂是不可或缺的基石環(huán)節(jié)，而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優(yōu)可測(cè)薄膜厚度測(cè)量?jī)xAF系列憑借高精度、高速度的特點(diǎn)，為光刻膠厚度監(jiān)測(cè)提供了可靠解決方案。

2025-08-22 17:52:46

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光刻膠剝離工藝

光刻膠剝離工藝是半導(dǎo)體制造和微納加工中的關(guān)鍵步驟，其核心目標(biāo)是高效、精準(zhǔn)地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結(jié)構(gòu)。以下是該工藝的主要類(lèi)型及實(shí)施要點(diǎn)：濕法剝離技術(shù)有機(jī)溶劑溶解法原理：使用丙酮、NMP

2025-09-17 11:01:27

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半導(dǎo)體制造領(lǐng)域光刻膠的作用和意義

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