存儲芯片廠商SK海力士宣布，其公司位于韓國首爾南部利川市的M16新廠已經竣工，SK海力士將首次使用極紫外輻射（EUV）光刻機在生產存儲芯片。SK海力士經過兩年的時間，花費了3.5萬億韓元（約合31億美元）建成了這座芯片工廠，工廠長336米，寬163米，高105米，相當于一座37層公寓的高度，是SK海力士目前最大的芯片工廠。

SK集團董事長崔泰源在頒獎典禮上稱，建造新工廠的決定在兩年前是十分大膽的，因為當時整個半導體存儲芯片市場正處于低迷，如今看來這個決定十分明智。

SK海力士稱已在新廠M16引進了EUV光刻機，從而提高芯片電路的精細程度。

目前SK海力士計劃從今年6月開始使用EUV光刻機量產第四代10nm（1α）DRAM芯片。

據SK海力士CEO李錫熙介紹，M16是比較先進的芯片制造工廠，集中了符合ESG（環(huán)境、社會和治理）理念的先進設施，例如專門用于EUV設備的車間和最新的污染減排設施。

他還稱，M16的竣工也代表著其公司于2015年宣布的“未來愿景”的早期實現(xiàn)。當時，SK海力士宣布將從2014年起在10年內建造三座新工廠，M14和M15分別于2015年和2018年竣工，M16是其“未來愿景”中最后一間工廠。

結語：SK海力士正式使用EUV技術，三大存儲廠商只剩美光未使用

本次SK海力士的工廠竣工將正好趕上服務器擴充，全球芯片短缺這一節(jié)點。該公司預計今年DRAM需求將增長約17%至 20%，此外今年服務器產品的需求也可能增長30%以上。SK海力士的工廠竣工趕在了最合適的節(jié)點上，這離不開其公司對整體行業(yè)的精準判斷。

同時在SK海力士使用EUV技術后，三大芯片存儲廠商就只剩下美光還未引入EUV光刻機。短期內美光采用1α工藝的DRAM成本可能會低于另外兩家，但是長期來看可能將缺少三星、SK海力士大規(guī)模采用EUV技術生產DRAM的經驗，這可能會使其在市場競爭中處于下風。

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